特許 6239430 連続メッキ処理設備及び連続メッキ処理方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6239430

(24)【登録日】2017年11月10日

(45)【発行日】2017年11月29日

(54)【発明の名称】連続メッキ処理設備及び連続メッキ処理方法

(51)【国際特許分類】

   C23C 18/31 20060101AFI20171120BHJP

   C25D 17/00 20060101ALI20171120BHJP

   C25D 19/00 20060101ALI20171120BHJP

   C25D 5/44 20060101ALI20171120BHJP

   C23C 18/18 20060101ALI20171120BHJP

【ＦＩ】

   C23C18/31 E

   C25D17/00 B

   C25D17/00 L

   C25D19/00 D

   C25D5/44

   C23C18/18

【請求項の数】8

【全頁数】24

(21)【出願番号】特願2014-78724(P2014-78724)

(22)【出願日】2014年4月7日

(65)【公開番号】特開2015-14045(P2015-14045A)

(43)【公開日】2015年1月22日

【審査請求日】2016年11月8日

(31)【優先権主張番号】特願2013-117171(P2013-117171)

(32)【優先日】2013年6月3日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】306022513

【氏名又は名称】新日鉄住金エンジニアリング株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100090697

【弁理士】

【氏名又は名称】中前 富士男

(74)【代理人】

【識別番号】100127155

【弁理士】

【氏名又は名称】来田 義弘

(74)【代理人】

【識別番号】100176142

【弁理士】

【氏名又は名称】清井 洋平

(72)【発明者】

【氏名】益田 一隆

(72)【発明者】

【氏名】金田 文香

【審査官】 辰己 雅夫

(56)【参考文献】

【文献】 特開平０５−１４８６６０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−２８５６５２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０７−２６８６８５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 実開昭５９−０７３３６８（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 実開平０１−０６５８６１（ＪＰ，Ｕ）

【文献】 特開２００５−２７２９９９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−２００７２７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２０１１／００２７９８７（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 特開２０１１−０２６６８０（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ２３Ｃ１８／００−２０／０８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

連続的に搬送されるアルミニウム製又はアルミニウム合金製のストリップの表面に亜鉛皮膜を形成するジンケート処理装置と、前記亜鉛皮膜を形成した前記ストリップの表面に金属メッキを施すメッキ処理装置とを有する連続メッキ処理設備であって、
前記ジンケート処理装置は、前記ストリップの表面とは隙間を有して対向配置される処理液ガイド部材と、ジンケート処理液を前記ストリップと前記処理液ガイド部材との間の前記隙間に噴射する処理液噴射手段とを有し、
前記ジンケート処理装置の上流側にはエッチング処理装置が設けられ、該エッチング処理装置は、前記ストリップの表面とは第２の隙間を有して対向配置されるエッチング処理液ガイド部材と、硫酸水溶液からなるエッチング処理液を前記ストリップと前記エッチング処理液ガイド部材との間の前記第２の隙間に噴射するエッチング処理液噴射手段とを有することを特徴とする連続メッキ処理設備。

【請求項2】

請求項１記載の連続メッキ処理設備において、前記処理液ガイド部材は、前記ストリップが通過する搬送路を内部に備える処理槽を形成し、該処理槽の前記ストリップの搬出口に前記処理液噴射手段を設け、前記搬出口から前記処理槽の前記ストリップの搬入口へ向けてジンケート処理液を流すことを特徴とする連続メッキ処理設備。

【請求項3】

請求項２記載の連続メッキ処理設備において、前記処理槽の前記搬送路の長さを、前記ストリップのジンケート処理液による処理時間に基づいて設定したことを特徴とする連続メッキ処理設備。

【請求項4】

請求項１〜３のいずれか１項に記載の連続メッキ処理設備において、前記エッチング処理液ガイド部材は、前記ストリップが通過する第２の搬送路を内部に備える第２の処理槽を形成し、該第２の処理槽の前記ストリップの第２の搬出口に前記エッチング処理液噴射手段を設け、前記第２の搬出口から前記第２の処理槽の第２の搬入口へ向けてエッチング処理液を流すことを特徴とする連続メッキ処理設備。

【請求項5】

請求項４記載の連続メッキ処理設備において、前記第２の処理槽の前記第２の搬送路の長さを、前記ストリップのエッチング処理液による処理時間に基づいて設定したことを特徴とする連続メッキ処理設備。

【請求項6】

請求項１〜５のいずれか１項に記載の連続メッキ処理設備を用い、前記エッチング処理装置の前記エッチング処理液噴射手段から噴射されるエッチング処理液の前記ストリップに対する相対速度を０．２５ｍ／秒以上とし、前記ジンケート処理装置によって前記ストリップの表面に前記亜鉛皮膜を形成した後、前記メッキ処理装置によって前記亜鉛皮膜を形成した前記ストリップの表面に前記金属メッキを施すことを特徴とする連続メッキ処理方法。

【請求項7】

請求項６記載の連続メッキ処理方法において、前記ジンケート処理装置の前記処理液噴射手段から噴射されるジンケート処理液の前記ストリップに対する相対速度を０．２５ｍ／秒以上とすることを特徴とする連続メッキ処理方法。

【請求項8】

請求項７記載の連続メッキ処理方法において、前記ジンケート処理装置による処理は１回のみ行うことを特徴とする連続メッキ処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、連続的に搬送されるアルミニウム製又はアルミニウム合金製のストリップに金属メッキを施す連続メッキ処理設備及び連続メッキ処理方法に関する。

【背景技術】

【0002】

アルミニウム（アルミニウム合金も同様）は、その表面に酸化皮膜層が形成されているため、難メッキ材として知られている。このため、アルミニウムの表面に直接メッキを行っても、高い密着性が得られない。
そこで、メッキの密着性向上を目的とする前処理として、例えば、特許文献１に示すように、アルミニウムの表面を亜鉛で置換処理（ジンケート処理）する方法が用いられている。この前処理は、図１３に示すように、脱脂処理、アルカリエッチング処理、スマット除去処理、第一ジンケート処理、亜鉛剥離処理、及び第二ジンケート処理という各工程から構成され、この前処理を経た後、メッキ処理と乾燥処理の各工程で処理を行うことにより、メッキ製品が得られる。また、例えば、特許文献２には、上記のアルカリエッチング処理とスマット除去処理の二工程を、酸エッチング処理の一工程に減らすことが記載されている。なお、各工程の間には、水洗処理の工程がある。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特許第３０３３４５５号公報

【特許文献2】特許第３２９７８６０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかしながら、アルカリエッチング処理では、処理中にアルミニウムが多量に溶解するため、素材歩留が低くなるという問題がある。
また、上記前処理のうち、第一、第二ジンケート処理は、それぞれ数十秒程度行われており、処理時間が長くなって、生産性向上を阻害する。
特に、この処理を、連続的に搬送される帯状のアルミニウム基材（ストリップ）へ適用しようとすると、処理時間に比例した処理設備長が必要であり、設備コストが高くなるという問題もある。つまり、生産性の向上と設備コストの低減を図るには、処理時間を短縮する必要がある。
なお、処理時間短縮のため、上記したジンケート処理の回数を１回のみとすることも考えられるが、１回のみでは、アルミニウム表面の酸化皮膜層の除去が不均一になり、置換析出する亜鉛がその影響を受け、アルミニウム全面に均一に析出せず、後工程で形成するメッキの密着性が悪くなる。
一方、酸エッチング処理ではエッチング処理液として、毒性が強い酸性ふっ化アンモンに硝酸及び硫酸等を加えた混合液を使用するため、エッチング処理液が環境に与える負荷は高く、エッチング処理液の管理負担や廃エッチング処理液の無害化処理負担が高くなるという問題がある。

