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特許6239311発光素子

書誌要約請求の範囲詳細な説明課題実施例実施するための形態図面の説明

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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6239311

(24)【登録日】2017年11月10日

(45)【発行日】2017年11月29日

(54)【発明の名称】発光素子

(51)【国際特許分類】

H01L 33/38 20100101AFI20171120BHJP

H01L 33/14 20100101ALI20171120BHJP

H01L 33/48 20100101ALI20171120BHJP

【ＦＩ】

H01L33/38

H01L33/14

H01L33/48

【請求項の数】15

【全頁数】41

(21)【出願番号】特願2013-169421(P2013-169421)

(22)【出願日】2013年8月19日

(65)【公開番号】特開2014-39039(P2014-39039A)

(43)【公開日】2014年2月27日

【審査請求日】2016年8月18日

(31)【優先権主張番号】10-2012-0090679

(32)【優先日】2012年8月20日

(33)【優先権主張国】KR

(31)【優先権主張番号】10-2012-0096911

(32)【優先日】2012年9月3日

(33)【優先権主張国】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】513276101

【氏名又は名称】エルジーイノテックカンパニーリミテッド

(74)【代理人】

【識別番号】100146318

【弁理士】

【氏名又は名称】岩瀬吉和

(74)【代理人】

【識別番号】100114188

【弁理士】

【氏名又は名称】小野誠

(74)【代理人】

【識別番号】100119253

【弁理士】

【氏名又は名称】金山賢教

(74)【代理人】

【識別番号】100129713

【弁理士】

【氏名又は名称】重森一輝

(74)【代理人】

【識別番号】100143823

【弁理士】

【氏名又は名称】市川英彦

(72)【発明者】

【氏名】ジョン・ファニ

(72)【発明者】

【氏名】キム・ソジュン

(72)【発明者】

【氏名】キム・ヒョンジュ

【審査官】吉岡一也

(56)【参考文献】

【文献】特開２０１１−０５４９６７（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０−１０３４６９（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１−１６６１５０（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０−０２１５４６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１２−０８９８４６（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１１−１７６１４５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０−０５６１９５（ＪＰ，Ａ）

【文献】特開２０１０−０８７５１５（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｌ３３／００−３３／６４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１導電型半導体層、前記第１導電型半導体層の下にある活性層、前記活性層の下にある第２導電型半導体層を含む発光構造物と、
前記第１導電型半導体層に電気的に連結され、一部領域が前記第１導電型半導体層の上面に配置された第１電極と、
前記第２導電型半導体層に電気的に連結された第２電極と、
前記発光構造物の下部の周りに配置されたチャンネル層と、
前記第２電極の下に配置された伝導性支持部材と、
前記第２電極と前記伝導性支持部材との間に配置され、前記第２電極を前記伝導性支持部材から電気的に絶縁させる絶縁層と、
前記第１電極及び前記伝導性支持部材に電気的に連結された第１連結部と、
前記第２電極に電気的に連結され、前記第２電極の上に配置された第２連結部と、
を含み、
前記チャンネル層の上面は、前記活性層の上面より高く配置され、
前記チャンネル層の一部分は、前記第２導電型半導体層と前記第２電極との間に配置され、
前記第２連結部は、前記チャンネル層を通過して前記第２電極に接触し、
前記チャンネル層の上面は、前記第１導電型半導体層の上面より低く配置され、
前記第１連結部は、前記絶縁層を貫通し、
前記チャンネル層は、前記活性層及び前記第２導電型半導体層を取囲み、
前記絶縁層は、前記チャンネル層及び前記第２電極を取囲み、
前記チャンネル層は、前記第１連結部と前記第２導電型半導体層を絶縁させることを特徴とする、発光素子。

【請求項2】

前記第２連結部の一端は、前記チャンネル層の上面から上部方向に突出して露出したことを特徴とする、請求項１に記載の発光素子。

【請求項3】

前記第２連結部の一端は前記発光構造物の側壁と離隔して配置され、前記発光構造物の側面に露出し、
前記伝導性支持部材の幅が、前記発光構造物の幅より広いことを特徴とする、請求項１または２に記載の発光素子。

【請求項4】

前記第１連結部は前記第１導電型半導体層の側面に接触したことを特徴とする、請求項１乃至３のうち、いずれか１項に記載の発光素子。

【請求項5】

前記発光構造物の一側面は前記伝導性支持部材の一側面から２０マイクロメートル以内に整列して配置されたことを特徴とする、請求項１乃至４のうち、いずれか１項に記載の発光素子。

【請求項6】

前記第２電極は前記第２導電型半導体層の下に配置された金属層を含み、前記第２連結部は前記金属層に電気的に連結されたことを特徴とする、請求項１乃至５のうち、いずれか１項に記載の発光素子。

【請求項7】

前記絶縁層の底面は、前記金属層と前記伝導性支持部材との間に配置されたことを特徴とする、請求項６に記載の発光素子。

【請求項8】

前記絶縁層の上面は前記発光構造物の下部の周りに露出したことを特徴とする、請求項１乃至７のうち、いずれか１項に記載の発光素子。

【請求項9】

前記第２電極の下に配置された拡散障壁層、ボンディング層を含むことを特徴とする、請求項１乃至８のうち、いずれか１項に記載の発光素子。

【請求項10】

前記チャンネル層は酸化物または窒化物を含むことを特徴とする、請求項１乃至９のうち、いずれか１項に記載の発光素子。

【請求項11】

前記絶縁層は前記金属層の周りを囲むように配置されたことを特徴とする、請求項６または７に記載の発光素子。

【請求項12】

前記チャンネル層の側面は、前記活性層の側面に接触し、前記活性層の前記側面を取囲むことを特徴とする、請求項１乃至１１のうち、いずれか１項に記載の発光素子。

【請求項13】

前記チャンネル層の側面は、前記第２導電型半導体層の側面に接触し、前記第２導電型半導体層の前記側面を取囲むことを特徴とする、請求項１乃至１１のうち、いずれか１項に記載の発光素子。

【請求項14】

前記チャンネル層の上面と前記絶縁層の上面が同一水平面に配置されたことを特徴とする、請求項１乃至１３のうち、いずれか１項に記載の発光素子。

【請求項15】

前記第２連結部は、前記チャンネル層の第１領域を貫通し、
前記チャンネル層の前記第１領域は、前記第２電極の最上面の上に配置され、
前記第１連結部は、前記絶縁層の第１領域を貫通し、
前記絶縁層の前記第１領域は、前記活性層と水平方向に重なるように配置され、前記発光構造物と垂直方向に重ならないように配置されたことを特徴とする、請求項１乃至１４のうち、いずれか１項に記載の発光素子。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、発光素子、発光素子パッケージ、及びライトユニットに関するものである。

【背景技術】

【0002】

発光素子の１つとして発光ダイオード（ＬＥＤ：Light Emitting Diode）が多く使われている。発光ダイオードは化合物半導体の特性を用いて電気信号を赤外線、可視光線、紫外線のような光の形態に変換する。

【0003】

発光素子の光効率が増加するにつれて、表示装置、照明機器を始めとする多様な分野に発光素子が適用されている（特許文献１）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】米国特許出願公開第２０１１／００４９５３７号明細書

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明の目的は、電流集中を防止し、光抽出を向上させ、電気的信頼性を向上させることができる発光素子、発光素子パッケージ、及びライトユニットを提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の一態様に従う発光素子は、第１導電型半導体層、前記第１導電型半導体層の下にある活性層、前記活性層の下にある第２導電型半導体層を含む発光構造物、前記第１導電型半導体層に電気的に連結された第１電極、前記第２導電型半導体層に電気的に連結された第２電極、前記発光構造物の下部の周りに配置されたチャンネル層、前記第２電極の下に配置された伝導性支持部材、前記第１電極及び前記伝導性支持部材に電気的に連結された第１連結部、及び前記第２電極に電気的に連結された第２連結部を含む。

【発明の効果】

【0007】

本発明の様々な実施形態に従う発光素子、発光素子パッケージ、及びライトユニットは、電流集中を防止し、光抽出を向上させ、電気的信頼性を向上させることができる長所がある。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】本発明の実施形態に従う発光素子を示す図である。

【図2】本発明の実施形態に従う発光素子製造方法を示す図である。

【図3】本発明の実施形態に従う発光素子製造方法を示す図である。

【図4】本発明の実施形態に従う発光素子製造方法を示す図である。

【図5】本発明の実施形態に従う発光素子製造方法を示す図である。

【図6】本発明の実施形態に従う発光素子製造方法を示す図である。

【図7】本発明の実施形態に従う発光素子の変形例を示す図である。

【図8】本発明の実施形態に従う発光素子の変形例を示す図である。

【図9】本発明の実施形態に従う発光素子の変形例を示す図である。

【図10】本発明の実施形態に従う発光素子の変形例を示す図である。

【図11】本発明の実施形態に従う発光素子の変形例を示す図である。

【図12】本発明の実施形態に従う発光素子の他の例を示す図である。

【図13】本発明の実施形態に従う発光素子の第２連結部の例を示す図である。

【図14】本発明の実施形態に従う発光素子製造方法を示す図である。

【図15】本発明の実施形態に従う発光素子製造方法を示す図である。

【図16】本発明の実施形態に従う発光素子製造方法を示す図である。

【図17】本発明の実施形態に従う発光素子製造方法を示す図である。

【図18】本発明の実施形態に従う発光素子製造方法を示す図である。

【図19】本発明の実施形態に従う発光素子の変形例を示す図である。

【図20】本発明の実施形態に従う発光素子の変形例を示す図である。

【図21】本発明の実施形態に従う発光素子の変形例を示す図である。

【図22】本発明の実施形態に従う発光素子パッケージを示す図である。

【図23】本発明の実施形態に従う表示装置を示す図である。

【図24】本発明の実施形態に従う表示装置の他の例を示す図である。

【図25】本発明の実施形態に従う照明装置を示す図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

本発明を説明するに当たって、各層（膜）、領域、パターン、または構造物が、基板、各層（膜）、領域、パッド、またはパターンの“上（on）”に、または“下（under）”に形成されることと記載される場合において、“上（on）”と“下（under）”は、“直接（directly）”または“他の層を介して（indirectly）”形成されるものを全て含む。また、各層の上または下に対する基準は、図面を基準として説明する。

【0010】

図面において、各層の厚さやサイズは説明の便宜及び明確性のために誇張、省略、または略的に図示できる。また、各構成要素のサイズは必ずしも実際のサイズを忠実に反映するものではない。

