(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
前記ウィンドウパージには、前記噴射されたガスを分岐する傾斜した突出部がさらに備えられていることを特徴とする、請求項1に記載のインゴットの成長工程を観察するためのビューポート。
【背景技術】
【0002】
一般的にウェハの材料となるシリコン単結晶インゴットはチョクラルスキー法(CZ法)により製造される。
【0003】
CZ法とは、石英るつぼにシリコンを入れて石英るつぼを加熱し、シリコンを溶融させた後、種結晶(seed crystal)をシリコン融液に接触させた状態で回転しながら徐々に引き上げて、種単結晶の表面から融液を固体に凝固させることにより、所定の直径を有するインゴットを成長させる方法である。
【0004】
このようなインゴットを成長させる装置はチャンバーの内部に構成され、前記チャンバーは、半導体などの電子部品の素材として使用されるウェハ用インゴットを成長させるための所定の工程が行われる空間を提供する。
【0005】
そして、前記チャンバーは、汚染物質の流入防止及び内部雰囲気を維持するために封止されているので、チャンバーの内部で成長するインゴットを観察するために、チャンバーの一側には別途のビューポート(view port)が設置される。
【0006】
このようなビューポートを介してインゴットの成長を肉眼で観察できるだけではなく、直径測定センサやメルトギャップ(M/G)測定センサなどは、成長するインゴットの直径とメルトギャップのような工程データを測定することができる。
【0007】
以後、上記のようにリアルタイムで測定された工程データを考慮してインゴットの引き上げ速度やヒータパワーなどの工程条件が決定されるので、チャンバーの内部の工程データを正確に測定することはインゴットの品質を決定する重要な要素となる。
【0008】
ところが、前記チャンバーの内部の石英るつぼから発生するガスまたは気化したドーパントによって、ビューポートのガラスが汚染される問題点が発生する。
【0009】
特に、気化したドーパントはガラスの下面を不透明に汚染させるので、チャンバーの内部を観察することが難しいだけではなく、ビューポートを介して測定された直径などの工程データに誤差が生じることになる。
【0010】
このような誤差を防止するためにセンサの移動速度、感度調節などを実施する方案が提示されたが、誤差改善の効果は微々たるものであった。
【0011】
したがって、このような不正確な工程データにより工程条件が決定されて、成長したインゴットの品質が低下する問題が発生する。
【発明を実施するための形態】
【0020】
以下では、本実施例について添付される図面を参照して詳しく説明する。但し、本実施例が開示する事項から本実施例が有する発明の思想の範囲が定められることがあり、本実施例が有する発明の思想は、提案される実施例に対して構成要素の追加、削除、変更などの実施変形を含むといえる。
【0021】
図1は、インゴット成長装置の概略的な様子を示す。
【0022】
一般的なインゴット成長装置の構成は、チャンバー10の内部に配置され、チャンバー10は封止(sealing)されているので、チャンバー10の内部で成長するインゴット(IG)を観察するためにはビューポート(view port)100を備えなければならない。
【0023】
前記ビューポート100は、チャンバー10の内部の工程状況を観察するためにチャンバー10の一側に設置され、光を透過し、チャンバー10の封止状態(sealing)を維持できるようにウィンドウが構成される。
【0024】
このようなウィンドウ110を介して肉眼でインゴットの成長工程を観察することができ、チャンバー10の外部には、センサが設けられて、ウィンドウ110を介してインゴットの直径のような工程状況を測定して工程データ(raw data)に出力することができる。
【0025】
このような工程データに基づいて引き上げ速度のような工程条件が決定されるので、正確な工程データを測定することはインゴットの品質に大きな影響を及ぼすことになる。
【0026】
特に、工程状況中において、インゴットの直径が均一であるか否かはインゴットの品質を決定する重要な要素であるので、ビューポート100を介して、成長するインゴットの直径を正確に測定してこそ均一な直径のインゴットを生産することができる。