【0005】

本発明はかかる事情に鑑みてなされたもので、良好な品質のアルミニウムのメッキ製品を、経済的に、かつ、生産性よく製造可能な連続メッキ処理設備及び連続メッキ処理方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

前記目的に沿う第１の発明に係る連続メッキ処理設備は、連続的に搬送されるアルミニウム製又はアルミニウム合金製のストリップの表面に亜鉛皮膜を形成するジンケート処理装置と、前記亜鉛皮膜を形成した前記ストリップの表面に金属メッキを施すメッキ処理装置とを有する連続メッキ処理設備であって、
前記ジンケート処理装置は、前記ストリップの表面とは隙間を有して対向配置される処理液ガイド部材と、ジンケート処理液を前記ストリップと前記処理液ガイド部材との間の前記隙間に噴射する処理液噴射手段とを有し、
前記ジンケート処理装置の上流側にはエッチング処理装置が設けられ、該エッチング処理装置は、前記ストリップの表面とは第２の隙間を有して対向配置されるエッチング処理液ガイド部材と、硫酸水溶液からなるエッチング処理液を前記ストリップと前記エッチング処理液ガイド部材との間の前記第２の隙間に噴射するエッチング処理液噴射手段とを有する。

【0007】

第１の発明に係る連続メッキ処理設備において、前記処理液ガイド部材は、前記ストリップが通過する搬送路を内部に備える処理槽を形成し、該処理槽の前記ストリップの搬出口に前記処理液噴射手段を設け、前記搬出口から前記処理槽の前記ストリップの搬入口へ向けてジンケート処理液を流すことが好ましい。

【0008】

第１の発明に係る連続メッキ処理設備において、前記処理槽の前記搬送路の長さを、前記ストリップのジンケート処理液による処理時間に基づいて設定することができる。

【0010】

第１の発明に係る連続メッキ処理設備において、前記エッチング処理液ガイド部材は、前記ストリップが通過する第２の搬送路を内部に備える第２の処理槽を形成し、該第２の処理槽の前記ストリップの第２の搬出口に前記エッチング処理液噴射手段を設け、前記第２の搬出口から前記第２の処理槽の第２の搬入口へ向けてエッチング処理液を流すことが好ましい。

【0011】

第１の発明に係る連続メッキ処理設備において、前記第２の処理槽の前記第２の搬送路の長さを、前記ストリップのエッチング処理液による処理時間に基づいて設定することができる。

【0013】

前記目的に沿う第２の発明に係る連続メッキ処理方法は、第１の発明に係る連続メッキ処理設備を用い、前記エッチング処理装置の前記エッチング処理液噴射手段から噴射されるエッチング処理液の前記ストリップに対する相対速度を０．２５ｍ／秒以上とし、前記ジンケート処理装置によって前記ストリップの表面に前記亜鉛皮膜を形成した後、前記メッキ処理装置によって前記亜鉛皮膜を形成した前記ストリップの表面に前記金属メッキを施す。

【0014】

第２の発明に係る連続メッキ処理方法において、前記ジンケート処理装置の前記処理液噴射手段から噴射されるジンケート処理液の前記ストリップに対する相対速度を０．２５ｍ／秒以上とすることが好ましい。

【0015】

第２の発明に係る連続メッキ処理方法において、前記ジンケート処理装置による処理は１回のみ行うことが好ましい。

【発明の効果】

【0016】

本発明に係る連続メッキ処理設備及び連続メッキ処理方法は、連続的に搬送されるアルミニウム製又はアルミニウム合金製のストリップと、その表面に対向配置される処理液ガイド部材との間の隙間に、処理液噴射手段によってジンケート処理液を噴射するジンケート処理装置を用いるため、従来よりも短時間に、ストリップ全面に亜鉛を均一に析出させることができる。
これにより、良好な品質のアルミニウムのメッキ製品を、経済的に、かつ、生産性よく、連続的に製造できる。

【0017】

特に、連続的に搬送されるアルミニウム製又はアルミニウム合金製のストリップと、その表面に対向配置されるエッチング処理液ガイド部材との間の第２の隙間に、エッチング処理液噴射手段によって硫酸水溶液からなるエッチング処理液を噴射するエッチング処理装置を用いるので、スマット除去処理を行うスマット除去処理装置が不要になって、処理時間の短縮に伴う生産性の向上と、処理設備長の短縮に伴う設備コストの低減を図ることができる。
更に、エッチング処理時におけるアルミニウムの溶解量が低減され、素材歩留が向上し、エッチング処理液の管理や廃エッチング処理液の無害化処理が容易となる。

【図面の簡単な説明】

【0018】

【図1】本発明の第１の実施の形態に係る連続メッキ処理設備の説明図である。

【図2】（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ同連続メッキ処理設備のジンケート処理装置の側断面図、正断面図、平面図である。

【図3】変形例に係る連続メッキ処理設備の説明図である。

【図4】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ同連続メッキ処理設備のジンケート処理装置の側断面図、平断面図である。

【図5】本発明の第１の実施の形態に係る連続メッキ処理方法のフローチャートである。

【図6】本発明の第２の実施の形態に係る連続メッキ処理設備の説明図である。

【図7】（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ同連続メッキ処理設備のエッチング処理装置の側断面図、正断面図、平面図である。

【図8】第２の変形例に係る連続メッキ処理設備の説明図である。

【図9】（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ同連続メッキ処理設備のエッチング処理装置の側断面図、平断面図である。

【図10】本発明の第２の実施の形態に係る連続メッキ処理方法のフローチャートである。

【図11】（Ａ）は従来例１の第一ジンケート処理後の試験片の顕微鏡写真、（Ｂ）は第二ジンケート処理後の試験片の顕微鏡写真である。

【図12】実施例１、２のジンケート処理後の試験片の顕微鏡写真である。

【図13】従来例に係る連続メッキ処理方法のフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0019】

続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明を具体化した実施の形態につき説明し、本発明の理解に供する。
図１に示すように、本発明の第１の実施の形態に係る連続メッキ処理設備（以下、単に処理設備ともいう）１０は、アルミニウム製（Ａｌ製）又はアルミニウム合金製（Ａｌ合金製）のストリップ１１の搬送方向の上流側から下流側へかけて順次配置された脱脂処理装置１２、エッチング処理装置１３、スマット除去処理装置１４、ジンケート処理装置１５、メッキ処理装置１６、及び乾燥処理装置１７を有し、連続的に搬送されるストリップ１１の表面に金属メッキを施す設備である。以下、詳しく説明する。

【0020】

脱脂処理装置１２は、脱脂処理液１８を貯留する処理槽１９と、この処理槽１９内の脱脂処理液１８中にストリップ１１を浸漬させる複数の浸漬ロール２０とを有している。これにより、コイル状となった未処理のストリップ（表面未処理基材）１１を、サポートロール２１を用いて巻き戻し、ロール２２を介して浸漬ロール２０により脱脂処理液１８中に浸漬させ、ストリップ１１の表面に付着している油分を除去できる。
なお、脱脂処理装置１２で処理されたストリップ１１は、水洗槽２３にて水洗処理され、エッチング処理装置１３へ搬送される。