【0011】

以下、添付した図面を参照して実施形態に従う発光素子、発光素子パッケージ、ライトユニット、及び発光素子製造方法について詳細に説明する。

【0012】

図１は、本発明の実施形態に従う発光素子を示す図である。

【0013】

実施形態に従う発光素子は、図１に示すように、発光構造物１０、伝導性支持部材７０、第１電極８０、及び第２電極８７を含むことができる。

【0014】

前記発光構造物１０は、第１導電型半導体層１１、活性層１２、及び第２導電型半導体層１３を含むことができる。前記活性層１２は、前記第１導電型半導体層１１と前記第２導電型半導体層１３との間に配置できる。前記活性層１２は前記第１導電型半導体層１１の下に配置されることができ、前記第２導電型半導体層１３は前記活性層１２の下に配置できる。

【0015】

例として、前記第１導電型半導体層１１が第１導電型ドーパントとしてｎ型ドーパントが添加されたｎ型半導体層で形成され、前記第２導電型半導体層１３が第２導電型ドーパントとしてｐ型ドーパントが添加されたｐ型半導体層で形成できる。また、前記第１導電型半導体層１１がｐ型半導体層で形成され、前記第２導電型半導体層１３がｎ型半導体層で形成されることもできる。

【0016】

前記第１導電型半導体層１１は、例えば、ｎ型半導体層を含むことができる。前記第１導電型半導体層１１は化合物半導体で具現できる。前記第１導電型半導体層１１は、例としてII族−VI族化合物半導体、またはIII族−V族化合物半導体で具現できる。

【0017】

例えば、前記第１導電型半導体層１１は、Ｉｎ_ｘＡｌ_ｙＧａ_{１−ｘ−ｙ}Ｎ（０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１、０≦ｘ＋ｙ≦１）の組成式を有する半導体材料で具現できる。前記第１導電型半導体層１１は、例えばＧａＮ、ＡｌＮ、ＡｌＧａＮ、ＩｎＧａＮ、ＩｎＮ、ＩｎＡｌＧａＮ、ＡｌＩｎＮ、ＡｌＧａＡｓ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＡｓＰ、ＡｌＧａＩｎＰなどから選択されることができ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｔｅなどのｎ型ドーパントがドーピングできる。

【0018】

前記活性層１２は、前記第１導電型半導体層１１を通じて注入される電子（または、正孔）と前記第２導電型半導体層１３を通じて注入される正孔（または、電子）とが出会って、前記活性層１２の形成物質に従うエネルギーバンド（Energy Band）のバンドギャップ（Band Gap）の差によって光を放出する層である。前記活性層１２は、単一井戸構造、多重井戸構造、量子点構造、または量子線構造のうち、いずれか１つで形成できるが、これに限定されるものではない。

【0019】

前記活性層１２は、化合物半導体で具現できる。前記活性層１２は、例としてII族−VI族またはIII族−V族化合物半導体で具現できる。前記活性層１２は、例としてＩｎ_ｘＡｌ_ｙＧａ_{１−ｘ−ｙ}Ｎ（０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１、０≦ｘ＋ｙ≦１）の組成式を有する半導体材料で具現できる。前記活性層１２が前記多重井戸構造で具現された場合、前記活性層１２は複数の井戸層と複数の障壁層が積層されて具現されることができ、例えば、ＩｎＧａＮ井戸層／ＧａＮ障壁層の周期で具現できる。

【0020】

前記第２導電型半導体層１３は、例えば、ｐ型半導体層で具現できる。前記第２導電型半導体層１３は化合物半導体で具現できる。前記第２導電型半導体層１３は、例としてII族−VI族化合物半導体、またはIII族−V族化合物半導体で具現できる。

【0021】

例えば、前記第２導電型半導体層１３は、Ｉｎ_ｘＡｌ_ｙＧａ_{１−ｘ−ｙ}Ｎ（０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１、０≦ｘ＋ｙ≦１）の組成式を有する半導体材料で具現できる。前記第２導電型半導体層１３は、例えばＧａＮ、ＡｌＮ、ＡｌＧａＮ、ＩｎＧａＮ、ＩｎＮ、ＩｎＡｌＧａＮ、ＡｌＩｎＮ、ＡｌＧａＡｓ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＡｓＰ、ＡｌＧａＩｎＰなどから選択されることができ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａなどのｐ型ドーパントがドーピングできる。

【0022】

一方、前記第１導電型半導体層１１がｐ型半導体層を含み、前記第２導電型半導体層１３がｎ型半導体層を含むこともできる。また、前記第２導電型半導体層１３の下にはｎ型またはｐ型半導体層を含む半導体層がさらに形成できる。これによって、前記発光構造物１０は、ｎｐ、ｐｎ、ｎｐｎ、ｐｎｐ接合構造のうち、少なくともいずれか１つを有することができる。また、前記第１導電型半導体層１１及び前記第２導電型半導体層１３の内の不純物のドーピング濃度は均一または不均一に形成できる。即ち、前記発光構造物１０の構造は多様に形成されることができ、これに対して限定するものではない。

【0023】

また、前記第１導電型半導体層１１と前記活性層１２との間には第１導電型ＩｎＧａＮ／ＧａＮスーパーラティス構造またはＩｎＧａＮ／ＩｎＧａＮスーパーラティス構造が形成できる。また、前記第２導電型半導体層１３と前記活性層１２との間には第２導電型のＡｌＧａＮ層が形成されることもできる。

【0024】

実施形態に従う発光素子は、前記発光構造物１０の下部の周りに配置されたチャンネル層３０を含むことができる。例えば、前記チャンネル層３０の上部面は前記活性層１２の上部面に比べてより高く配置できる。前記チャンネル層３０は、前記活性層１２の周りを囲むように配置できる。前記チャンネル層３０は前記第２導電型半導体層１３の周りを囲むように配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３の下に配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３の下部面に接触して配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３と前記第２電極８７との間に配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３と反射層１７との間に配置できる。

【0025】

前記チャンネル層３０は、例えば酸化物または窒化物で具現できる。例えば、前記チャンネル層３０は、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_ｘＯ_ｙ、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｓｉ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＡｌＮなどからなる群から少なくとも１つが選択されて形成できる。前記チャンネル層３０は、アイソレーション層と称されることもできる。前記チャンネル層３０は、今後、前記発光構造物１０に対するアイソレーション工程時、エッチングストッパーの機能を遂行することができ、またアイソレーション工程による発光素子の電気的な特性の低下を防止することができる。

【0026】

前記第１電極８０は、前記第１導電型半導体層１１に電気的に連結できる。前記第１電極８０は、前記第１導電型半導体層１１の上に配置できる。前記第１電極８０は、前記第１導電型半導体層１１に接触できる。前記反射層１７は、前記第２導電型半導体層１３に電気的に連結できる。前記反射層１７は、前記発光構造物１０の下に配置できる。前記反射層１７は、前記第２導電型半導体層１３の下に配置できる。

【0027】

実施形態による発光素子は、前記反射層１７と前記第２導電型半導体層１３との間に配置されたオーミック接触層１５を含むことができる。前記オーミック接触層１５は、前記第２導電型半導体層１３に接触して配置できる。

【0028】

前記オーミック接触層１５は、前記発光構造物１０とオーミック接触するように形成できる。前記オーミック接触層１５は、前記発光構造物１０とオーミック接触する領域を含むことができる。前記反射層１７は、前記第２導電型半導体層１３に電気的に連結できる。また、前記反射層１７は前記発光構造物１０から入射される光を反射させて外部に抽出される光量を増加させる機能を遂行することができる。

【0029】

前記オーミック接触層１５は、例えば透明伝導性酸化膜で形成できる。前記オーミック接触層１５は、例としてＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）、ＡＺＯ（Aluminum Zinc Oxide）、ＡＧＺＯ（Aluminum Gallium Zinc Oxide）、ＩＺＴＯ（Indium Zinc Tin Oxide）、ＩＡＺＯ（Indium Aluminum Zinc Oxide）、ＩＧＺＯ（Indium Gallium Zinc Oxide）、ＩＧＴＯ（Indium Gallium Tin Oxide）、ＡＴＯ（Antimony Tin Oxide）、ＧＺＯ（Gallium Zinc Oxide）、ＩＺＯＮ（IZO Nitride）、ＺｎＯ、ＩｒＯｘ、ＲｕＯｘ、ＮｉＯ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｔｉのうちから選択された少なくとも１つの物質で形成できる。

【0030】

前記反射層１７は、高反射率を有する物質で形成できる。例えば、前記反射層１７は、Ａｇ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｕ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｈｆのうち、少なくとも１つを含む金属または合金で形成できる。また、前記反射層１７は、前記金属または合金とＩＴＯ（Indium-Tin-Oxide）、ＩＺＯ（Indium-Zinc-Oxide）、ＩＺＴＯ（Indium-Zinc-Tin-Oxide）、ＩＡＺＯ（Indium-Aluminum-Zinc-Oxide）、ＩＧＺＯ（Indium-Gallium-Zinc-Oxide）、ＩＧＴＯ（Indium-Gallium-Tin-Oxide）、ＡＺＯ（Aluminum-Zinc-Oxide）、ＡＴＯ（Antimony-Tin-Oxide）などの透光性伝導性物質を用いて多層に形成できる。例えば、実施形態における前記反射層１７は、Ａｇ、Ａｌ、Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金、またはＡｇ−Ｃｕ合金のうち、少なくともいずれか１つを含むことができる。

【0031】

例えば、前記反射層１７はＡｇ層とＮｉ層とが交互に形成されることもでき、Ｎｉ／Ａｇ／Ｎｉ、あるいはＴｉ層、Ｐｔ層を含むことができる。また、前記オーミック接触層１５は前記反射層１７の下に形成され、少なくとも一部が前記反射層１７を通過して前記発光構造物１０とオーミック接触されることもできる。

【0032】

実施形態に従う発光素子は、前記反射層１７の下に配置された第１金属層３５を含むことができる。前記第１金属層３５は、Ａｕ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｔｉ−Ｗ、Ｃｒ、Ｗ、Ｐｔ、Ｖ、Ｆｅ、Ｍｏ物質のうち、少なくとも１つを含むことができる。

【0033】

実施形態によれば、前記第２電極８７は、前記反射層１７、前記オーミック接触層１５、前記第１金属層３５のうち、少なくとも１つを含むことができる。例として、前記第２電極８７は、前記反射層１７、前記第１金属層３５、前記オーミック接触層１５を全て含むこともでき、選択された１つの層または選択された２つの層を含むこともできる。