【0027】
前記チャンバー10の内部の工程状況として判断される要素としては、インゴットの直径だけではなく、熱遮蔽体40とシリコンメルト(S)との高さの差であるメルトギャップ(M/G)などもこれに該当するが、以下では説明の便宜のために、工程状況は成長するインゴットの直径として説明する。
【0028】
一方、インゴットを成長させる工程進行中に、ビューポート100のウィンドウ110が不透明に汚染される可能性がある。
【0029】
特に、アンチモン(Sb)ドーパントを含有するシリコンメルトからインゴットを成長させる工程中においては、気化したアンチモンがウィンドウ110に吸着して、チャンバー10の内部を全く観察できないほどウィンドウ110が白っぽく汚染される場合がある。そして、白っぽく汚染されたウィンドウ110を介して測定された直径データは、実際のインゴットの直径と誤差を持つことになる。
【0030】
図2は、ターゲット直径測定値と一般的なインゴット成長装置の直径測定値との差を示すグラフと、ターゲット引き上げ速度と一般的なインゴット成長装置の平均引き上げ速度との差を示すグラフである。
【0031】
インゴットの直径を測定して工程データ(raw data)に出力するセンサ200としては、赤外線センサ(IR sensor)、CCDカメラまたは高温計(pyrometer)のような多様なセンサを使用することができ、出力された工程データを分析して引き上げ速度(P/S)を変更することにより、インゴットの直径を制御する制御部として、ADCセンサ(Automatic Diameter Control)200を使用することができる。
【0032】
本実施例では、直径を測定したデータとしてADC値を使用し、このようなADC値を測定し、これにより直径を制御するセンサ及び制御部は、ADCセンサ部200として説明するが、本発明がこれに限定されるものではないことは言うまでもない。
【0033】
図2を参照すると、インゴットのボディグローイング工程(body growing)初期には、ターゲットADC値(ADC SP Target)とインゴット成長装置で測定されたADC値(ADC SP Act.)との差が少なく、ADC値に応じて制御される平均引き上げ速度(Avg. P/S)もターゲット引き上げ速度(Target P/S)と差がほとんどないことが分かる。
【0034】
ここで、ターゲットとは、工程前に予め設計されて、これを基に工程を行う目標値を意味する。即ち、工程中にセンシングされるADC値とターゲットADC値を比較して引き上げ速度を制御することになり、制御された引き上げ速度がターゲット引き上げ速度に近づけると、直径が均質な良質のインゴットが生産される。
【0035】
ところが、ボディグローイング工程の後半部に行くほどターゲットADC値と測定されたADC値との差(y)が急激に増加することにより、ターゲット引き上げ速度と平均引き上げ速度との差(x)も増加することが分かる。
【0036】
このように生産されたインゴットの場合、後半部に行くほど直径が揺動するので、インゴットの品質が低下する問題が発生する。
【0037】
上記のような問題点を解決するために、本実施例のインゴット成長装置に設置されたビューポート100は、自らウィンドウの汚染を防止及び除去できるように構成される。
【0039】
図3は、本発明の第1実施例に係る、ウィンドウパージが装着されたインゴット成長装置の断面を概略的に示す。
【0040】
図3を参照すると、本実施例のインゴット成長装置は、チャンバー10と、シリコンメルトを収容する石英るつぼ20と、前記石英るつぼ20を加熱するためのヒータ30と、前記シリコンメルトに接してインゴットを引き上げるシード(seed)を固定するためのシードチャック(seed chuck)70と、前記シードチャック70を昇降及び回転させる引き上げ手段と、前記石英るつぼ20の上側でシリコンメルトとメルトギャップ(M/G)を形成する熱遮蔽体40と、前記チャンバー10の内部に不活性ガスを供給して不活性ガスの流れと雰囲気を制御する不活性ガス注入部50とを含む。
【0041】