【0021】

エッチング処理装置１３は、エッチング処理液２４を貯留する処理槽２５と、この処理槽２５内のエッチング処理液２４中にストリップ１１を浸漬させる複数の浸漬ロール２６とを有している。これにより、脱脂処理後のストリップ１１を、ロール２７を介して浸漬ロール２６によりエッチング処理液２４中に浸漬させ、ストリップ１１の表面に形成された酸化皮膜層を除去できる。
なお、エッチング処理装置１３で処理されたストリップ１１は、水洗槽２８にて水洗処理され、スマット除去処理装置１４へ搬送される。

【0022】

スマット除去処理装置１４は、スマット除去処理液２９を貯留する処理槽３０と、この処理槽３０内のスマット除去処理液２９中にストリップ１１を浸漬させる複数の浸漬ロール３１とを有している。これにより、エッチング処理後のストリップ１１を、ロール３２を介して浸漬ロール３１によりスマット除去処理液２９中に浸漬させ、エッチング処理時にストリップ１１の表面に浮き出たスマットを除去できる。
なお、スマット除去処理装置１４で処理されたストリップ１１は、水洗槽３３にて水洗処理され、ジンケート処理装置１５へ搬送される。

【0023】

ジンケート処理装置１５は、図１、図２（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、処理槽３４と、この処理槽３４内にジンケート処理液を噴射する薬液供給ヘッダー（処理液噴射手段の一例）３５、３６とを有している。
処理槽３４は、連続的に搬送されるストリップ１１が、水平状態で通過する搬送路３７を内部に備える断面矩形状（断面長方形）の槽である。この処理槽３４には、ストリップ１１の搬送方向上流側に、ストリップ１１が送り込まれる搬入口３８が、ストリップ１１の搬送方向下流側に、ストリップ１１が送り出される搬出口３９が、それぞれ設けられている。

【0024】

ここで、ストリップ１１の厚み方向両側に位置する処理槽３４の側壁４０、４１はそれぞれ、ストリップ１１の表面（即ち、上面４２と下面４３）と隙間４４、４５を有して平行に対向配置されている。このように、処理槽３４は、側壁４０、４１となる処理液ガイド部材により形成される。
また、処理槽３４の搬入口３８側と搬出口３９側（ストリップ１１の搬送方向上流側と搬送方向下流側）には、それぞれサポートロール４６、４７が設けられ、ストリップ１１が、水平状態で処理槽３４内を通過するようにしている。
なお、処理槽の断面形状は、処理槽の側壁がストリップの表面と隙間を有して対向配置されれば、上記した形状に限定されるものではない。

【0025】

薬液供給ヘッダー３５、３６は、ジンケート処理液を噴出可能な噴出口が、長手方向に渡ってスリット状（細い矩形状）に形成された管状のものである。この薬液供給ヘッダー３５、３６は、ストリップ１１の厚み方向両側に配置され、しかも、処理槽３４の搬出口３９に、その幅方向（ストリップ１１の搬送方向に直交する方向）に沿ってそれぞれ設けられている。
これにより、ジンケート処理液を、ストリップ１１の上面４２と処理槽３４の側壁４０との間の隙間４４に、また、ストリップ１１の下面４３と処理槽３４の側壁４１との間の隙間４５に、処理槽３４の搬出口３９側から搬入口３８側へ向けて噴射できる。この隙間４４、４５の各間隔は、ジンケート処理液を噴射可能な間隔を有していれば、特に限定されるものではないが、例えば、１ｃｍ以上５ｃｍ以下程度である。

【0026】

なお、薬液供給ヘッダー３５、３６の設置位置は、上記した位置に限定されるものではなく、例えば、薬液供給ヘッダーを、処理槽の搬入口に、その幅方向に沿って設けてもよく、場合によっては、ストリップの幅方向両側に位置する側壁に孔を形成し、この側壁（ストリップの搬送方向）に沿って設けることもできる。
また、ストリップ１１が処理槽３４の搬送路３７を通過している時間が、ジンケート処理液による処理時間となるため、処理槽３４の搬送路３７（搬送方向の側壁４０、４１）の長さＬは、ストリップ１１のジンケート処理液による処理時間に基づいて設定することが好ましい。

【0027】

以上の構成により、スマット除去処理後のストリップ１１を、ロール４８を介してサポートロール４６、４７により処理槽３４内に搬入させ、ストリップ１１の表面に亜鉛皮膜を形成できる。そして、ジンケート処理装置１５で処理されたストリップ１１は、水洗槽４９にて水洗処理され、メッキ処理装置１６へ搬送される。
なお、ここでは、ジンケート処理装置１５を、１台のみ設けた場合について説明したが、必要に応じて２台以上（１０台以下、更には５台以下程度）の複数台設けることもできる。
また、ジンケート処理に使用されたジンケート処理液は、処理槽３４の下方に配置された薬液受槽５０により回収され、薬液排出口５１を介して循環使用できる。

【0028】

図１に示すように、メッキ処理装置１６は、メッキ処理液５２を貯留する処理槽５３と、この処理槽５３内のメッキ処理液５２中にストリップ１１を浸漬させる複数の浸漬ロール５４とを有している。また、処理槽５３の上方には、通電ロール５５が配置され、処理槽５３内（メッキ処理液５２中）には、メッキ電極５６が配置されている。
これにより、ジンケート処理後のストリップ１１を、通電ロール５５を介して浸漬ロール５４によりメッキ処理液５２中に浸漬させ、亜鉛皮膜を形成したストリップ１１の表面に金属メッキを電気メッキすることができる。なお、ストリップ１１の表面の金属メッキは、電気メッキに限定されるものではなく、無電解メッキ、例えば、無電解ニッケルメッキや無電解銅メッキとしてもよい。この場合は、メッキ処理液５２として無電解メッキ液を使用し、通電ロール５５やメッキ電極５６への通電を行わないか、あるいは、通電ロール５５をサポートロールに変更すると共に、メッキ電極５６をメッキ処理装置１６から取り外せばよい。
このメッキ処理装置１６で処理されたストリップ１１は、水洗槽５７にて水洗処理され、乾燥処理装置１７へ搬送される。

【0029】

乾燥処理装置１７は、メッキ処理後に水洗処理されたストリップ１１の表面を乾燥させるものであれば、特に限定されるものではない。
このように、乾燥処理装置１７で乾燥処理した処理済みのストリップ１１（表面処理済み基材）を、ロール５８を介してコイル状に巻き取る。
以上に示したように、連続メッキ処理設備１０は、ジンケート処理装置１５において、ストリップ１１を水平方向に搬送しながらジンケート処理しているが、この設備構成に限定されるものではなく、例えば、図３に示す連続メッキ処理設備６０のように、ジンケート処理装置６４において、ストリップ１１を上下方向に搬送しながらジンケート処理する設備構成でもよい。

【0030】

以下、連続メッキ処理設備６０について説明するが、前記した連続メッキ処理設備１０と同一部材には同一番号を付し、詳しい説明を省略する。
図３に示すように、連続メッキ処理設備（以下、単に処理設備ともいう）６０は、ストリップ１１の搬送方向の上流側から下流側へかけて順次配置された脱脂処理装置６１、エッチング処理装置６２、スマット除去処理装置６３、ジンケート処理装置６４、メッキ処理装置６５、及び乾燥処理装置１７を有し、連続的に搬送されるストリップ１１の表面に金属メッキを施す設備である。なお、これらの各処理装置は、前記した連続メッキ処理設備１０の各処理装置と同様の機能を有するものであるため、以下、簡単に説明する。