【0034】

実施形態に従う発光素子は、前記第１金属層３５の下に配置された第２金属層５０を含むことができる。

【0035】

前記第２金属層５０は、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｔｉ−Ｗ、Ｃｒ、Ｗ、Ｐｔ、Ｖ、Ｆｅ、Ｍｏ物質のうち、少なくとも１つを含むことができる。前記第２金属層５０は、拡散障壁層の機能を遂行することもできる。前記第２金属層５０の下にボンディング層６０、伝導性支持部材７０が配置できる。

【0036】

前記第２金属層５０は、前記ボンディング層６０が提供される工程で前記ボンディング層６０に含まれた物質の前記反射層１７方向への拡散を防止する機能を遂行することができる。前記第２金属層５０は、前記ボンディング層６０に含まれたスズ（Ｓｎ）などの物質が前記反射層１７に影響を及ぼすことを防止することができる。

【0037】

前記ボンディング層６０はバリア金属またはボンディング金属などを含み、例えば、Ｔｉ、Ａｕ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｎｂ、Ｐｄ、またはＴａのうち、少なくとも１つを含むことができる。前記伝導性支持部材７０は、実施形態に従う発光構造物１０を支持し、放熱機能を遂行することができる。前記ボンディング層６０はシード層で具現されることもできる。

【0038】

前記伝導性支持部材７０は、例えば、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｗ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｃｕ−Ｗ、または不純物が注入された半導体基板（例：Ｓｉ、Ｇｅ、ＧａＮ、ＧａＡｓ、ＺｎＯ、ＳｉＣ、ＳｉＧｅ等）のうち、少なくともいずれか１つで形成できる。

【0039】

実施形態によれば、前記第２電極８７及び前記第１電極８０を通じて前記発光構造物１０に電源が印加できるようになる。実施形態によれば、前記第１電極８０は、オーミック層、中間層、上部層で具現できる。前記オーミック層は、Ｃｒ、Ｖ、Ｗ、Ｔｉ、Ｚｎなどから選択された物質を含んでオーミック接触を具現することができる。前記中間層はＮｉ、Ｃｕ、Ａｌなどから選択された物質で具現できる。前記上部層は、例えばＡｕを含むことができる。前記第１電極８０は、Ｃｒ、Ｖ、Ｗ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｌ、Ａｕ、Ｍｏのうち、少なくとも１つを含むことができる。

【0040】

前記第１導電型半導体層１１の上部面にラフネス（roughness）８５が形成できる。これによって、前記ラフネス８５が形成された領域から上方へ抽出される光の光量を増加させることができるようになる。

【0041】

実施形態に従う発光素子は、前記第１金属層３５と前記第２金属層５０との間に配置された絶縁層４０を含むことができる。前記絶縁層４０は、前記第１金属層３５と前記第２金属層５０とを絶縁させることができる。前記絶縁層４０は、前記第１金属層３５と前記伝導性支持部材７０とを絶縁させることができる。前記絶縁層４０は、例えば酸化物または窒化物で具現できる。例えば、前記絶縁層４０は、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_ｘＯ_ｙ、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｓｉ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＡｌＮなどからなる群から少なくとも１つが選択されて形成できる。

【0042】

前記絶縁層４０は、前記第１金属層３５の周りを囲むように配置できる。前記絶縁層４０の一部の領域は、前記反射層１７の側面に接触して配置できる。前記絶縁層４０の上部面は前記発光構造物１０の下部の周りに露出できる。前記絶縁層４０は、前記チャンネル層３０の周りを囲むように配置できる。

【0043】

実施形態に従う発光素子は、第１連結部９０及び第２連結部９５を含むことができる。前記第１連結部９０は、前記第１電極８０と前記伝導性支持部材７０に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は前記反射層１７に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に電気的に連結できる。

【0044】

前記第１連結部９０は、前記第１電極８０に接触できる。前記第１連結部９０は、前記第２金属層５０に電気的に連結できる。前記第１連結部９０は、前記第２金属層５０に接触できる。前記第１連結部９０は、前記第２金属層５０、前記ボンディング層６０を通じて前記伝導性支持部材７０に電気的に連結できる。

【0045】

前記第１連結部９０は、前記絶縁層４０を貫通して配置できる。前記第１連結部９０は、前記絶縁層４０を貫通して前記伝導性支持部材７０に電気的に連結できる。また、前記第１連結部９０は前記チャンネル層３０を貫通して前記第２金属層５０に電気的に連結されることもできる。前記第１連結部９０は、前記チャンネル層３０と前記絶縁層４０を貫通して前記第２金属層５０に電気的に連結されることもできる。

【0046】

前記第１連結部９０は、前記発光構造物１０の側面に配置できる。前記第１連結部９０は、前記第１導電型半導体層１１の側面に配置できる。前記第１連結部９０は、前記第１導電型半導体層１１の側面に接触できる。前記チャンネル層３０は、前記第１連結部９０と前記活性層１２を絶縁させることができる。前記チャンネル層３０は、前記第１連結部９０と前記第２導電型半導体層１３とを絶縁させることができる。前記第１連結部９０は、前記活性層１２と少なくとも３マイクロメートル以上離隔して配置できる。

【0047】

前記第２連結部９５は、前記第１金属層３５に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記第１金属層３５に接触できる。前記第２連結部９５の一端は前記チャンネル層３０の上に配置できる。前記第２連結部９５の一端は前記発光構造物１０の側面と離隔して配置できる。前記第２連結部９５の一端は前記発光構造物１０の側面に露出して配置できる。

【0048】

前記第２連結部９５は、前記チャンネル層３０を貫通して前記第１金属層３５に電気的に連結できる。また、前記第２連結部９５は前記絶縁層４０を貫通して前記第１金属層３５に電気的に連結されることもできる。前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に接触して配置できる。

【0049】

前記第１連結部９０と前記第２連結部９５は、Ｃｒ、Ｖ、Ｗ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｌ、Ａｕ、Ｍｏのうち、少なくとも１つを含むことができる。

【0050】

実施形態に従う発光素子は、前記第２電極８７の下部に配置された前記伝導性支持部材７０を通じて前記第２電極８７の上部に配置された前記第１導電型半導体層１１に電気的に連結できる。

【0051】

これによって、前記伝導性支持部材７０をボンディングパッドに付着させる方法などにより前記第１導電型半導体層１１に電源を提供することができるようになる。また、実施形態によれば、前記第２連結部９５が前記第２電極８７に電気的に連結できる。これによって前記第２連結部９５をワイヤーボンディングなどにより電源パッドに連結させることによって、前記第２導電型半導体層１３に電源を提供することができるようになる。

【0052】

これによって、実施形態に従う発光素子によれば、前記伝導性支持部材７０と前記第２連結部９５を通じて前記発光構造物１０に電源を提供することができるようになる。これによって、実施形態によれば、電流集中を防止し、電気的信頼性を向上させることができる。

【0053】

次に、図２乃至図６を参照して実施形態に従う発光素子製造方法を説明する。

【0054】

実施形態に従う発光素子製造方法によれば、図２に示すように、基板５の上に第１導電型半導体層１１、活性層１２、及び第２導電型半導体層１３を形成することができる。前記第１導電型半導体層１１、前記活性層１２、及び前記第２導電型半導体層１３は発光構造物１０として定義できる。

【0055】

前記基板５は、例えば、サファイア基板（Ａｌ_２Ｏ_３）、ＳｉＣ、ＧａＡｓ、ＧａＮ、ＺｎＯ、Ｓｉ、ＧａＰ、ＩｎＰ、Ｇｅのうち、少なくとも１つで形成されることができ、これに対して限定するものではない。前記第１導電型半導体層１１と前記基板５との間にはバッファ層がさらに形成できる。

【0056】

【0057】

前記第１導電型半導体層１１は、例えば、ｎ型半導体層を含むことができる。前記第１導電型半導体層１１は、Ｉｎ_ｘＡｌ_ｙＧａ_{１−ｘ−ｙ}Ｎ（０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１、０≦ｘ＋ｙ≦１）の組成式を有する半導体材料で形成できる。前記第１導電型半導体層１１は、例えばＩｎＡｌＧａＮ、ＧａＮ、ＡｌＧａＮ、ＡｌＩｎＮ、ＩｎＧａＮ、ＡｌＮ、ＩｎＮなどから選択されることができ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｔｅなどのｎ型ドーパントがドーピングできる。

【0058】

【0059】

前記活性層１２は、Ｉｎ_ｘＡｌ_ｙＧａ_{１−ｘ−ｙ}Ｎ（０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１、０≦ｘ＋ｙ≦１）の組成式を有する半導体材料で形成できる。前記活性層１２が前記多重井戸構造で形成された場合、前記活性層１２は複数の井戸層と複数の障壁層が積層されて形成されることができ、例えば、ＩｎＧａＮ井戸層／ＧａＮ障壁層の周期で形成できる。

【0060】

前記第２導電型半導体層１３は、例えば、ｐ型半導体層で具現できる。前記第２導電型半導体層１３は、Ｉｎ_ｘＡｌ_ｙＧａ_{１−ｘ−ｙ}Ｎ（０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１、０≦ｘ＋ｙ≦１）の組成式を有する半導体材料で形成できる。前記第２導電型半導体層１３は、例えばＩｎＡｌＧａＮ、ＧａＮ、ＡｌＧａＮ、ＩｎＧａＮ、ＡｌＩｎＮ、ＡｌＮ、ＩｎＮなどから選択されることができ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａなどのｐ型ドーパントがドーピングできる。

【0061】

一方、前記第１導電型半導体層１１がｐ型半導体層を含み、前記第２導電型半導体層１３がｎ型半導体層を含むこともできる。また、前記第２導電型半導体層１３の上にはｎ型またはｐ型半導体層を含む半導体層がさらに形成されることもでき、これによって、前記発光構造物１０はｎｐ、ｐｎ、ｎｐｎ、ｐｎｐ接合構造のうち、少なくともいずれか１つを有することができる。また、前記第１導電型半導体層１１及び前記第２導電型半導体層１３の内の不純物のドーピング濃度は均一または不均一に形成できる。即ち、前記発光構造物１０の構造は多様に形成されることができ、これに対して限定するものではない。