そして、本実施例のインゴット成長装置は、前記チャンバー10の内部を観察するためのビューポート100を含み、前記チャンバー10の外部からビューポート100を介してインゴットの直径を測定し、測定されたデータにより引き上げ速度を制御することにより、インゴットの直径を制御するADCセンサ部200をさらに含む。
【0042】
特に、前記ビューポート100は、チャンバー10に配置され、チャンバー10の内部を観察できるようにホールが備えられているボディ部120と、前記ボディ部120の上部に配置され、光を透過してチャンバー10の内部を観察できるようにするウィンドウ110と、前記ガスを噴射してウィンドウ110の汚染を防止するウィンドウパージ130とを含む。
【0043】
より具体的に、前記ボディ部120は、チャンバー10の上側に装着されて、内部の工程状況を観察できるようにするホールが備えられている管で構成することができる。例えば、成長するインゴットのメニスカス(meniscus)に向かうように、チャンバー10の上部から上側に延長され、内径が45cmほど形成された円筒形状の管で構成することができる。
【0044】
そして、前記ボディ部120の上側にはウィンドウホールが備えられており、前記ウィンドウのホールには、光を透過できる透明な材質のガラス111が挿入されたウィンドウ110を設けることができる。
【0045】
前記ガラス111は、ガラスだけではなく、光を透過できる多様な材質で構成されてもよいが、熱に強く、インゴットを汚染させない石英ガラスで構成されることが好ましい。
【0046】
そして、前記ボディ部120とウィンドウ110との間には、ウィンドウ110に汚染物質が接近することを防ぐために不活性ガスを噴射するウィンドウパージ(window purge)130が介在される。
【0047】
前記ウィンドウパージ130には、ガス噴射部131が含まれているので、ガラス111の下側に不活性ガスを噴射することで、ガラス111に汚染物質が流入されることを防止し、外部空気と断熱するエアカーテンを形成することができる。
【0048】
前記ガス噴射部131は、ウィンドウパージ130の一側のどこにでも配置することができる。例えば、
図3に示されたように、前記チャンバー10の上部に対向する方向の前記ウィンドウパージ130に配置することができるが、これに限定されるものではない。
【0049】
また、前記ガス噴射部131は、図示されたものと異なり、前記チャンバー10の上部側の前記ウィンドウパージ130に配置することもできる。
【0050】
即ち、前記ガス噴射部131は、前記チャンバー10の形状及び前記ビューポート100の形状に応じて、前記ガラス111に不活性ガスを噴射するための最適の位置に配置することができる。
【0051】
また、前記ガス噴射部131は、ノズルの角度を調節してガラス111に向けてガスを噴射することで、ガラス111に吸着した汚染物質を除去することもできる。
【0052】
一方、上記では前記ビューポート100をウィンドウ110と、ボディ部120、及びウィンドウパージ130にそれぞれ区分して説明したが、一体型に構成することも可能である。
【0053】
例えば、前記チャンバー10の上部から延長された円筒形状の管の内部のホールにガラスが挿入され、円筒形状の管の側面にガス噴射部が装着されて、ガラスに向けてガスを噴射する構造に形成することも可能である。
【0054】
但し、本実施例では、前記チャンバー10の封止状態を維持するために、前記ウィンドウパージ130とウィンドウ110はフランジ(flange)で構成される。
【0055】
例えば、前記ウィンドウパージ130は、ホールを備えたパージボディ132がボディ部120の上部にパージOリング(O-ring)133が介在されるように配置され、前記ウィンドウ110は、ホールを備えたウィンドウボディ112がパージボディ132の上部にウィンドウOリング113が介在されるように配置される。このとき、ウィンドウボディ112のホールに介在されたガラス111の周りには、ガスケットとOリングがさらに配置されて、ビューポート100のホールを完全に密閉することができる。
【0056】
そして、前記ウィンドウ110と、ボディ部120、及びウィンドウパージ130のそれぞれには、複数個のネジ溝が設けられ、前記ネジ溝にボルト140が締結されることで、ウィンドウ110と、ボディ部120、及びウィンドウパージ130は堅固に結合される。