【0031】

脱脂処理装置６１は、脱脂処理液１８を貯留する処理槽６６と、この処理槽６６内の脱脂処理液１８中にストリップ１１を浸漬させる浸漬ロール２０とを有している。
エッチング処理装置６２は、エッチング処理液２４を貯留する処理槽６７と、この処理槽６７内のエッチング処理液２４中にストリップ１１を浸漬させる浸漬ロール２６とを有している。
スマット除去処理装置６３は、スマット除去処理液２９を貯留する処理槽６８と、この処理槽６８内のスマット除去処理液２９中にストリップ１１を浸漬させる浸漬ロール３１とを有している。
なお、上記した各処理槽６６〜６８はそれぞれ、前記した各処理槽１９、２５、３０より、深さが深く（高さが高く）、ストリップ１１の搬送方向の長さ（幅）が狭い。

【0032】

ジンケート処理装置６４は、図３、図４（Ａ）、（Ｂ）に示すように、処理槽６９、７０と、ストリップ１１の搬送方向上流側に配置される処理槽６９内に、ジンケート処理液を噴射する薬液供給ヘッダー（処理液噴射手段の一例）７１、７２と、ストリップ１１の搬送方向下流側に配置される処理槽７０内に、ジンケート処理液を噴射する薬液供給ヘッダー（処理液噴射手段の一例）７３、７４とを有している。
なお、処理槽６９と処理槽７０は、前記した処理槽３４と略同様の構成であり、また薬液供給ヘッダー７１、７２と薬液供給ヘッダー７３、７４も、前記した薬液供給ヘッダー３５、３６と略同様の構成であるため、簡単に説明する。

【0033】

一方の処理槽６９は、連続的に搬送されるストリップ１１が、サポートロール７５、７６により、上方から下方へかけて垂直状態で通過する搬送路７７を内部に備える断面矩形状の槽である。また、他方の処理槽７０は、連続的に搬送されるストリップ１１が、サポートロール７６、７８により、下方から上方へかけて垂直状態で通過する搬送路７９を内部に備える断面矩形状の槽である。
この各処理槽６９、７０には、ストリップ１１の搬送方向上流側に、ストリップ１１が送り込まれる搬入口８０が、ストリップ１１の搬送方向下流側に、ストリップ１１が送り出される搬出口８１が、それぞれ設けられている。
また、ストリップ１１の厚み方向両側に位置する処理槽６９、７０の各側壁８２、８３はそれぞれ、ストリップ１１の表面（即ち、一面８４と他面８５）と隙間８６、８７を有して平行に対向配置されている。このように、各処理槽６９、７０はそれぞれ、側壁８２、８３となる処理液ガイド部材により形成される。

【0034】

薬液供給ヘッダー７１、７２（薬液供給ヘッダー７３、７４も同様）は、ジンケート処理液を噴出可能な噴出口が、長手方向に渡ってスリット状（細い矩形状）に形成された管状のものである。この薬液供給ヘッダー７１、７２は、ストリップ１１の厚み方向両側に配置され、しかも、各処理槽６９、７０の搬出口８１に、その幅方向（ストリップ１１の搬送方向に直交する方向）に沿ってそれぞれ設けられている。
これにより、ジンケート処理液を、ストリップ１１の一面８４と処理槽６９の側壁８２との間の隙間８６に、また、ストリップ１１の他面８５と処理槽６９の側壁８３との間の隙間８７に、処理槽６９の搬出口８１側から搬入口８０側へ向けて噴射できる。
なお、薬液供給ヘッダー７１、７２の設置位置は、上記した位置に限定されるものではなく、例えば、薬液供給ヘッダーを、処理槽の搬入口に、その幅方向に沿って設けてもよく、場合によっては、ストリップの幅方向両側に位置する側壁に孔を形成し、この側壁（ストリップの搬送方向）に沿って設けることもできる。

【0035】

また、ジンケート処理に使用されたジンケート処理液は、ストリップ１１の搬送方向上流側（処理槽６９の上部、処理槽７０の下部）に設けられた薬液受槽８８により回収され、薬液排出口８９を介して循環使用される。
以上の構成により、スマット除去処理後のストリップ１１を、サポートロール７５、７６により処理槽６９内に搬入させ、更に、サポートロール７６、７８により処理槽７０内に搬入させて、ストリップ１１の表面に亜鉛皮膜を形成できる。

【0036】

図３に示すように、メッキ処理装置６５は、メッキ処理液５２を貯留する処理槽９０と、この処理槽９０内のメッキ処理液５２中にストリップ１１を浸漬させる複数の浸漬ロール５４とを有している。なお、処理槽９０は、前記した処理槽５３より、深さが深く（高さが高く）、ストリップ１１の搬送方向の長さ（幅）が狭い。
また、処理槽９０の上方には、通電ロール５５が配置され、処理槽９０内（メッキ処理液５２中）には、メッキ電極５６が配置されている。
以上に示したように、連続メッキ処理設備６０は、ジンケート処理装置６４において、ストリップ１１を上下方向に搬送しながらジンケート処理する設備構成であるので、前記した連続メッキ処理設備１０よりも、設置スペースの省スペース化を図ることができる。

【0037】

続いて、本発明の第１の実施の形態に係る連続メッキ処理方法について説明する。なお、前記した連続メッキ処理設備１０と連続メッキ処理設備６０は、設備を構成するジンケート処理装置において、ジンケート処理する際のストリップ１１の搬送方向が異なるのみであり、ストリップ１１に対して行う処理は実質的に同じであるため、以下、図１、図２（Ａ）〜（Ｃ）、及び図５を参照しながら説明する。
図１に示すメッキ処理を行うストリップ１１は、アルミニウム製又はアルミニウム合金製である。ここで、アルミニウム合金としては、例えば、１１００、１０８５や１Ｎ３０等の１０００番（純アルミ）系や、３０００番（Ａｌ−Ｍｎ合金）系、５０００番（Ａｌ−Ｍｎ合金）、８０００番（Ａｌ−Ｆｅ合金）系等がある。

【0038】

（脱脂処理工程）
コイル状となった未処理のストリップ１１を、サポートロール２１を用いて巻き戻し、脱脂処理装置１２へ送る。そして、ストリップ１１を、ロール２２を介して浸漬ロール２０により脱脂処理液１８中に浸漬させ、ストリップ１１の表面に付着している油分を除去する。なお、脱脂処理の処理条件（温度や時間等）は、従来の条件で実施でき、また、脱脂処理液１８も、従来使用されている脱脂処理液（例えば、日本パーカラインジグ（株）製のＦＣ−４４７７Ｍ等）を使用できる。
（水洗処理工程）
上記した脱脂処理装置１２で処理されたストリップ１１を、水洗槽２３にて水洗処理し、エッチング処理装置１３へ搬送する。

【0039】

（エッチング処理工程）
脱脂処理後のストリップ１１を、ロール２７を介して浸漬ロール２６によりエッチング処理液２４中に浸漬させ、ストリップ１１の表面に形成された酸化皮膜層を除去する。なお、エッチング処理の処理条件（温度や時間等）は、従来の条件で実施でき、また、エッチング処理液２４も、従来使用されているエッチング処理液（例えば、ＮａＯＨ（好ましくは、グルコン酸ナトリウムのような錯化剤を添加）等）を使用できる。
（水洗処理工程）
上記したエッチング処理装置１３で処理されたストリップ１１を、水洗槽２８にて水洗処理し、スマット除去処理装置１４へ搬送する。