【0062】

また、前記第１導電型半導体層１１と前記活性層１２との間には第１導電型ＩｎＧａＮ／ＧａＮスーパーラティス構造、またはＩｎＧａＮ／ＩｎＧａＮスーパーラティス構造が形成されることもできる。また、前記第２導電型半導体層１３と前記活性層１２との間には第２導電型のＡｌＧａＮ層が形成されることもできる。

【0063】

次に、図３に示すように、前記発光構造物１０に対するエッチングを遂行して前記第１導電型半導体層１１の一部の領域を露出させることができる。この際、前記エッチングは湿式エッチングまたは乾式エッチングにより遂行できる。

【0064】

そして、図４に示すように、前記発光構造物１０に、チャンネル層３０、オーミック接触層１５、及び反射層１７を形成することができる。

【0065】

例えば、前記チャンネル層３０は、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_ｘＯ_ｙ、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｓｉ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＡｌＮなどからなる群から少なくとも１つが選択されて形成できる。

【0066】

前記反射層１７と前記第２導電型半導体層１３との間に前記オーミック接触層１５が配置できる。前記オーミック接触層１５は、前記第２導電型半導体層１３に接触して配置できる。

【0067】

前記オーミック接触層１５は、前記発光構造物１０とオーミック接触するように形成できる。前記反射層１７は、前記第２導電型半導体層１３に電気的に連結できる。前記オーミック接触層１５は、前記発光構造物１０とオーミック接触する領域を含むことができる。

【0068】

【0069】

【0070】

例えば、前記反射層１７は、Ａｇ層とＮｉ層とが交互に形成されることもでき、Ｎｉ／Ａｇ／Ｎｉ、あるいはＴｉ層、Ｐｔ層を含むことができる。また、前記オーミック接触層１５は前記反射層１７の下に形成され、少なくとも一部が前記反射層１７を通過して前記発光構造物１０とオーミック接触されることもできる。

【0071】

次に、図５に示すように、前記反射層１７の上に第１金属層３５、絶縁層４０、第２金属層５０、ボンディング層６０、及び伝導性支持部材７０が形成できる。

【0072】

前記第１金属層３５は、Ａｕ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｔｉ−Ｗ、Ｃｒ、Ｗ、Ｐｔ、Ｖ、Ｆｅ、Ｍｏ物質のうち、少なくとも１つを含むことができる。

【0073】

実施形態によれば、第２電極８７は、前記反射層１７、前記オーミック接触層１５、前記第１金属層３５のうち、少なくとも１つを含むことができる。

【0074】

前記絶縁層４０は、前記第１金属層３５と前記第２金属層５０とを絶縁させることができる。前記絶縁層４０は、前記第１金属層３５と前記伝導性支持部材７０とを絶縁させることができる。

【0075】

前記絶縁層４０は、例えば酸化物または窒化物で具現できる。例えば、前記絶縁層４０は、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_ｘＯ_ｙ、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｓｉ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＡｌＮなどからなる群から少なくとも１つが選択されて形成できる。

【0076】

前記絶縁層４０は、前記第１金属層３５の周りを囲むように配置できる。前記絶縁層４０の一部の領域は前記反射層１７の側面に接触して配置できる。前記絶縁層４０は、前記チャンネル層３０の周りを囲むように配置できる。

【0077】

前記第２金属層５０は、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｔｉ−Ｗ、Ｃｒ、Ｗ、Ｐｔ、Ｖ、Ｆｅ、Ｍｏ物質のうち、少なくとも１つを含むことができる。前記第２金属層５０は、拡散障壁層の機能を遂行することもできる。

【0078】

【0079】

【0080】

【0081】

次に、前記第１導電型半導体層１１から前記基板５を除去する。１つの例として、前記基板５はレーザーリフトオフ（ＬＬＯ：Laser Lift Off）工程により除去できる。レーザーリフトオフ工程（ＬＬＯ）は、前記基板５の下面にレーザーを照射して、前記基板５と前記第１導電型半導体層１１とを互いに剥離させる工程である。

【0082】

そして、図６に示すように、アイソレーションエッチングを遂行して前記発光構造物１０の側面をエッチングし、前記チャンネル層３０の一部の領域が露出できるようになる。この際、前記絶縁層４０の一部の領域が露出されることもできる。前記アイソレーションエッチングは、例えば、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）のような乾式エッチングにより実施できるが、これに対して限定するものではない。

【0083】

前記発光構造物１０の上部面にラフネス（roughness）８５が形成できる。前記発光構造物１０の上部面に光抽出パターンが提供できる。前記発光構造物１０の上部面に凹凸パターンが提供できる。前記発光構造物１０に提供される光抽出パターンは１つの例として、ＰＥＣ（Photo Electro Chemical）エッチング工程により形成できる。これによって、実施形態によれば外部光抽出効果を上昇させることができるようになる。

【0084】

次に、図６に示すように、前記発光構造物１０の上に第１電極８０、第１連結部９０、及び第２連結部９５が形成できる。

【0085】

前記第１電極８０は、前記第１導電型半導体層１１に電気的に連結できる。前記第１電極８０の一部の領域は前記第１導電型半導体層１１に接触できる。実施形態によれば、前記第１電極８０及び前記第２電極８７を通じて前記発光構造物１０に電源が印加できるようになる。

【0086】

前記第１電極８０は、オーミック層、中間層、上部層で具現できる。前記オーミック層は、Ｃｒ、Ｖ、Ｗ、Ｔｉ、Ｚｎなどから選択された物質を含んでオーミック接触を具現することができる。前記中間層は、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｌなどから選択された物質で具現できる。前記上部層は、例えばＡｕを含むことができる。前記第１電極８０は、Ｃｒ、Ｖ、Ｗ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｌ、Ａｕのうち、少なくとも１つを含むことができる。

【0087】

前記第１連結部９０は、前記第１電極８０に接触できる。前記第１連結部９０は、前記第２金属層５０に電気的に連結できる。前記第１連結部９０は、前記第２金属層５０に接触できる。前記第１連結部９０は、前記第２金属層５０、前記ボンディング層６０を通じて前記伝導性支持部材７０に電気的に連結できる。前記第１連結部９０は、前記絶縁層４０を貫通して配置できる。前記第１連結部９０は、前記絶縁層４０を貫通して前記伝導性支持部材７０に電気的に連結できる。前記第１連結部９０は、前記チャンネル層３０を貫通して前記第２金属層５０に電気的に連結されることもできる。

【0088】

前記第１連結部９０は、前記発光構造物１０の側面に配置できる。前記第１連結部９０は、前記第１導電型半導体層１１の側面に配置できる。前記第１連結部９０は、前記第１導電型半導体層１１の側面に接触できる。前記チャンネル層３０は、前記第１連結部９０と前記活性層１２とを絶縁させることができる。前記チャンネル層３０は、前記第１連結部９０と前記第２導電型半導体層１３とを絶縁させることができる。前記第１連結部９０は、前記活性層１２と少なくとも３マイクロメートル以上離隔して配置できる。

【0089】

前記第２連結部９５は、前記第１金属層３５に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記第１金属層３５に接触できる。前記第２連結部９５の一端は前記チャンネル層３０の上に配置できる。前記第２連結部９５の一端は前記発光構造物１０の側壁と離隔して配置できる。前記第２連結部９５の一端は前記発光構造物１０の側面に露出して配置できる。前記第２連結部９５は、前記チャンネル層３０を貫通して前記第１金属層３５に電気的に連結できる。また、前記第２連結部９５は前記絶縁層４０を貫通して前記第１金属層３５に電気的に連結されることもできる。

【0090】

前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に接触して配置できる。

【0091】

【0092】

【0093】

これによって、前記伝導性支持部材７０をボンディングパッドに付着させる方法などにより前記第１導電型半導体層１１に電源が提供できるようになる。また、実施形態によれば、前記第２連結部９５が前記第２電極８７に電気的に連結できる。これによって、前記第２連結部９５をワイヤーボンディングなどにより電源パッドに連結させることによって、前記第２導電型半導体層１３に電源が提供できるようになる。

【0094】

このように、実施形態に従う発光素子によれば、前記伝導性支持部材７０と前記第２連結部９５を通じて前記発光構造物１０に電源が提供できるようになる。これによって、実施形態によれば、電流集中を防止し、電気的信頼性を向上させることができる。

【0095】

一方、前述した各層の形成工程は１つの例示であり、その工程順序は多様に変形できる。

【0096】

図７は、本発明の実施形態に従う発光素子の他の例を示す図である。図７に図示された発光素子を説明するに当たって、図１を参照して説明された部分と重複する事項に対しては説明を省略する。

【0097】

図７に図示された実施形態によれば、発光構造物１０の下部の周りにチャンネル層３０が配置され、絶縁層４０が前記発光構造物１０の下部の周りに露出しないことがある。

【0098】

実施形態に従う発光素子は、前記発光構造物１０の下部の周りに配置された前記チャンネル層３０を含むことができる。例えば、前記チャンネル層３０の上部面は活性層１２の上部面に比べてより高く配置できる。前記チャンネル層３０は、前記活性層１２の周りを囲むように配置できる。前記チャンネル層３０は、第２導電型半導体層１３の周りを囲むように配置できる。前記チャンネル層３０の一端は、前記第２導電型半導体層１３の下に配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３の下部面に接触して配置できる。前記チャンネル層３０の一端は、前記第２導電型半導体層１３と反射層１７との間に配置できる。

【0099】

【0100】

実施形態に従う発光素子は、第１金属層３５と第２金属層５０との間に配置された絶縁層４０を含むことができる。前記絶縁層４０は、前記第１金属層３５と前記第２金属層５０とを絶縁させることができる。前記絶縁層４０は、前記第１金属層３５と伝導性支持部材７０とを絶縁させることができる。前記絶縁層４０は、例えば酸化物または窒化物で具現できる。例えば、前記絶縁層４０は、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_ｘＯ_ｙ、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｓｉ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＡｌＮなどからなる群から少なくとも１つが選択されて形成できる。

【0101】

前記絶縁層４０は、前記第１金属層３５の周りを囲むように配置できる。前記絶縁層４０の一部の領域は、前記反射層１７の側面に接触して配置できる。前記絶縁層４０は、前記チャンネル層３０の周りを囲むように配置できる。

【0102】

実施形態に従う発光素子は、第１連結部９０と第２連結部９５とを含むことができる。前記第１連結部９０は、第１電極８０と前記伝導性支持部材７０に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記反射層１７に電気的に連結できる。実施形態によれば、第２電極８７が前記反射層１７、オーミック接触層１５、第１金属層３５のうち、少なくとも１つを含むことができる。

