特許 6241554 積層モジュールおよび積層モジュールの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6241554

(24)【登録日】2017年11月17日

(45)【発行日】2017年12月6日

(54)【発明の名称】積層モジュールおよび積層モジュールの製造方法

(51)【国際特許分類】

   H05K 3/46 20060101AFI20171127BHJP

   H05K 1/02 20060101ALI20171127BHJP

【ＦＩ】

   H05K3/46 Q

   H05K3/46 G

   H05K1/02 E

【請求項の数】9

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2016-550097(P2016-550097)

(86)(22)【出願日】2015年9月10日

(86)【国際出願番号】JP2015075675

(87)【国際公開番号】WO2016047446

(87)【国際公開日】20160331

【審査請求日】2016年12月7日

(31)【優先権主張番号】特願2014-196768(P2014-196768)

(32)【優先日】2014年9月26日

(33)【優先権主張国】JP

(31)【優先権主張番号】特願2015-51592(P2015-51592)

(32)【優先日】2015年3月16日

(33)【優先権主張国】JP

(73)【特許権者】

【識別番号】000006231

【氏名又は名称】株式会社村田製作所

(74)【代理人】

【識別番号】110000970

【氏名又は名称】特許業務法人 楓国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】多胡 茂

(72)【発明者】

【氏名】品川 博史

(72)【発明者】

【氏名】若林 祐貴

【審査官】 齊藤 健一

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００６−３０３２０２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−３２７７２１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−１５３０８４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１４／１２５８５２（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２０１４−１０７５１４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−８６９４９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−１５９９６１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−１９５４６８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１２／１３７５４８（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００３−３０３９３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−２５９９８４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１４−８６６１７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１２／０４６８２９（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第２０１２／１１７８７２（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第２０１４／１２５８５１（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第２０１４／０５４３８７（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２０１０−２１４２３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１４／０６５０３５（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 国際公開第２０１４／１０３５３０（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２０１４−１０７５１５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１４／０８３９０８（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０５Ｋ１／００−３／４６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

熱可塑性樹脂を主成分とする複数の絶縁体層が積層された積層絶縁体と、
前記積層絶縁体の内部に、前記絶縁体層に沿って配置される導体パターンと、
前記導体パターンに接続される内蔵部品と、
前記積層絶縁体の表面に搭載される搭載部品と、
前記積層絶縁体の表面に形成され、前記搭載部品のバンプが超音波接合されるパッドと、
前記パッドと前記内蔵部品との間に形成され、前記絶縁体層の積層方向に視て、前記パッドおよび前記内蔵部品を覆う範囲に広がる補助導体パターンと、
前記補助導体パターンに対して厚み方向に最も近接する位置に設けられ、平面視で、前記補助導体パターンに重なり、且つ前記補助導体パターンの外側領域に亘るように形成される近接導体パターンと、
平面視で、前記補助導体パターンの外側の領域に設けられ、前記近接導体パターンと少なくとも一部が重なる平面導体パターンと、
を備える、
積層モジュール。

【請求項2】

前記補助導体パターンは前記導体パターンの一部である、請求項１に記載の積層モジュール。

【請求項3】

前記補助導体パターンはグランド導体パターンである、請求項１または２に記載の積層モジュール。

【請求項4】

前記内蔵部品の数は複数であり、前記補助導体パターンは前記絶縁体層の積層方向に視て、前記複数の内蔵部品を連続して覆う、請求項１から３のいずれかに記載の積層モジュール。

【請求項5】

前記補助導体パターンの厚みは、他の前記導体パターンの厚みよりも厚い、請求項１から４のいずれかに記載の積層モジュール。

【請求項6】

前記平面導体パターンは浮き電極パターンである、請求項１から５のいずれかに記載の積層モジュール。

【請求項7】

熱可塑性樹脂を主成分とする複数の絶縁体層が積層された積層絶縁体と、
前記積層絶縁体の内部に、前記絶縁体層に沿って配置される導体パターンと、
前記導体パターンに接続される内蔵部品と、
前記積層絶縁体の表面に搭載される搭載部品と、
を備える、積層モジュールの製造方法であって、
前記導体パターンが形成された絶縁体基材を用意する工程と、
前記搭載部品のバンプが超音波接合されるパッドと前記内蔵部品との間に、補助導体パターンを配置し、前記補助導体パターンに対して厚み方向に最も近接する位置に、平面視で、前記補助導体パターンに重なり、且つ前記補助導体パターンの外側領域に亘るように近接導体パターンを配置し、平面視で、前記補助導体パターンの外側の領域に、前記近接導体パターンと少なくとも一部が重なる平面導体パターンを配置し、前記内蔵部品とともに前記絶縁体基材を積層し、加熱プレスする工程と、
前記搭載部品を前記積層絶縁体の表面に形成された前記パッドに超音波接合により接合する工程と、
を有する積層モジュールの製造方法。

【請求項8】

前記絶縁体基材に内蔵部品収納部を形成する工程と、
前記内蔵部品を前記内蔵部品収納部に配置する工程と、
を更に有する、請求項７に記載の積層モジュールの製造方法。

【請求項9】

前記絶縁体基材に層間接続導体形成用孔を形成する工程と、
前記層間接続導体形成用孔に導電性ペーストを充填する工程と、
前記層間接続導体形成用孔に充填された導電性ペーストに前記内蔵部品の端子を接触させた状態で加熱プレスすることにより、前記導電性ペーストによる層間接続導体と前記内蔵部品とを接合する工程と、を更に有する、請求項７または８に記載の積層モジュールの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、積層絶縁体の内部に導体パターンおよび部品を備える積層モジュールおよびその製造方法に関する発明である。