【0040】

（スマット除去処理工程）
エッチング処理後のストリップ１１を、ロール３２を介して浸漬ロール３１によりスマット除去処理液２９中に浸漬させ、エッチング処理時にストリップ１１の表面に浮き出たスマットを除去する。なお、スマット除去処理の処理条件（温度や時間等）は、従来の条件で実施でき、また、スマット除去処理液２９も、従来使用されているスマット除去処理液（例えば、日本表面化学（株）製のＲＫ−４５５等）を使用できる。
（水洗処理工程）
上記したスマット除去処理装置１４で処理されたストリップ１１を、水洗槽３３にて水洗処理し、ジンケート処理装置１５へ搬送する。

【0041】

（ジンケート処理工程）
スマット除去処理後のストリップ１１を、ロール４８を介してサポートロール４６、４７により処理槽３４内に搬入させ、ストリップ１１の表面に、アルミニウムの溶解に対して亜鉛（Ｚｎ）を置換析出させて亜鉛皮膜を形成する。なお、ジンケート処理液には、従来使用されているジンケート処理液（例えば、日本表面化学（株）製のＺ−１７１６等）を使用できる。
この亜鉛皮膜の形成は、一方の薬液供給ヘッダー３５により、ストリップ１１の上面４２と処理槽３４の側壁４０との間の隙間４４に、また、他方の薬液供給ヘッダー３６により、ストリップ１１の下面４３と処理槽３４の側壁４１との間の隙間４５に、それぞれジンケート処理液を噴射することで（噴流下で）行われる。

【0042】

このように、ジンケート処理液を噴射（噴流下で処理）することで、従来よりも短時間で、ストリップ１１の表面に亜鉛皮膜を形成できる。これは、以下の理由によるものと推定される。
ストリップを構成するアルミニウム表面の酸化皮膜の厚み分布や合金成分の分布は、表面全体で一様ではない。このため、従来のような、ストリップの単純な浸漬や、スターラーによる緩やかな撹拌条件下では、酸化皮膜の薄い箇所が優先的に溶解するため、結果として溶解し易い箇所に亜鉛が析出し易い。
一方、上記したジンケート処理液を噴射する条件下では、ある程度、酸化皮膜の分布が変動していても、アルミニウムの溶解と亜鉛の析出が加速促進され、表面全体で微細な亜鉛を析出できる。

【0043】

従って、ジンケート処理の時間短縮には、ジンケート処理液を噴射することが有効であると考えられるが、より具体的には、各薬液供給ヘッダー３５、３６から噴射するジンケート処理液のストリップ１１に対する相対速度を０．２５ｍ／秒以上（更には、０．５ｍ／秒以上）にすることが好ましい。
なお、上記した相対速度は、各薬液供給ヘッダー３５、３６から噴射されるジンケート処理液の噴射速度と、連続的に搬送されるストリップ１１の搬送速度との差である。従って、ジンケート処理液の噴射速度は、ストリップ１１の搬送速度に応じて調整するのがよい。

【0044】

ここで、相対速度が０．２５ｍ／秒未満である場合、相対速度が遅過ぎて、上記した効果が充分に得られず、ストリップ表面の全体に渡って微細な亜鉛を析出できないと考えられる。
一方、相対速度が速くなれば、上記した効果が得られると考えられるため、上限値については規定していない。しかし、相対速度が速くなるに伴い、例えば、ジンケート処理液を噴射するためのポンプが大掛かりとなって設備コストがかかると共に、ジンケート処理液の流れが乱れ、表面性状に悪影響を及ぼすおそれがあるため、例えば、１．５ｍ／秒程度がよい。

【0045】

なお、ジンケート処理装置１５のように、各薬液供給ヘッダー３５、３６が処理槽３４の搬出口３９に設けられている場合、ジンケート処理液は、処理槽３４の搬出口３９側から搬入口３８側へ向けて、即ちストリップ１１の搬送方向とは対向する方向へ向けて噴射される（対向流で処理される）。
このように、ジンケート処理液を、ストリップ１１の搬送方向とは対向する方向から噴射する場合、これ以外の方向から噴射する場合（例えば、ストリップ１１の搬送方向と同じ方向から噴射する場合）と比較して、薬液供給ヘッダーから噴射するジンケート処理液の噴射速度を遅くできるため、例えば、上記したポンプを小型化でき、設備コストの低減が図れる。

【0046】

上記したジンケート処理液による処理時間は、従来より短時間であり、例えば、３秒以上１０秒未満（更には、５秒以下）程度である。
以上のことから、ジンケート処理装置１５によるジンケート処理は、１回のみ行うことで、充分に、従来と同程度の品質が得られるが、例えば、２回以上（１０回以下、更には５回以下程度）の複数回行うことで、従来よりも、より高品質の製品を得ることもできる。なお、このように、ジンケート処理装置による処理を複数回行ったとしても、１回あたりの処理時間を従来よりも短くできるため、生産性の向上は図れる。

【0047】

（水洗処理工程）
上記したように、ジンケート処理装置１５で処理されたストリップ１１を、水洗槽４９にて水洗処理し、メッキ処理装置１６へ搬送する。

【0048】

（メッキ処理工程）
ジンケート処理後のストリップ１１を、通電ロール５５を介して浸漬ロール５４によりメッキ処理液５２中に浸漬させ、亜鉛皮膜を形成したストリップ１１の表面に金属メッキ（例えば、ニッケル（Ｎｉ）メッキや銅（Ｃｕ）メッキ）を電気メッキする。なお、電気メッキの処理条件（温度や時間、メッキ厚等）は、従来の条件で実施できる。
（水洗処理工程）
上記したように、メッキ処理装置１６で処理されたストリップ１１を、水洗槽５７にて水洗処理し、乾燥処理装置１７へ搬送する。

【0049】

（乾燥処理工程）
メッキ処理後に水洗処理されたストリップ１１の表面を乾燥させる。
このように、乾燥処理装置１７で乾燥処理した処理済みのストリップ１１を、ロール５８を介してコイル状に巻き取る。
これにより、メッキ製品が得られる。

【0050】

図６に示すように、本発明の第２の実施の形態に係る連続メッキ処理設備（以下、単に処理設備ともいう）９１は、本発明の第１の実施の形態に係る連続メッキ処理設備１０と比較して、エッチング処理装置１３、水洗槽２８、及びスマット除去処理装置１４を、エッチング処理液をストリップ１１に噴射してエッチング処理を行うエッチング処理装置９２に置き換えたことが特徴となっている。このため、連続メッキ処理設備１０と同一の装置、同一の構成部材には同一の符号を付して説明を省略し、エッチング処理装置９２についてのみ詳細に説明する。

【0051】

ジンケート処理装置１５の上流側に設けられたエッチング処理装置９２は、図６、図７（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、第２の処理槽９３と、この第２の処理槽９３内に硫酸水溶液からなるエッチング処理液を噴射するエッチング薬液供給ヘッダー（エッチング処理液噴射手段の一例）９４、９５とを有している。
そして、第２の処理槽９３は、連続的に搬送されるストリップ１１が、水平状態で通過する第２の搬送路９６を内部に備える断面矩形状（断面長方形）の槽である。この第２の処理槽９３には、ストリップ１１の搬送方向上流側に、ストリップ１１が送り込まれる第２の搬入口９７が、ストリップ１１の搬送方向下流側に、ストリップ１１が送り出される第２の搬出口９８が、それぞれ設けられている。
これにより、脱脂処理後のストリップ１１を、ロール２７を介して第２の搬入口９７により第２の処理槽９３内に進入させ、ストリップ１１の表面に形成された酸化皮膜層を除去できる。なお、エッチング処理装置９２で処理されたストリップ１１は、水洗槽３３にて水洗処理され、ジンケート処理装置１５へ搬送される。