【0103】

前記第１連結部９０は、前記第１電極８０に接触できる。前記第１連結部９０は、前記第２金属層５０に電気的に連結できる。前記第１連結部９０は、前記第２金属層５０に接触できる。前記第１連結部９０は、前記第２金属層５０、前記ボンディング層６０を通じて前記伝導性支持部材７０に電気的に連結できる。前記第１連結部９０は、前記チャンネル層３０を貫通して配置できる。前記第１連結部９０は、前記チャンネル層３０を貫通して前記伝導性支持部材７０に電気的に連結できる。

【0104】

【0105】

【0106】

前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に接触して配置できる。

【0107】

【0108】

【0109】

【0110】

【0111】

図８は、本発明の実施形態に従う発光素子の他の例を示す図である。図８に図示された発光素子を説明するに当たって、図１を参照して説明された部分と重複する事項に対しては説明を省略する。

【0112】

図８に図示された実施形態によれば、発光構造物１０の側面に保護膜４５が配置できる。また、チャンネル層３０が前記発光構造物１０の下部の周りに配置できる。前記保護膜４５は、前記発光構造物１０と第１連結部９０との間に配置できる。前記保護膜４５は、前記第１連結部９０と活性層１２とを絶縁させることができる。前記保護膜４５は前記第１連結部９０と第２導電型半導体層１３とを絶縁させることができる。

【0113】

前記保護膜４５は、例えば酸化物または窒化物で具現できる。例えば、前記保護膜４５は、ＳｉＯ_２、Ｓｉ_ｘＯ_ｙ、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｓｉ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＡｌＮなどからなる群から少なくとも１つが選択されて形成できる。

【0114】

実施形態に従う発光素子は、前記発光構造物１０の下部の周りに配置されたチャンネル層３０を含むことができる。例えば、前記チャンネル層３０の上部面は前記第２導電型半導体層１３の下部面と同一な高さに配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３の下に配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３の下部面に接触して配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３と前記反射層１７との間に配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３と第２電極８７との間に配置できる。

【0115】

【0116】

【0117】

前記絶縁層４０は、前記第１金属層３５の周りを囲むように配置できる。前記絶縁層４０の一部の領域は前記反射層１７の側面に接触して配置できる。前記絶縁層４０の上部面は前記発光構造物１０の下部の周りに露出できる。前記絶縁層４０は前記チャンネル層３０の周りを囲むように配置できる。

【0118】

実施形態に従う発光素子は、第１連結部９０及び第２連結部９５を含むことができる。前記第１連結部９０は、前記第１電極８０と前記伝導性支持部材７０に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記反射層１７に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、第２電極８７に電気的に連結できる。実施形態によれば、前記第２電極８７は、前記反射層１７、オーミック接触層１５、前記第１金属層３５のうち、少なくとも１つを含むことができる。

【0119】

【0120】

【0121】

【0122】

前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に接触して配置できる。

【0123】

【0124】

【0125】

【0126】

このように実施形態に従う発光素子によれば、前記伝導性支持部材７０と前記第２連結部９５を通じて前記発光構造物１０に電源が提供できるようになる。これによって、実施形態によれば、電流集中を防止し、電気的信頼性を向上させることができる。

【0127】

図９は、本発明の実施形態に従う発光素子の他の例を示す図である。図９に図示された発光素子を説明するに当たって、図１を参照して説明された部分と重複する事項に対しては説明を省略する。

【0128】

実施形態に従う発光素子によれば、前記発光構造物１０の下にオーミック反射層１９が配置できる。前記オーミック反射層１９は、反射層１７とオーミック接触層１５の機能を全て遂行するように具現できる。これによって、前記オーミック反射層１９は前記第２導電型半導体層１３にオーミック接触し、前記発光構造物１０から入射される光を反射させる機能を遂行することができる。

【0129】

ここで、前記オーミック反射層１９は多層に形成できる。例えば、Ａｇ層とＮｉ層とが交互に形成されることもでき、Ｎｉ／Ａｇ／Ｎｉ、あるいはＴｉ、Ｐｔ層を含むこともできる。

【0130】

実施形態に従う発光素子は、前記オーミック反射層１９の下部に配置された前記伝導性支持部材７０を通じて前記オーミック反射層１９の上部に配置された前記第１導電型半導体層１１に電気的に連結できる。

【0131】

実施形態に従う第２電極８７は、前記オーミック反射層１９と第１金属層３５のうち、少なくとも１つを含むことができる。実施形態に従う発光素子は、前記第２電極８７の下部に配置された前記伝導性支持部材７０を通じて前記第２電極８７の上部に配置された前記第１導電型半導体層１１に電気的に連結できる。

【0132】

これによって、前記伝導性支持部材７０をボンディングパッドに付着させる方法などにより前記第１導電型半導体層１１に電源が提供できるようになる。また、実施形態によれば、前記第２連結部９５が前記オーミック反射層１９に電気的に連結できる。前記第２連結部９５が前記第２電極８７に電気的に連結できる。これによって、前記第２連結部９５をワイヤーボンディングなどにより電源パッドに連結させることによって、前記第２導電型半導体層１３に電源が提供できるようになる。

【0133】

【0134】

図１０は、本発明の実施形態に従う発光素子の他の例を示す図である。図１０に図示された発光素子を説明するに当たって、図７を参照して説明された部分と重複する事項に対しては説明を省略する。

【0135】

実施形態に従う発光素子によれば、前記発光構造物１０の下にオーミック反射層１９が配置できる。前記オーミック反射層１９は、反射層１７とオーミック接触層１５の機能を全て遂行するように具現できる。これによって、前記オーミック反射層１９は、前記第２導電型半導体層１３にオーミック接触し、前記発光構造物１０から入射される光を反射させる機能を遂行することができる。

【0136】

【0137】

【0138】

【0139】

【0140】

【0141】

図１１は、本発明の実施形態に従う発光素子の他の例を示す図である。図１１に図示された発光素子を説明するに当たって、図８を参照して説明された部分と重複する事項に対しては説明を省略する。

【0142】

【0143】

【0144】

【0145】

【0146】

【0147】

【0148】

図１２は、本発明の実施形態に従う発光素子の他の例を示す図である。図１２を参照して実施形態に従う発光素子を説明するに当たって、図１乃至図１１を参照して説明された内容と重複する事項に対しては簡略に記載したり説明を省略することができる。

【0149】

実施形態に従う発光素子は、図１２に示すように、発光構造物１０、伝導性支持部材７０、第１電極８０、及び第２電極８７を含むことができる。

【0150】

前記発光構造物１０は、第１導電型半導体層１１、活性層１２、及び第２導電型半導体層１３を含むことができる。前記活性層１２は、前記第１導電型半導体層１１と前記第２導電型半導体層１３との間に配置できる。前記活性層１２は、前記第１導電型半導体層１１の下に配置されることができ、前記第２導電型半導体層１３は前記活性層１２の下に配置できる。

【0151】

実施形態に従う発光素子は、前記発光構造物１０の下部の周りに配置されたチャンネル層３０を含むことができる。例えば、前記チャンネル層３０の上部面は前記活性層１２の上部面に比べてより高く配置できる。前記チャンネル層３０は、前記活性層１２の周りを囲むように配置できる。前記チャンネル層３０は、前記第２導電型半導体層１３の周りを囲むように配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３の下に配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３の下部面に接触して配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３と前記第２電極８７との間に配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３と反射層１７との間に配置できる。

【0152】

【0153】

【0154】

【0155】

【0156】

【0157】

【0158】

実施形態に従う発光素子は、前記第１金属層３５の下に配置された第２金属層５０を含むことができる。

【0159】

前記第２金属層５０は、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｔｉ−Ｗ、Ｃｒ、Ｗ、Ｐｔ、Ｖ、Ｆｅ、Ｍｏ物質のうち、少なくとも１つを含むことができる。前記第２金属層５０は、拡散障壁層の機能を遂行することもできる。前記第２金属層５０の下にボンディング層６０、及び伝導性支持部材７０が配置できる。

【0160】

【0161】

前記ボンディング層６０は、バリア金属またはボンディング金属などを含み、例えば、Ｔｉ、Ａｕ、Ｓｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｎｂ、Ｐｄ、またはＴａのうち、少なくとも１つを含むことができる。前記伝導性支持部材７０は、実施形態に従う発光構造物１０を支持し、放熱機能を遂行することができる。前記ボンディング層６０はシード層で具現されることもできる。

【0162】

【0163】

実施形態によれば、前記第２電極８７及び前記第１電極８０を通じて前記発光構造物１０に電源が印加できるようになる。実施形態によれば、前記第１電極８０は、オーミック層、中間層、上部層で具現できる。前記オーミック層は、Ｃｒ、Ｖ、Ｗ、Ｔｉ、Ｚｎなどから選択された物質を含んでオーミック接触を具現することができる。前記中間層は、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｌなどから選択された物質で具現できる。前記上部層は、例えばＡｕを含むことができる。前記第１電極８０は、Ｃｒ、Ｖ、Ｗ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｌ、Ａｕ、Ｍｏのうち、少なくとも１つを含むことができる。

【0164】

前記第１導電型半導体層１１の上部面にラフネス（roughness）８５が形成できる。これによって、前記ラフネス８５が形成された領域から上方に抽出される光の光量を増加させることができるようになる。

【0165】

【0166】

前記絶縁層４０は、前記第１金属層３５の周りを囲むように配置できる。前記絶縁層４０の一部の領域は、前記反射層１７の側面に接触して配置できる。前記絶縁層４０の上部面は前記発光構造物１０の下部に接触して配置できる。前記絶縁層４０は、前記チャンネル層３０の周りを囲むように配置できる。

【0167】

実施形態に従う発光素子は、第１連結部９０及び第２連結部９５を含むことができる。前記第１連結部９０は、前記第１電極８０と前記伝導性支持部材７０に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記反射層１７に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に電気的に連結できる。

【0168】

実施形態に従う発光素子は、図１３に示すように、第２連結部９５を含むことができる。前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に電気的に連結できる。図１３は、本発明の実施形態に従う発光素子の第２連結部の例を示す図である。

【0169】

例として、前記第２連結部９５の一端は前記チャンネル層３０の上に配置できる。前記第２連結部９５は前記第１金属層３５に接触されることもでき、前記反射層１７に接触されることもできる。