【0057】
即ち、本実施例では、チャンバー10の封止状態を維持するために、ボディ部120の上側にウィンドウパージ130をフランジで結合し、ウィンドウパージ130の上側にウィンドウ110をフランジで結合したが、本実施例がこれに限定されるものではないことは言うまでもない。
【0058】
一方、前記ガス噴射部131にガスを供給するために、前記ガス供給部170がガスライン150を介してガス噴射部131と連結されて不活性ガスを供給する。
【0059】
このとき、前記ガスライン150には、ガスバルブ160とガスフローメーター(gas flow meter)が設置されて、ガス供給圧力を調節し噴射されたガス流量を確認して、適切なガス供給圧力と噴射された総ガス流量を制御することができる。
【0060】
例えば、前記ウィンドウパージ130から噴射されるガスは不活性ガスとして、アルゴンガス(Ar gas)を使用することができ、前記アルゴンガスの供給圧力は、約2.5ないし2.8(kg/cm2)の間で形成される。そして、総噴射されたガス流量は、20(lpm)以下であることが好ましい。
【0061】
前記ガス供給部170は、前記ウィンドウパージ130のみにガスを供給するように別に構成することも可能であるが、設備の便宜のために、既存の不活性ガス注入部50に不活性ガスを供給するラインを分岐してガスライン150を構成することも可能である。
【0062】
前述した本発明の第1実施例により、前記ガラスの汚染を防止し、吸着した汚染物質を除去することで、チャンバーの内部の工程状況を正確に観察及び測定することができ、正確に測定されたデータにより工程条件を制御することで、高品質のインゴットを生産できる長所がある。
【0063】
一方、前記ビューポート100は、前述したように、メニスカスに向かうために傾いて延長される。このとき、インゴットが成長する上部チャンバー11側ビューポート100の側面をビューポート100の上部とし、これに対向する下部チャンバー10側ビューポート100の側面をビューポート100の下部と称する。
【0064】
このように傾いているビューポート100に効果的なエアカーテンを形成するためには、ビューポート100の上部からビューポート100の下部にガスを噴射することが好ましい。
【0065】
また、前記チャンバー10の内部において不活性ガスの流れは、インゴットが成長する上部チャンバー11から下部チャンバー10に流れるので、このようなガスの流れを妨げないようにするためにもガス噴射部131はビューポート100の上部から下部にガスを噴射することが良い。
【0066】
即ち、前記ガス噴射部131は、上部チャンバー11とビューポート100との間(ビューポート100の上部)に設置されて、ビューポート100の下部に向けてガスを噴射すると、ガラス111に汚染物質が接近することを効果的に遮断することができる。
【0067】
ところが、前記上部チャンバー11とビューポート100との間には空間が狭くて、前記ガス噴射部131とガスライン150を構成することが難しい場合がある。
【0069】
本発明の第2実施例は、第1実施例においてウィンドウパージ130の構造のみが変形されたものであるため、上記説明と共通する部分は説明を省略する。
【0070】
本発明の第2実施例におけるビューポート100は、ビューポート100の下部にガス噴射部131が設置されるが、設置された部分に対向するビューポート100の上部からガスを噴射するウィンドウパージ130で構成されるので、効果的なエアカーテンを形成することができる。
【0071】
図4は、本発明の第2実施例に係る、上側から下側にガスを噴射してエアカーテンを形成するビューポートに対する平面を示し、
図5は、ウィンドウパージを上側からみた断面斜視図を示し、
図6は、ウィンドウパージを側面からみた断面斜視図を示し、
図7は、ウィンドウパージの側面図である。
【0072】
図4ないし
図7を参照すると、前記ウィンドウパージ130は、フランジに形成されるが、フランジを成す前記パージボディ132の内部には、供給されたガスが移動する通路であるガス案内部134が設けられ、前記ガス案内部134とパージボディ132との間には、移動したガスを噴射するガス噴出口135が設けられる。