【0052】

ここで、ストリップ１１の厚み方向両側に位置する第２の処理槽９３の第２の側壁９９、１００はそれぞれ、ストリップ１１の表面（即ち、上面４２と下面４３）と第２の隙間１０１、１０２を有して平行に対向配置されている。このように、第２の処理槽９３は、第２の側壁９９、１００となるエッチング処理液ガイド部材により形成される。
また、第２の処理槽９３の第２の搬入口９７側と第２の搬出口９８側（ストリップ１１の搬送方向上流側と搬送方向下流側）には、それぞれサポートロール１０３、１０４が設けられ、ストリップ１１が、水平状態で第２の処理槽９３内を通過するようにしている。
なお、第２の処理槽の断面形状は、第２の処理槽の第２の側壁がストリップの表面と第２の隙間を有して対向配置されれば、上記した形状に限定されるものではない。

【0053】

エッチング薬液供給ヘッダー９４、９５は、エッチング処理液を噴出可能な噴出口が、長手方向に渡ってスリット状（細い矩形状）に形成された管状のものである。このエッチング薬液供給ヘッダー９４、９５は、ストリップ１１の厚み方向両側に配置され、しかも、第２の処理槽９３の第２の搬出口９８に、その幅方向（ストリップ１１の搬送方向に直交する方向）に沿ってそれぞれ設けられている。
これにより、エッチング処理液を、ストリップ１１の上面４２と第２の処理槽９３の第２の側壁９９との間の第２の隙間１０１に、また、ストリップ１１の下面４３と第２の処理槽９３の第２の側壁１００との間の第２の隙間１０２に、第２の処理槽９３の第２の搬出口９８側から第２の搬入口９７側へ向けて噴射できる。この第２の隙間１０１、１０２の各間隔は、エッチング処理液を噴射可能な間隔を有していれば、特に限定されるものではないが、例えば、１ｃｍ以上５ｃｍ以下程度である。

【0054】

なお、エッチング薬液供給ヘッダー９４、９５の設置位置は、上記した位置に限定されるものではなく、例えば、エッチング薬液供給ヘッダーを、第２の処理槽の第２の搬入口に、その幅方向に沿って設けてもよく、場合によっては、ストリップの幅方向両側に位置する第２の側壁に孔を形成し、この第２の側壁（ストリップの搬送方向）に沿って設けることもできる。
また、ストリップ１１が第２の処理槽９３の第２の搬送路９６を通過している時間が、エッチング処理液による処理時間となるため、第２の処理槽９３の第２の搬送路９６（搬送方向の第２の側壁９９、１００）の長さＭは、ストリップ１１のエッチング処理液による処理時間に基づいて設定することが好ましい。

【0055】

次に、第２の変形例に係る連続メッキ処理設備１０５について説明するが、連続メッキ処理設備１０５は、本発明の第１の実施の形態の変形例に係る連続メッキ処理設備６０と比較して、エッチング処理装置６２、水洗槽２８、及びスマット除去処理装置６３を、エッチング処理液をストリップ１１に噴射してエッチング処理を行うエッチング処理装置１０６に置き換えたことが特徴となっている。このため、連続メッキ処理設備６０と同一の装置、同一の構成部材には同一の符号を付して説明を省略し、エッチング処理装置１０６についてのみ詳細に説明する。

【0056】

エッチング処理装置１０６は、図８、図９（Ａ）、（Ｂ）に示すように、第２の処理槽１０７、１０８と、ストリップ１１の搬送方向上流側に配置される第２の処理槽１０７内に、硫酸水溶液からなるエッチング処理液を噴射するエッチング薬液供給ヘッダー（エッチング処理液噴射手段の一例）１０９、１１０と、ストリップ１１の搬送方向下流側に配置される第２の処理槽１０８内に、エッチング処理液を噴射するエッチング薬液供給ヘッダー（エッチング処理液噴射手段の一例）１１１、１１２とを有している。
なお、第２の処理槽１０７と第２の処理槽１０８は、前記した第２の処理槽９３と略同様の構成であり、またエッチング薬液供給ヘッダー１０９、１１０とエッチング薬液供給ヘッダー１１１、１１２も、前記したエッチング薬液供給ヘッダー９４、９５と略同様の構成であるため、簡単に説明する。

【0057】

一方の第２の処理槽１０７は、連続的に搬送されるストリップ１１が、サポートロール１１３、１１４により、上方から下方へかけて垂直状態で通過する第２の搬送路１１５を内部に備える断面矩形状の槽である。また、他方の第２の処理槽１０８は、連続的に搬送されるストリップ１１が、サポートロール１１４、１１６により、下方から上方へかけて垂直状態で通過する第２の搬送路１１７を内部に備える断面矩形状の槽である。
この各第２の処理槽１０７、１０８には、ストリップ１１の搬送方向上流側に、ストリップ１１が送り込まれる第２の搬入口１１８が、ストリップ１１の搬送方向下流側に、ストリップ１１が送り出される第２の搬出口１１９が、それぞれ設けられている。
また、ストリップ１１の厚み方向両側に位置する第２の処理槽１０７、１０８の各第２の側壁１２０、１２１はそれぞれ、ストリップ１１の表面（即ち、一面８４と他面８５）と第２の隙間１２２、１２３を有して平行に対向配置されている。このように、各第２の処理槽１０７、１０８はそれぞれ、第２の側壁１２２、１２３となるエッチング処理液ガイド部材により形成される。

【0058】

エッチング薬液供給ヘッダー１０９、１１０（エッチング薬液供給ヘッダー１１１、１１２も同様）は、エッチング処理液を噴出可能な噴出口が、長手方向に渡ってスリット状（細い矩形状）に形成された管状のものである。このエッチング薬液供給ヘッダー１０９、１１０は、ストリップ１１の厚み方向両側に配置され、しかも、各第２の処理槽１０７、１０８の第２の搬出口１１９に、その幅方向（ストリップ１１の搬送方向に直交する方向）に沿ってそれぞれ設けられている。
これにより、エッチング処理液を、ストリップ１１の一面８４と第２の処理槽１０７の第２の側壁１２０との間の第２の隙間１２２に、また、ストリップ１１の他面８５と第２の処理槽１０７の第２の側壁１２１との間の第２の隙間１２３に、第２の処理槽１０７の第２の搬出口１１９側から第２の搬入口１１８側へ向けて噴射できる。
なお、エッチング薬液供給ヘッダー１０９、１１０の設置位置は、上記した位置に限定されるものではなく、例えば、エッチング薬液供給ヘッダーを、第２の処理槽の第２の搬入口に、その幅方向に沿って設けてもよく、場合によっては、ストリップの幅方向両側に位置する第２の側壁に孔を形成し、この第２の側壁（ストリップの搬送方向）に沿って設けることもできる。

【0059】

また、エッチング処理に使用されたエッチング処理液は、ストリップ１１の搬送方向上流側（第２の処理槽１０７の上部、第２の処理槽１０８の下部）に設けられたエッチング薬液受槽１２４により回収され、エッチング薬液排出口１２５を介して循環使用される。
以上の構成により、脱脂処理後のストリップ１１を、サポートロール１１３、１１４により処理槽１０７内に搬入させ、更に、サポートロール１１４、１１６により処理槽１０８内に搬入させて、ストリップ１１の表面の酸化皮膜層を除去できる。