【0170】

【0171】

例として、前記第１連結部９０は、前記絶縁層４０を貫通して配置されることもできる。前記第１連結部９０は、前記絶縁層４０を貫通して前記伝導性支持部材７０に電気的に連結されることもできる。また、前記第１連結部９０は前記チャンネル層３０を貫通して前記第２金属層５０に電気的に連結されることもできる。前記第１連結部９０は、前記チャンネル層３０と前記絶縁層４０を貫通して前記第２金属層５０に電気的に連結されることもできる。

【0172】

【0173】

【0174】

【0175】

前記第１連結部９０と前記第２連結部９５はＣｒ、Ｖ、Ｗ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｌ、Ａｕ、Ｍｏのうち、少なくとも１つを含むことができる。

【0176】

【0177】

【0178】

【0179】

実施形態に従う発光素子によれば、上部に位置した前記発光構造物１０と下部に位置した前記第２金属層５０、前記ボンディング層６０、及び前記伝導性支持基板７０が同一極性を有するようになる。これによって、図１３に示すように、前記発光構造物１０の一側面は前記第２金属層５０または前記伝導性支持部材７０の一側面の垂直方向を基準に所定間隔（Ｂ）以内に配置されることができ、例として２０マイクロメートル以内に整列して配置できる。即ち、実施形態によれば、垂直面を基準に２０マイクロメートル以内に前記発光構造物１０の側面と前記第２金属層５０または前記伝導性支持部材７０の側面が垂直に配置されても電気的な短絡などの問題が発生しない。また、前記発光構造物１０の一側面と前記第２金属層５０または前記伝導性支持部材７０の一側面は垂直方向に同一垂直面に整列して配置されることもできる。

【0180】

従来の発光素子の場合、電気的信頼性確保のために、発光構造物の側面が伝導性支持部材の側面に対応する垂直面から略５０マイクロメートル乃至７０マイクロメートル内側に配置される。しかしながら、実施形態に従う発光素子によれば、前記発光構造物１０の側面が前記伝導性支持部材７０の側面から略２０マイクロ以内に配置できるので、従来の発光素子に比べて前記発光構造物１０の面積を拡張させることができる。

【0181】

また、実施形態によれば、図１３に示すように、前記第１導電型半導体層１１の外側面は前記第１連結部９０の上部面の外側面から所定間隔（Ａ）外部に突出して配置できる。例えば、前記第１導電型半導体層１１の外側面は前記第１連結部９０の外側面から１０マイクロメートル以上突出して配置できる。

【0182】

これによって、従来の発光素子に比べて、実施形態に従う前記発光構造物１０がより広い領域を有するように形成できるようになる。結果的に、実施形態に従う発光構造物１０がより広い半導体層を含むことができるので、相対的により広い領域で発光が発生することができ、光抽出を向上させることができる。

【0183】

次に、図１４乃至図１８を参照して実施形態に従う発光素子製造方法を説明する。図１４乃至図１８を参照して実施形態に従う発光素子製造方法を説明するに当たって、図１乃至図１１を参照して説明された内容と重複する事項に対しては簡略に記載したり説明を省略することができる。

【0184】

実施形態に従う発光素子製造方法によれば、図１４に示すように、基板５の上に第１導電型半導体層１１、活性層１２、及び第２導電型半導体層１３を形成することができる。前記第１導電型半導体層１１、前記活性層１２、及び前記第２導電型半導体層１３は、発光構造物１０として定義できる。

【0185】

次に、図１５に示すように、前記発光構造物１０に対するエッチングを遂行して前記第１導電型半導体層１１の一部の領域を露出させることができる。この際、前記エッチングは湿式エッチングまたは乾式エッチングにより遂行できる。

【0186】

そして、図１６に示すように、前記発光構造物１０にチャンネル層３０、オーミック接触層１５、及び反射層１７を形成することができる。

【0187】

【0188】

前記反射層１７と前記第２導電型半導体層１３との間に前記オーミック接触層１５が配置できる。前記オーミック接触層１５は前記第２導電型半導体層１３に接触して配置できる。

【0189】

前記オーミック接触層１５は、前記発光構造物１０とオーミック接触するように形成できる。前記反射層１７は、前記第２導電型半導体層１３に電気的に連結できる。前記オーミック接触層１５は、前記発光構造物１０とオーミック接触する領域を含むことができる。前記反射層１７は、高反射率を有する物質で形成できる。例えば、前記反射層１７はＡｇ層とＮｉ層とが交互に形成されることもでき、Ｎｉ／Ａｇ／Ｎｉ、あるいはＴｉ層、Ｐｔ層を含むことができる。また、前記オーミック接触層１５は前記反射層１７の下に形成され、少なくとも一部が前記反射層１７を通過して前記発光構造物１０とオーミック接触されることもできる。

【0190】

次に、図１７に示すように、前記反射層１７の上に第１金属層３５、絶縁層４０、第２金属層５０、ボンディング層６０、及び伝導性支持部材７０が形成できる。

【0191】

前記第１金属層３５は、Ａｕ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｔｉ−Ｗ、Ｃｒ、Ｗ、Ｐｔ、Ｖ、Ｆｅ、Ｍｏ物質のうち、少なくとも１つを含むことができる。

【0192】

実施形態によれば、第２電極８７は、前記反射層１７、前記オーミック接触層１５、前記第１金属層３５のうち、少なくとも１つを含むことができる。前記第２電極８７は、前記反射層１７、前記オーミック接触層１５、及び前記第１金属層３５を全て含むこともでき、そのうち、１つの層または２つの層を含むこともできる。

【0193】

【0194】

【0195】

【0196】

前記第２金属層５０は、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｔｉ−Ｗ、Ｃｒ、Ｗ、Ｐｔ、Ｖ、Ｆｅ、Ｍｏ物質のうち、少なくとも１つを含むことができる。前記第２金属層５０は拡散障壁層の機能を遂行することもできる。

【0197】

【0198】

次に、前記第１導電型半導体層１１から前記基板５を除去する。１つの例として、前記基板５は、レーザーリフトオフ（ＬＬＯ：Laser Lift Off）工程により除去できる。レーザーリフトオフ工程（ＬＬＯ）は、前記基板５の下面にレーザーを照射して、前記基板５と前記第１導電型半導体層１１とを互いに剥離させる工程である。

【0199】

そして、図１８に示すように、アイソレーションエッチングを遂行して前記発光構造物１０の側面をエッチングし、前記チャンネル層３０と前記絶縁層４０の一部の領域が露出できるようになる。前記アイソレーションエッチングは、例えば、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）のような乾式エッチングにより実施できるが、これに対して限定するものではない。

【0200】

前記発光構造物１０の上部面にラフネス（roughness）８５が形成できる。前記発光構造物１０の上部面に光抽出パターンが提供できる。前記発光構造物１０の上部面に凹凸パターンが提供できる。前記発光構造物１０に提供される光抽出パターンは、１つの例としてＰＥＣ（Photo Electro Chemical）エッチング工程により形成できる。これによって、実施形態によれば、外部光抽出効果を上昇させることができるようになる。

【0201】

次に、図１８に示すように、前記発光構造物１０の上に第１電極８０、第１連結部９０、及び第２連結部９５が形成できる。

【0202】

【0203】

【0204】

【0205】

【0206】

この際、図１３に示すように、第２連結部９５の一端は前記チャンネル層３０の上に配置できる。前記第２連結部９５の一端は前記発光構造物１０の側壁と離隔して配置できる。前記第２連結部９５の一端は前記発光構造物１０の側面に露出して配置できる。前記第２連結部９５は、前記チャンネル層３０を貫通して前記第１金属層３５に電気的に連結できる。また、前記第２連結部９５は、前記絶縁層４０を貫通して前記第１金属層３５に電気的に連結されることもできる。前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に接触して配置できる。

【0207】

【0208】

【0209】

【0210】

【0211】

実施形態に従う発光素子によれば、上部に位置した前記発光構造物１０と下部に位置した前記第２金属層５０、前記ボンディング層６０、及び前記伝導性支持基板７０が同一極性を有するようになる。これによって、図２に示すように、前記発光構造物１０の一側面は前記伝導性支持部材７０の一側面の垂直方向を基準に所定間隔（Ｂ）以内に配置されることができ、例として２０マイクロメートル以内に整列して配置できる。即ち、実施形態によれば、垂直面を基準に２０マイクロメートル以内に前記発光構造物１０の側面と前記伝導性支持部材７０の側面が垂直に配置されても電気的な短絡などの問題が発生しない。また、前記発光構造物１０の一側面と前記伝導性支持部材７０の一側面は垂直方向に同一垂直面に整列して配置されることもできる。

【0212】

従来の発光素子の場合、電気的信頼性の確保のために、発光構造物の側面が伝導性支持部材の側面に対応する垂直面から略５０マイクロメートル乃至７０マイクロメートル以内に配置される。しかしながら、実施形態に従う発光素子によれば、前記発光構造物１０の側面が前記伝導性支持部材７０の側面から略２０マイクロ以内に配置できるので、従来の発光素子に比べて前記発光構造物１０の面積を拡張させることができる。

【0213】

また、実施形態によれば、図１４に示すように、前記第１導電型半導体層１１の外側面は前記第１連結部９０の上部面の一側面から所定間隔（Ａ）外部に突出して配置できる。例えば、前記第１導電型半導体層１１の外側面は前記第１連結部９０から１０マイクロメートル以上突出して配置できる。

【0214】

これによって、従来の発光素子に比べて、実施形態に従う前記発光構造物１０がより広い領域を有するように形成できるようになる。結果的に、実施形態に従う発光構造物１０がより広い半導体層を含むことができるので、相対的により広い領域で発光が発生することができ、光抽出量を向上させることができる。

【0215】

一方、前述した各層の形成工程は１つの例示であり、その工程順序は多様に変形できる。

【0216】

図１９は、本発明の実施形態に従う発光素子の他の例を示す図である。図１９に図示された発光素子を説明するに当たって、図１２を参照して説明された部分と重複する事項に対しては説明を省略する。

【0217】

図１９に図示された実施形態によれば、発光構造物１０の下部の周りにチャンネル層３０が配置され、絶縁層４０が前記発光構造物１０の下部の周りに露出しないことがある。

【0218】

実施形態に従う発光素子は、前記発光構造物１０の下部の周りに配置された前記チャンネル層３０を含むことができる。例えば、前記チャンネル層３０の上部面は活性層１２の上部面に比べてより高く配置できる。前記チャンネル層３０は、前記活性層１２の周りを囲むように配置できる。前記チャンネル層３０は、第２導電型半導体層１３の周りを囲むように配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３の下に配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３の下部面に接触して配置できる。前記チャンネル層３０の一端は前記第２導電型半導体層１３と反射層１７との間に配置できる。