【0073】
これにより、前記ガス噴射部131がパージボディ132の一側から内部にガスを供給すると、供給されたガスはガス案内部134に沿ってガス噴出口135に移動し、前記ガス噴出口135から移動したガスが噴出されてエアカーテンを形成することができる。
【0074】
即ち、前記パージボディ132において、ガスを噴射しようとする位置にガス噴出口135が形成され、前記ガス噴射部131と前記ガス噴出口135がガス案内部134を介して連結されると、前記ガス噴射部131がガスを供給する位置に関係なく所望の位置からガスを噴射できることになる。
【0075】
本実施例では、前記ガス噴射部131がビューポート100の下部側パージボディ132に装着され、前記ガス噴出口135は、ビューポート100の上部側パージボディ132に設けられ、前記ガス噴射部131とガス噴出口135は、パージボディ132に沿って形成されたガス案内部134を介して連結されるように構成される。
【0076】
このような構成により、前記ビューポート100の下部側から噴射されたガスは、ガス案内部134に沿って移動してビューポート100の上部側から噴射される。
【0077】
このとき、前記ガス噴出口135は、エアカーテンの面積を広げるために、複数個で構成することができ、図示されたものと異なり、横方向に延長されたホール形状に構成することもできる。
【0078】
前述した第2実施例の構造により、ウィンドウパージは効果的にエアカーテンを形成することができるので、ガラスの汚染を遮断し、チャンバーの内部のガスの流れを妨げない長所がある。
【0079】
一方、前記ガス供給部170は、制御部190に連結される。
【0080】
前記制御部190は、前記ガス供給部170から噴射されるガス供給圧力を工程に応じて制御することができる。
【0081】
例えば、汚染物質が集中的に発生するインゴット成長工程時期であるメルト工程、ドーパント投入時などにガス供給圧力を増加させることができる。
【0083】
図8は、本発明の第3実施例に係る、ウィンドウパージの分離斜視図を示す。
【0084】
本発明の第3実施例も、第1実施例においてウィンドウパージ130の構造のみが変形されたものであるため、上記説明と共通する部分は説明を省略する。
【0085】
本発明の第3実施例は、前記ガス噴出口135とガラス111の下面の間に傾斜した突出部136を配置して、ガス噴出口135から噴出されたガスが前記傾斜した突出部136を経て分岐するようにすることで、ガラス111の下側水平面に均一かつ密にエアカーテンを形成しようとするものである。
【0086】
より具体的に、本発明の第3実施例におけるウィンドウパージは、ガスを噴射する第1ウィンドウパージ130と、その下面に結合された第2ウィンドウパージ180で構成される。
【0087】
前記第1ウィンドウパージ130には、ガスを供給するガス噴射部131と、供給されたガスを案内するガス案内部134、案内されたガスを垂直方向に噴射するガス噴出口135、及び噴出されたガスを分岐する傾斜した突出部136で構成される。
【0088】
前記第1ウィンドウパージ130の下面には、第2ウィンドウパージ180が結合されるが、傾斜した突出部136と所定の間隔を置くように結合されて、噴出されたガスが間隔を介してガラス111の下側に噴射されるようにする。
【0089】
即ち、前記ガス噴出口135から垂直方向に噴出されたガスは、前記第2ウィンドウパージ180のボディ181に詰まって、傾斜した突出部136とボディ181との間の所定の間隔に分岐した後噴射されて、均一かつ密なエアカーテンを形成することができる。
【0090】
このような第3実施例の構造により、ガラス111の下側に均一かつ密なエアカーテンを形成することで、より効果的にガラス111の下面における汚染を防止することができる。
【0091】
(付記)
(付記1)
インゴットの成長工程が行われる空間を提供するチャンバーの内部を観察するためのビューポートであって、
前記チャンバーの一側に配置され、前記チャンバーの内部と連結されたホールを有するボディ部と、
前記ボディ部のホールに挿入されて前記チャンバーの封止状態を維持し、前記チャンバーの内部の光を透過するウィンドウと、
前記ウィンドウに向けてガスを噴射するウィンドウパージと、