【0060】

続いて、本発明の第２の実施の形態に係り、連続メッキ処理設備９１（１０５）を用いた連続メッキ処理方法について説明する。
図１０に示すように、連続メッキ処理設備９１（１０５）による連続メッキ処理方法は、本発明の第１の実施の形態に係る連続メッキ処理設備１０（６０）による連続メッキ処理方法と比較して、エッチング処理工程において硫酸水溶液からなるエッチング処理液をストリップ１１に噴射すること、エッチング処理工程の後に行うスマット除去処理工程が不要であることが特徴となっており、他の処理工程においてストリップ１１に対して行う処理は実質的に同じである。このためエッチング処理工程についてのみ詳細に説明する。

【0061】

脱脂処理後に水洗処理されたストリップ１１を、ロール２７を介してエッチング処理装置９２（１０６）の第２の処理槽９３（１０７、１０８）内に搬入すると、ストリップ１１の上面４２（８４）と第２の処理槽９３（１０７、１０８）の第２の側壁９９（１２０）との間の第２の隙間１０１（１２２）及びストリップ１１の下面４３（８５）と第２の処理槽９３（１０７、１０８）の第２の側壁１００（１２１）との間の第２の隙間１０２（１２３）に、それぞれエッチング処理液が噴射されて、エッチング処理液の噴流下でエッチング処理が行われる。

【0062】

アルミニウムはいわゆる両性金属であり、アルカリと酸の両方に溶解するが、アルカリへの溶解力の方が大きいことと薬品が比較的安価であることから、エッチングには一般的にアルカリが使用されている。一方、エッチング処理液を硫酸水溶液とした場合は、アルカリと比較して溶解力が小さくなるが、エッチング処理液をストリップ１１に噴射することによりストリップ１１の表面ではエッチング処理液の流れが生じているので、アルミニウムとの反応で発生した反応物を、エッチング処理液の流れに巻き込んで除去することができ、アルミニウムに新鮮なエッチング処理液を常に接触させることができる。
これにより、エッチング処理液（硫酸水溶液）とアルミニウムとの反応が促進され、アルカリエッチング処理液と比較してアルミニウムとの反応性が小さい硫酸水溶液をエッチング処理液として使用しても、効率的なエッチング処理を行うことができる。

【0063】

一方、エッチング処理液が硫酸水溶液なので、アルミニウムがエッチング処理される際、アルミニウム中に含まれる、例えば、銅、マグネシウム等からなる化合物も硫酸水溶液と反応し溶解するためスマットが形成されない。このため、スマット除去処理工程が不要になって、処理時間の短縮に伴う生産性の向上と、処理設備長の短縮に伴う設備コストの低減を図ることができる。更に、エッチング処理液が硫酸水溶液であって、従来の酸性エッチング処理液のように毒性が強い酸性ふっ化アンモンを含まないため、エッチング処理液の管理や廃エッチング処理液の無害化処理が容易となるとともに、陽極酸化処理の電解液として使用される硫酸水溶液をエッチング処理液として流用することによるランニングコストの低減も可能となる。

【0064】

エッチング処理の時間短縮には、エッチング薬液供給ヘッダー９４、９５（１０９、１１０、１１１、１１２）から噴射するエッチング処理液のストリップ１１に対する相対速度を０．２５ｍ／秒以上（更には、０．５ｍ／秒以上）にすることが好ましい。
なお、上記した相対速度は、各エッチング薬液供給ヘッダー９４、９５（１０９、１１０、１１１、１１２）から噴射されるエッチング処理液の噴射速度と、連続的に搬送されるストリップ１１の搬送速度との差である。従って、エッチング処理液の噴射速度は、ストリップ１１の搬送速度に応じて調整するのがよい。

【0065】

ここで、相対速度が０．２５ｍ／秒未満である場合、相対速度が遅過ぎて、上記した効果が充分に得られず、効率的なエッチング処理を行うことができないと考えられる。
一方、相対速度が速くなれば、上記した効果が得られると考えられるため、上限値については規定していない。しかし、相対速度が速くなるに伴い、例えば、エッチング処理液を噴射するためのポンプが大掛かりとなって設備コストがかかると共に、エッチング処理液の流れが乱れ、表面性状に悪影響を及ぼすおそれがあるため、例えば、１．５ｍ／秒程度がよい。

【0066】

また、エッチング処理液である硫酸水溶液の濃度は、５質量％以上３０質量％以下であり、温度は６０℃以上８０℃以下である。
硫酸水溶液の濃度が５質量％未満では、エッチング処理液のストリップ１１に対する相対速度を０．２５ｍ／秒以上としても、アルミニウム基材に対する溶解能力が低下するため好ましくなく、硫酸水溶液の濃度が３０質量％を超えると、エッチング処理装置からの硫酸水溶液のドラッグアウト量（持ち出し量）が多くなり、ランニングコストの増加を招くため好ましくない。
硫酸水溶液の温度が６０℃未満では、エッチング処理液のストリップ１１に対する相対速度を０．２５ｍ／秒以上とし、かつ硫酸水溶液の濃度を５質量％以上３０質量％以下としても、アルミニウム基材に対する溶解能力を高めることができず、効率的なエッチング処理を行うことができない。
一方、硫酸水溶液の温度が８０℃を超えると、アルミニウム基材に対する溶解能力は高くなるが、硫酸水溶液中の水分の蒸発が激しく、硫酸水溶液の濃度管理が困難となったり、設備的に高度な熱対策が必要となるため好ましくない。

【実施例】

【0067】

次に、本発明の作用効果を確認するために行った実施例について説明する。
ここでは、ＪＩＳ記号Ａ１１００のアルミニウム製の板材の表面に、種々の条件で金属メッキを施し、その評価を行った。
試験条件と評価結果を、表１にそれぞれ示す。

【0068】

【表1】

【0069】

表１に示すように、評価は、メッキの密着性と生産性の２点について行った。
ここで、密着性の評価は、碁盤目試験と１８０°密着曲げ試験の２つの方法で行った。
碁盤目試験は、塗料一般試験方法において付着性（クロスカット試験）を評価するＪＩＳ Ｋ５６００−５−６（１９９９年）に準じて行った。これは、試験片のメッキ面に対し、カッターで碁盤目状の切り込みを入れた上で、テープを貼って剥がし、碁盤目が剥離しないかを確認する試験方法である。
また、１８０°密着曲げ試験は、曲げた部分が密着するように試験片を２つ折りにし、この２つ折りした部分にテープを貼って剥がし、メッキに剥離がないかを確認する試験方法である。

【0070】

表１に示す従来例１は、従来法により、アルミニウム製の板材の表面に金属メッキを施した結果である（図１３参照）。具体的には、スターラーを用いて１０秒の第一ジンケート処理を行った後、析出させた亜鉛の剥離処理を行い、更にスターラーを用いて１０秒の第二ジンケート処理を行った。
この結果、密着性については、碁盤目試験と１８０°密着曲げ試験のいずれも、良好な結果が得られた（○）。しかし、生産性については、１０秒のジンケート処理を２回行う必要があり、また亜鉛の剥離処理を行う必要があったため、処理時間に６０秒程度を要し、悪かった。