【0219】

【0220】

【0221】

実施形態に従う発光素子は、第１連結部９０及び第２連結部９５を含むことができる。前記第１連結部９０は、第１電極８０と前記伝導性支持部材７０に電気的に連結できる。

【0222】

前記第１連結部９０は、前記第１電極８０に接触できる。前記第１連結部９０は、前記第２金属層５０に電気的に連結できる。前記第１連結部９０は、前記第２金属層５０に接触できる。前記第１連結部９０は、前記第２金属層５０、前記ボンディング層６０を通じて前記伝導性支持部材７０に電気的に連結できる。前記第１連結部９０は、前記チャンネル層３０を貫通して配置できる。前記第１連結部９０は、前記チャンネル層３０を貫通して前記伝導性支持部材７０に電気的に連結できる。

【0223】

【0224】

前記第２連結部９５は、図１３に示すように、前記第２連結部９５の一端は前記チャンネル層３０の上に配置できる。前記第２連結部９５の一端は前記発光構造物１０の側壁と離隔して配置できる。前記第２連結部９５の一端は前記発光構造物１０の側面に露出して配置できる。前記第２連結部９５は、前記チャンネル層３０を貫通して前記第１金属層３５に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に電気的に連結できる。前記第２連結部９５は、前記第２電極８７に接触して配置できる。

【0225】

【0226】

【0227】

【0228】

【0229】

実施形態に従う発光素子によれば、上部に位置した前記発光構造物１０と下部に位置した前記第２金属層５０、前記ボンディング層６０、及び前記伝導性支持基板７０が同一極性を有するようになる。これによって、図１３に示すように、前記発光構造物１０の一側面は前記伝導性支持部材７０の一側面の垂直方向を基準に所定間隔（Ｂ）以内に配置されることができ、例として２０マイクロメートル以内に整列して配置できる。即ち、実施形態によれば、垂直面を基準に２０マイクロメートル以内に前記発光構造物１０の側面と前記伝導性支持部材７０の側面が垂直に配置されても電気的な短絡などの問題が発生しない。また、前記発光構造物１０の一側面と前記伝導性支持部材７０の一側面は垂直方向に同一垂直面に整列して配置されることもできる。

【0230】

従来の発光素子の場合、電気的信頼性確保のために、発光構造物の側面が伝導性支持部材の側面に対応する垂直面から略５０マイクロメートル乃至７０マイクロメートル以内に配置される。しかしながら、実施形態に従う発光素子によれば、前記発光構造物１０の側面が前記伝導性支持部材７０の側面から略２０マイクロ以内に配置できるので、従来の発光素子に比べて前記発光構造物１０の面積を拡張させることができる。

【0231】

また、実施形態によれば、図１３に示すように、前記第１導電型半導体層１１の外側面は前記第１連結部９０の上部面の一側面から所定間隔（Ａ）外部に突出して配置できる。例えば、前記第１導電型半導体層１１の外側面は、前記第１連結部９０から１０マイクロメートル以上突出して配置できる。

【0232】

【0233】

図２０は、本発明の実施形態に従う発光素子の他の例を示す図である。図２０に図示された発光素子を説明するに当たって、図１２を参照して説明された部分と重複する事項に対しては説明を省略する。

【0234】

【0235】

【0236】

【0237】

【0238】

【0239】

【0240】

実施形態に従う発光素子によれば、上部に位置した前記発光構造物１０と下部に位置した前記第２金属層５０、前記ボンディング層６０、及び前記伝導性支持基板７０が同一極性を有するようになる。これによって、図２に示すように、前記発光構造物１０の一側面は前記伝導性支持部材７０の一側面の垂直方向を基準に所定間隔（Ｂ）以内に配置されることができ、例として２０マイクロメートル以内に整列されて配置できる。即ち、実施形態によれば、垂直面を基準に２０マイクロメートル以内に前記発光構造物１０の側面と前記伝導性支持部材７０の側面が垂直に配置されても電気的な短絡などの問題が発生しない。また、前記発光構造物１０の一側面と前記伝導性支持部材７０の一側面は垂直方向に同一垂直面に整列して配置されることもできる。

【0241】

【0242】

また、実施形態によれば、図１３に示すように、前記第１導電型半導体層１１の外側面は前記第１連結部９０の上部面の一側面から所定間隔（Ａ）外部に突出して配置できる。例えば、前記第１導電型半導体層１１の外側面は前記第１連結部９０から１０マイクロメートル以上突出して配置できる。

【0243】

【0244】

図２１は、本発明の実施形態に従う発光素子の他の例を示す図である。図２１に図示された発光素子を説明するに当たって、図１９を参照して説明された部分と重複する事項に対しては説明を省略する。

【0245】

【0246】

【0247】

【0248】

【0249】

【0250】

【0251】

【0252】

【0253】

【0254】

【0255】

図２２は、本発明の実施形態に従う発光素子が適用された発光素子パッケージを示す図である。

【0256】

図２２を参照すると、実施形態に従う発光素子パッケージは、胴体１２０と、前記胴体１２０に配置された第１リード電極１３１及び第２リード電極１３２と、前記胴体１２０に提供されて前記第１リード電極１３１及び第２リード電極１３２と電気的に連結される実施形態に従う発光素子１００と、前記発光素子１００を囲むモールディング部材１４０とを含むことができる。

【0257】

前記胴体１２０は、シリコン材質、合成樹脂材質、または金属材質を含んで形成されることができ、前記発光素子１００の周囲に傾斜面が形成できる。

【0258】

前記第１リード電極１３１及び第２リード電極１３２は互いに電気的に分離され、前記発光素子１００に電源を提供する。また、前記第１リード電極１３１及び第２リード電極１３２は、前記発光素子１００で発生した光を反射させて光効率を増加させることができ、前記発光素子１００で発生した熱を外部に排出させる役割をすることもできる。

【0259】

前記発光素子１００は前記胴体１２０の上に配置されるか、前記第１リード電極１３１または第２リード電極１３２の上に配置できる。

【0260】

前記発光素子１００は、前記第１リード電極１３１及び第２リード電極１３２とワイヤー方式、フリップチップ方式、またはダイボンディング方式のうち、いずれか１つにより電気的に連結されることもできる。

【0261】

前記モールディング部材１４０は、前記発光素子１００を囲んで前記発光素子１００を保護することができる。また、前記モールディング部材１４０には蛍光体が含まれて、前記発光素子１００から放出された光の波長を変化させることができる。

【0262】

実施形態に従う発光素子または発光素子パッケージは、複数個が基板の上にアレイされることができ、前記発光素子パッケージの光経路の上に光学部材であるレンズ、導光板、プリズムシート、拡散シートなどが配置できる。このような発光素子パッケージ、基板、光学部材は、ライトユニットとして機能することができる。前記ライトユニットは、トップビューまたはサイドビュータイプで具現されて、携帯端末機及びノートブックコンピュータなどの表示装置に提供されるか、照明装置及び指示装置などに多様に適用できる。更に他の実施形態は、前述した実施形態に記載された発光素子または発光素子パッケージを含む照明装置で具現できる。例えば、照明装置は、ランプ、街灯、電光板、前照灯を含むことができる。

【0263】

実施形態に従う発光素子は、ライトユニットに適用できる。前記ライトユニットは、複数の発光素子がアレイされた構造を含み、図２３及び図２４に図示された表示装置、図２５に図示された照明装置を含むことができる。

【0264】

図２３を参照すると、実施形態に従う表示装置１０００は、導光板１０４１と、前記導光板１０４１に光を提供する発光モジュール１０３１と、前記導光板１０４１の下に反射部材１０２２と、前記導光板１０４１の上に光学シート１０５１と、前記光学シート１０５１の上に表示パネル１０６１と、前記導光板１０４１、発光モジュール１０３１、及び反射部材１０２２を収納するボトムカバー１０１１とを含むことができるが、これに限定されるものではない。

【0265】

前記ボトムカバー１０１１、反射部材１０２２、導光板１０４１、及び光学シート１０５１は、ライトユニット１０５０として定義できる。

【0266】

前記導光板１０４１は、光を拡散させて面光源化させる役割をする。前記導光板１０４１は透明な材質からなり、例えば、ＰＭＭＡ（polymethyl metaacrylate）のようなアクリル樹脂系列、ＰＥＴ（polyethylene terephthlate）、ＰＣ（poly carbonate）、ＣＯＣ（cycloolefincopolymer）、及びＰＥＮ（polyethylene naphthalate）樹脂のうち、１つを含むことができる。

【0267】

前記発光モジュール１０３１は、前記導光板１０４１の少なくとも一側面に光を提供し、窮極的には表示装置の光源として作用するようになる。

【0268】

前記発光モジュール１０３１は少なくとも１つが提供されることができ、前記導光板１０４１の一側面から直接または間接的に光を提供することができる。前記発光モジュール１０３１は、基板１０３３と前述した実施形態に従う発光素子または発光素子パッケージ２００を含むことができる。前記発光素子パッケージ２００は、前記基板１０３３の上に所定間隔でアレイできる。

【0269】

前記基板１０３３は、回路パターンを含む印刷回路基板（ＰＣＢ：Printed Circuit Board）でありうる。但し、前記基板１０３３は一般ＰＣＢだけでなく、メタルコアＰＣＢ（ＭＣＰＣＢ：Metal Core PCB）、軟性ＰＣＢ（ＦＰＣＢ：Flexible PCB）などを含むこともでき、これに対して限定するものではない。前記発光素子パッケージ２００は、前記ボトムカバー１０１１の側面または放熱プレートの上に提供される場合、前記基板１０３３は除去できる。ここで、前記放熱プレートの一部は前記ボトムカバー１０１１の上面に接触できる。

【0270】

そして、前記多数の発光素子パッケージ２００は光が放出される出射面が前記導光板１０４１と所定距離離隔するように搭載されることができ、これに対して限定するものではない。前記発光素子パッケージ２００は、前記導光板１０４１の一側面である入光部に光を直接または間接的に提供することができ、これに対して限定するものではない。

【0271】

前記導光板１０４１の下には前記反射部材１０２２が配置できる。前記反射部材１０２２は、前記導光板１０４１の下面に入射された光を反射させて上に向けるようにすることによって、前記ライトユニット１０５０の輝度を向上させることができる。前記反射部材１０２２は、例えば、ＰＥＴ、ＰＣ、ＰＶＣレジンなどで形成できるが、これに対して限定するものではない。前記反射部材１０２２は、前記ボトムカバー１０１１の上面であることがあり、これに対して限定するものではない。