を含むことを特徴とする、インゴットの成長工程を観察するためのビューポート。
【0092】
(付記2)
前記ボディ部の上側には前記ウィンドウパージがフランジで結合されることを特徴とする、付記1に記載のインゴットの成長工程を観察するためのビューポート。
【0093】
(付記3)
前記ウィンドウパージの上側には前記ウィンドウがフランジで結合されることを特徴とする、付記2に記載のインゴットの成長工程を観察するためのビューポート。
【0094】
(付記4)
前記ウィンドウパージは、前記ボディ部の上側に結合され、前記ボディ部のホールと連結されたパージホールが備えられているパージボディと、前記パージボディの一側からガスを噴射してエアカーテンを形成するガス噴射部とを含むことを特徴とする、付記2に記載のインゴットの成長工程を観察するためのビューポート。
【0095】
(付記5)
前記ガス噴射部は、ガスの噴射方向を調節できるガスノズルを含むことを特徴とする、付記4に記載のインゴットの成長工程を観察するためのビューポート。
【0096】
(付記6)
前記パージボディには、前記ガス噴射部から供給されたガスの移動通路となるガス案内部が設けられ、前記ガス案内部とパージボディとの間には、前記移動したガスを噴射するガス噴出口が設けられていることを特徴とする、付記4に記載のインゴットの成長工程を観察するためのビューポート。
【0097】
(付記7)
前記ガス噴出口は、複数個で設けられることを特徴とする、付記6に記載のインゴットの成長工程を観察するためのビューポート。
【0098】
(付記8)
前記ガス噴出口は、広い面積にガスを噴射できるように横方向に延長された形状を有することを特徴とする、付記6に記載のインゴットの成長工程を観察するためのビューポート。
【0099】
(付記9)
前記ウィンドウパージには、前記噴射されたガスを分岐する傾斜した突出部がさらに備えられていることを特徴とする、付記1に記載のインゴットの成長工程を観察するためのビューポート。
【0100】
(付記10)
インゴットの成長工程が行われる空間を提供し、密閉されたチャンバーと、
前記チャンバーの内部に配置され、シリコンメルトを収容する石英るつぼと、
前記シリコンメルトにシードを浸漬し、回転し及び引き上げて前記インゴットを成長させる引き上げ手段と、
前記チャンバーの一側に設置されて、前記チャンバーの内部の工程状況を観察できるように内部の光を透過するビューポートと、を含み、
前記ビューポートは、前記チャンバーの一側に配置され、前記チャンバーの内部と連結されたホールが備えられているボディ部と、前記ボディ部のホールに挿入されて前記チャンバーの封止状態を維持し、チャンバーの内部の光を透過するウィンドウと、前記ウィンドウに向けてガスを噴射するウィンドウパージと、を含むことを特徴とする、インゴット成長装置。
【0101】
(付記11)
前記ビューポートを介して前記インゴットの成長工程の状況を測定するセンサ部をさらに含むことを特徴とする、付記10に記載のインゴット成長装置。
【0102】
(付記12)
前記センサ部は、前記シリコンメルトから成長するインゴットの直径を測定する直径測定センサ部であることを特徴とする、付記11に記載のインゴット成長装置。
【0103】
(付記13)
前記ウィンドウパージにガスを供給するガス供給部と、前記ガス供給部と前記ウィンドウパージを連結するガスラインとをさらに含むことを特徴とする、付記10に記載のインゴット成長装置。
【0104】
(付記14)
前記シリコンメルトには、アンチモン(Sb)がドーパントとして含有されていることを特徴とする、付記10に記載のインゴット成長装置。
【0105】
(付記15)
前記ガス供給部と連結されて、前記インゴットの成長工程に応じてガス注入圧力を調節する制御部をさらに含むことを特徴とする、付記13に記載のインゴット成長装置。
【0106】
(付記16)
インゴットの成長工程が行われる空間を提供するチャンバーの内部を観察するためのビューポートであって、
前記チャンバーの密閉状態を維持しながら前記チャンバーの内部を観察できるウィンドウと、前記ウィンドウに向けてガスを噴射してウィンドウの汚染を防止するウィンドウパージと、を含むことを特徴とする、インゴットの成長工程を観察するためのビューポート。