【0071】

スターラーを用いて第一ジンケート処理を行うと、図１１（Ａ）に示すように、アルミニウムの素地上に、糸状、粒子状の亜鉛粒子が、疎らに析出した。そこで、析出させた亜鉛の剥離処理を行った後、スターラーを用いて第二ジンケート処理を行うことで、図１１（Ｂ）に示すように、第一ジンケート処理で析出した亜鉛粒子よりも小さな亜鉛粒子が、素地全面に析出した。なお、図１１（Ａ）、（Ｂ）の各顕微鏡写真は、ＳＥＭ写真（×１００００倍）である。
つまり、従来例１は、１０秒のジンケート処理を２回行うことで、亜鉛粒子を素地全面に析出させ、メッキの密着性を高めているが、この方法では、処理時間を短縮できない。

【0072】

そこで、従来例１の評価を基準として、試験条件を変更した従来例２、３、及び、実施例１、２について、それぞれ評価した。
従来例２は、従来例１と同じ処理を、従来例１よりも短い５秒で行い、更に２回のジンケート処理に用いるスターラーの撹拌を、従来例１よりも遅い５００ｒｐｍ（回／分）で行った結果である。
この結果、生産性については、従来例１よりも処理時間を短縮でき、良好な結果が得られた。しかし、２回のジンケート処理の時間を短くしたため、碁盤目試験については良好な結果が得られたが（○）、１８０°密着曲げ試験についてはメッキの剥離が発生した（×）。
従って、総合評価は「×」だった。

【0073】

従来例３は、従来例１と同じ処理を、従来例１よりも短い５秒で行い、更に２回のジンケート処理に用いるスターラーの撹拌を、従来例２よりも速い１５００ｒｐｍ（回／分）で行った結果である。
この結果、生産性については、従来例１よりも処理時間を短縮でき、良好な結果が得られた。しかし、スターラーの撹拌速度を速くしても、２回のジンケート処理の時間を短くしたため、碁盤目試験については良好な結果が得られたが（○）、１８０°密着曲げ試験についてはメッキの剥離が発生した（×）。
従って、総合評価は「×」だった。

【0074】

実施例１、２は、図１、図２に示す連続メッキ処理設備を使用し、各処理を、従来例１よりも短い５秒で行い、更にジンケート処理を１回のみ行った結果である。なお、噴射されるジンケート処理液のストリップに対する相対速度は、０．２５ｍ／秒と１．５ｍ／秒の２条件に設定した。
この結果、密着性については、碁盤目試験と１８０°密着曲げ試験のいずれも、良好な結果が得られた（○）。これは、ジンケート処理液の噴流下でジンケート処理を行うことにより、第一ジンケート処理の段階（１回のみのジンケート処理）で、図１２に示すように、従来例１の２回のジンケート処理で析出した亜鉛粒子よりも小さな亜鉛粒子が、素地全面に析出したことによる。なお、図１２の顕微鏡写真は、ＳＥＭ写真（×１００００倍）である。

【0075】

また、生産性については、上記したように、５秒のジンケート処理を１回のみ行えばよく、また、これに伴って亜鉛剥離処理も不要となるため、処理時間は２０秒となり、良好であった。
従って、総合評価は「○」だった。
以上のことから、本発明の連続メッキ処理設備及び連続メッキ処理方法を用いることで、良好な品質のアルミニウムのメッキ製品を、経済的に、かつ、生産性よく製造できることを確認できた。

【0076】

実施例３−１、３−２は、実施例１においてエッチング処理に５％硫酸水溶液（温度を６０℃と８０℃の２条件に設定）を使用しスマット除去処理を行わなかった場合、実施例４−１、４−２は、実施例１においてエッチング処理に３０％硫酸水溶液（温度を６０℃と８０℃の２条件に設定）を使用しスマット除去処理を行わなかった場合である。
実施例３−１、３−２、４−１、４−２の試験条件と評価結果を、表２にそれぞれ示す。なお、噴射されるジンケート処理液のストリップに対する相対速度は、０．２５ｍ／秒と１．５ｍ／秒の２条件に設定した。

【0077】

【表2】

【0078】

表２に示すように、密着性については、碁盤目試験と１８０°密着曲げ試験のいずれも、良好な結果が得られた（○）。また、生産性については、スマット除去処理を行わなかったため、処理時間は１５秒となった。
従って、総合評価は「○」だった。
以上のことから、本発明の連続メッキ処理設備及び連続メッキ処理方法を用いることで、良好な品質のアルミニウムのメッキ製品を、経済的に、かつ、生産性よく製造できることを確認できた。

【0079】

以上、本発明を、実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は何ら上記した実施の形態に記載の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載されている事項の範囲内で考えられるその他の実施の形態や変形例も含むものである。例えば、前記したそれぞれの実施の形態や変形例の一部又は全部を組合せて本発明の連続メッキ処理設備及び連続メッキ処理方法を構成する場合も本発明の権利範囲に含まれる。
また、前記実施の形態においては、処理液ガイド部材が処理槽を形成した場合について説明したが、処理液ガイド部材は、ストリップの表面とは隙間を有して対向配置され、しかも、この隙間にジンケート処理液を噴射できる構成であれば、これに限定されるものではなく、例えば、板状のものでもよい。

【符号の説明】

【0080】

１０：連続メッキ処理設備、１１：ストリップ、１２：脱脂処理装置、１３：エッチング処理装置、１４：スマット除去処理装置、１５：ジンケート処理装置、１６：メッキ処理装置、１７：乾燥処理装置、１８：脱脂処理液、１９：処理槽、２０：浸漬ロール、２１：サポートロール、２２：ロール、２３：水洗槽、２４：エッチング処理液、２５：処理槽、２６：浸漬ロール、２７：ロール、２８：水洗槽、２９：スマット除去処理液、３０：処理槽、３１：浸漬ロール、３２：ロール、３３：水洗槽、３４：処理槽、３５、３６：薬液供給ヘッダー（処理液噴射手段）、３７：搬送路、３８：搬入口、３９：搬出口、４０、４１：側壁、４２：上面、４３：下面、４４、４５：隙間、４６、４７：サポートロール、４８：ロール、４９：水洗槽、５０：薬液受槽、５１：薬液排出口、５２：メッキ処理液、５３：処理槽、５４：浸漬ロール、５５：通電ロール、５６：メッキ電極、５７：水洗槽、５８：ロール、６０：連続メッキ処理設備、６１：脱脂処理装置、６２：エッチング処理装置、６３：スマット除去処理装置、６４：ジンケート処理装置、６５：メッキ処理装置、６６〜７０：処理槽、７１〜７４：薬液供給ヘッダー（処理液噴射手段）、７５、７６：サポートロール、７７：搬送路、７８：サポートロール、７９：搬送路、８０：搬入口、８１：搬出口、８２、８３：側壁、８４：一面、８５：他面、８６、８７：隙間、８８：薬液受槽、８９：薬液排出口、９０：処理槽、９１：連続メッキ処理設備、９２：エッチング処理装置、９３：第２の処理槽、９４、９５：エッチング薬液供給ヘッダー（エッチング処理液噴射手段）、９６：第２の搬送路、９７：第２の搬入口、９８：第２の搬出口、９９、１００：第２の側壁、１０１、１０２：第２の隙間、１０３、１０４：サポートロール、１０５：連続メッキ処理設備、１０６：エッチング処理装置、１０７、１０８：第２の処理槽、１０９、１１０、１１１、１１２：エッチング薬液供給ヘッダー（エッチング処理液噴射手段）、１１３、１１４：サポートロール、１１５：第２の搬送路、１１６：サポートロール、１１７：第２の搬送路、１１８：第２の搬入口、１１９：第２の搬出口、１２０、１２１：第２の側壁、１２２、１２３：第２の隙間、１２４：エッチング薬液受槽、１２５：エッチング薬液排出口

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】