【0272】

前記ボトムカバー１０１１は、前記導光板１０４１、発光モジュール１０３１、及び反射部材１０２２などを収納することができる。このために、前記ボトムカバー１０１１は、上面が開口されたボックス（box）形状を有する収納部１０１２が備えられることができ、これに対して限定するものではない。前記ボトムカバー１０１１はトップカバーと結合されることができ、これに対して限定するものではない。

【0273】

前記ボトムカバー１０１１は金属材質または樹脂材質で形成されることができ、プレス成形または押出成形などの工程を用いて製造できる。また、前記ボトムカバー１０１１は熱伝導性の良い金属または非金属材料を含むことができ、これに対して限定するものではない。

【0274】

前記表示パネル１０６１は、例えばＬＣＤパネルであって、互いに対向する透明な材質の第１及び第２基板、そして第１及び第２基板の間に介された液晶層を含む。前記表示パネル１０６１の少なくとも一面には偏光板が付着されることができ、このような偏光板の付着構造に限定するものではない。前記表示パネル１０６１は、光学シート１０５１を通過した光により情報を表示するようになる。このような表示装置１０００は、各種携帯端末機、ノートブックコンピュータのモニタ、ラップトップコンピュータのモニタ、テレビなどに適用できる。

【0275】

前記光学シート１０５１は、前記表示パネル１０６１と前記導光板１０４１との間に配置され、少なくとも一枚の透光性シートを含む。前記光学シート１０５１は、例えば拡散シート、水平及び垂直プリズムシート、及び輝度強化シートなどのシートのうち、少なくとも１つを含むことができる。前記拡散シートは、入射される光を拡散させ、前記水平または／及び垂直プリズムシートは入射される光を表示領域に集光させ、前記輝度強化シートは損失される光を再使用して輝度を向上させる。また、前記表示パネル１０６１の上には保護シートが配置されることができ、これに対して限定するものではない。

【0276】

ここで、前記発光モジュール１０３１の光経路の上には、光学部材として、前記導光板１０４１及び光学シート１０５１を含むことができ、これに対して限定するものではない。

【0277】

図２４は、本発明の実施形態に従う表示装置の他の例を示す図である。

【0278】

図２４を参照すると、表示装置１１００は、ボトムカバー１１５２、前記に開示された発光素子１００がアレイされた基板１０２０、光学部材１１５４、及び表示パネル１１５５を含む。

【0279】

前記基板１０２０と前記発光素子パッケージ２００は、発光モジュール１０６０として定義できる。前記ボトムカバー１１５２、少なくとも１つの発光モジュール１０６０、及び光学部材１１５４は、ライトユニットとして定義できる。

【0280】

前記ボトムカバー１１５２には収納部１１５３を備えられることができ、これに対して限定するものではない。

【0281】

ここで、前記光学部材１１５４は、レンズ、導光板、拡散シート、水平及び垂直プリズムシート、及び輝度強化シートなどから少なくとも１つを含むことができる。前記導光板は、ＰＣ材質またはＰＭＭＡ（Poly methy methacrylate）材質からなることができ、このような導光板は除去できる。前記拡散シートは、入射される光を拡散させ、前記水平及び垂直プリズムシートは入射される光を表示領域に集光させ、前記輝度強化シートは損失される光を再使用して輝度を向上させる。

【0282】

前記光学部材１１５４は前記発光モジュール１０６０の上に配置され、前記発光モジュール１０６０から放出された光を面光源するか、拡散、集光などを遂行するようになる。

【0283】

図２５は、本発明の実施形態に従う照明装置を示す図である。

【0284】

図２５を参照すると、実施形態に従う照明装置は、カバー２１００、光源モジュール２２００、放熱体２４００、電源提供部２６００、内部ケース２７００、及びソケット２８００を含むことができる。また、実施形態に従う照明装置は、部材２３００とホルダー２５００のうち、いずれか１つ以上をさらに含むことができる。前記光源モジュール２２００は、実施形態に従う発光素子パッケージを含むことができる。

【0285】

例えば、前記カバー２１００は、バルブ（bulb）または半球形状を有し、中空であり、一部分が開口された形状に提供できる。前記カバー２１００は、前記光源モジュール２２００と光学的に結合できる。例えば、前記カバー２１００は前記光源モジュール２２００から提供される光を拡散、散乱、または励起させることができる。前記カバー２１００は一種の光学部材でありうる。前記カバー２１００は、前記放熱体２４００と結合できる。前記カバー２１００は、前記放熱体２４００と結合する結合部を有することができる。

【0286】

前記カバー２１００の内面には乳白色塗料がコーティングできる。乳白色の塗料は光を拡散させる拡散材を含むことができる。前記カバー２１００の内面の表面粗さは前記カバー２１００の外面の表面粗さより大きく形成できる。これは、前記光源モジュール２２００からの光が十分に散乱及び拡散されて外部に放出させるためである。

【0287】

前記カバー２１００の材質は、ガラス（glass）、プラスチック、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリカーボネート（ＰＣ）などであることがある。ここで、ポリカーボネートは、耐光性、耐熱性、強度に優れる。前記カバー２１００は、外部から前記光源モジュール２２００が見えるように透明であるか、不透明であることがある。前記カバー２１００は、ブロー（blow）成形により形成できる。

【0288】

前記光源モジュール２２００は、前記放熱体２４００の一面に配置できる。したがって、前記光源モジュール２２００からの熱は前記放熱体２４００に伝えられる。前記光源モジュール２２００は、光源部２２１０、連結プレート２２３０、及びコネクター２２５０を含むことができる。

【0289】

前記部材２３００は前記放熱体２４００の上面の上に配置され、複数の光源部２２１０とコネクター２２５０が挿入されるガイド溝２３１０を有する。前記ガイド溝２３１０は、前記光源部２２１０の基板及びコネクター２２５０と対応する。

【0290】

前記部材２３００の表面は光反射物質で塗布またはコーティングされたものであることがある。例えば、前記部材２３００の表面は白色の塗料で塗布またはコーティングされたものであることがある。このような前記部材２３００は、前記カバー２１００の内面に反射されて前記光源モジュール２２００方向に戻る光をまた前記カバー２１００方向に反射する。したがって、実施形態に従う照明装置の光効率を向上させることができる。

【0291】

前記部材２３００は、例として絶縁物質からなることができる。前記光源モジュール２２００の連結プレート２２３０は、電気伝導性の物質を含むことができる。したがって、前記放熱体２４００と前記連結プレート２２３０との間に電気的な接触がなされることができる。前記部材２３００は絶縁物質で構成されて前記連結プレート２２３０と前記放熱体２４００との電気的短絡を遮断することができる。前記放熱体２４００は、前記光源モジュール２２００からの熱と前記電源提供部２６００からの熱の伝達を受けて放熱する。

【0292】

前記ホルダー２５００は、内部ケース２７００の絶縁部２７１０の収納溝２７１９を塞ぐ。したがって、前記内部ケース２７００の前記絶縁部２７１０に収納される前記電源提供部２６００は密閉される。前記ホルダー２５００は、ガイド突出部２５１０を有する。前記ガイド突出部２５１０は、前記電源提供部２６００の突出部２６１０が貫通するホールを有する。

【0293】

前記電源提供部２６００は、外部から提供を受けた電気的信号を処理または変換して前記光源モジュール２２００に提供する。前記電源提供部２６００は、前記内部ケース２７００の収納溝２７１９に収納され、前記ホルダー２５００により前記内部ケース２７００の内部に密閉される。

【0294】

前記電源提供部２６００は、突出部２６１０、ガイド部２６３０、ベース２６５０、及び延長部２６７０を含むことができる。

【0295】

前記ガイド部２６３０は前記ベース２６５０の一側から外部に突出した形状を有する。前記ガイド部２６３０は、前記ホルダー２５００に挿入できる。前記ベース２６５０の一面の上に多数の部品が配置できる。多数の部品は、例えば、外部電源から提供される交流電源を直流電源に変換する直流変換装置、前記光源モジュール２２００の駆動を制御する駆動チップ、前記光源モジュール２２００を保護するためのＥＳＤ（Electro Static discharge）保護素子などを含むことができるが、これに対して限定するものではない。

【0296】

前記延長部２６７０は、前記ベース２６５０の他側から外部に突出した形状を有する。前記延長部２６７０は、前記内部ケース２７００の連結部２７５０の内部に挿入され、外部からの電気的信号の提供を受ける。例えば、前記延長部２６７０は前記内部ケース２７００の連結部２７５０の幅と等しいか小さく提供できる。前記延長部２６７０には“＋電線”と“−電線”の各一端が電気的に連結され、“＋電線”と“−電線”の他端はソケット２８００に電気的に連結できる。

【0297】

前記内部ケース２７００は、内部に前記電源提供部２６００と共にモールディング部を含むことができる。モールディング部はモールディング液体が固まった部分であって、前記電源提供部２６００が前記内部ケース２７００の内部に固定できるようにする。

【0298】

以上、実施形態に説明された特徴、構造、効果などは、本発明の少なくとも１つの実施形態に含まれ、必ずしも１つの実施形態のみに限定されるものではない。延いては、各実施形態で例示された特徴、構造、効果などは、実施形態が属する分野の通常の知識を有する者により他の実施形態に対しても組合または変形されて実施可能である。したがって、このような組合と変形に関連した内容は本発明の範囲に含まれることと解釈されるべきである。

【0299】

以上、本発明を好ましい実施形態をもとに説明したが、これは単なる例示であり、本発明を限定するのでない。本発明の本質的な特性を逸脱しない範囲内で、多様な変形及び応用が可能であることが当業者にとって明らかである。例えば、実施形態に具体的に表れた各構成要素は変形して実施することができ、このような変形及び応用にかかわる差異点も、特許請求の範囲で規定する本発明の範囲に含まれるものと解釈されるべきである。

【符号の説明】

【0300】

１０発光構造物
１１第１導電型半導体層
１２活性層
１３第２導電型半導体層
１５オーミック接触層
１７反射層
３０チャンネル層
３５第１金属層
４０絶縁層
４５保護膜
５０第２金属層
６０ボンディング層
７０伝導性支持部材
８０第１電極
８５ラフネス
８７第２電極
９０第１連結部
９５第２連結部

【図1】