【背景技術】

【0002】

積層絶縁体の内部に導体パターンおよび部品を備える従来の積層モジュール用基板としては、例えば特許文献１に記載の基板が知られている。特許文献１の積層モジュール用基板は、熱可塑性樹脂からなる積層絶縁体と、この積層絶縁体の内部に、チップ状の内蔵部品、配線導体およびビア導体を備え、積層絶縁体の主面に対して垂直方向から視て、内蔵部品を囲む枠状電極を更に備える。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】国際公開第２０１２／０４６８２９号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

特許文献１に示される積層モジュール用基板では、上記枠状電極の存在により、加熱プレスの際に、積層絶縁体の内部に設けられる内蔵部品の配置位置であるキャビティ方向へ樹脂が必要以上に流動されることが抑制される。

【0005】

しかし、積層絶縁体のキャビティへ積層方向に樹脂が流動することは抑制できない。このような、絶縁基材の積層方向に樹脂が流動すると、積層絶縁体内部の部品の接続部が接続不良となるおそれが高まる。

【0006】

また、上記樹脂の流動によって、積層絶縁体の表面が変形すれば、積層絶縁体の表面に搭載される部品（搭載部品）の接合不良が生じやすい。

【0007】

一方、積層絶縁体の絶縁体層を樹脂シートで構成する場合、積層絶縁体の剛性はセラミックに比べて低いので、積層絶縁体に搭載部品を超音波接合する際に、接合部の信頼性を高め難いという問題もある。

【0008】

そこで、本発明の目的は、熱可塑性樹脂を主成分とする絶縁体層の熱圧着による内蔵部品の接合部の安定性を高めることにある。また、本発明の他の目的は、積層絶縁体の表面に対する搭載部品の接合部の安定性を高めることにある。

【課題を解決するための手段】

【0009】

（１）本発明の積層モジュールは、
熱可塑性樹脂を主成分とする複数の絶縁体層が積層された積層絶縁体と、
前記積層絶縁体の内部に、前記絶縁体層に沿って配置される導体パターンと、
前記導体パターンに接続される内蔵部品と、
前記積層絶縁体の表面に搭載される搭載部品と、
前記積層絶縁体の表面に形成され、前記搭載部品のバンプが超音波接合されるパッドと、
前記パッドと前記内蔵部品との間に形成され、前記絶縁体層の積層方向に視て、前記パッドおよび前記内蔵部品を覆う範囲に広がる補助導体パターンと、を備える、
ことを特徴とする。

【0010】

上記構成により、内蔵部品の実装部の近傍における樹脂の流動が補助導体パターンで抑制されるので、内蔵部品の接合部の安定性が高い。また、パッド直下の剛性が高まるので、搭載部品の接合部の安定性が高い。

【0011】

（２）上記（１）において、前記補助導体パターンは前記導体パターンの一部であることが好ましい。これにより、補助導体パターンを備える絶縁体層を他の導体パターンを備える絶縁体層と同様に、容易に構成できる。

【0012】

（３）上記（１）または（２）において、前記補助導体パターンはグランド導体パターンであることが好ましい。これにより、内蔵部品のシールド効果、搭載部品のシールド効果、および内蔵部品と搭載部品との間のアイソレーション効果が得られる。

【0013】

（４）上記（１）〜（３）のいずれかにおいて、前記内蔵部品の数は複数であり、前記補助導体パターンは前記絶縁体層の積層方向に視て、前記複数の内蔵部品を連続して覆うことが好ましい。これにより、複数の内蔵部品の配置位置を含む広い範囲に亘って樹脂の流動が抑制される。また、複数の内蔵部品の配置位置を含む広い範囲に亘って、搭載部品の搭載位置の剛性が高まる。

【0014】

（５）上記（１）〜（４）のいずれかにおいて、前記補助導体パターンの厚みは他の前記導体パターンの厚みよりも厚いことが好ましい。このことにより、補助導体パターンの剛性が高まり、加熱プレスで積層絶縁体を構成する際に、補助導体パターンの変形は小さくなって、補助導体パターンと、この補助導体パターンに近接する他の導体との間隔が狭くなったり、短絡したりするなどの不具合が防止される。

【0015】

（６）上記（１）〜（５）のいずれかにおいて、前記補助導体パターンに対して厚み方向に最も近接する位置に設けられ、平面視で、前記補助導体パターンに重なり、且つ前記補助導体パターンの外側領域に亘るように形成される近接導体パターンと、平面視で、前記補助導体パターンの外側の領域に設けられ、前記近接導体パターンと少なくとも一部が重なる平面導体パターンと、をさらに含むことが好ましい。このことにより、加熱プレスで積層絶縁体を構成する際の、補助導体パターンに近接する他の導体の変形が抑制される。そのため、補助導体パターンと、この補助導体パターンに近接する近接導体パターンとの間隔が狭くなったり、短絡したりするなどの不具合が防止される。

【0016】

（７）前記平面導体パターンは浮き電極パターンであることが好ましい。このことにより、加熱プレスで積層絶縁体を構成する際の平面導体パターンの変形が大きくても、また、導体パターンと平面導体パターンとの間隔が狭くなっても、電気的特性のばらつきの少ない積層モジュールが得られる。

【0017】

（８）本発明の積層モジュールの製造方法は、
熱可塑性樹脂を主成分とする複数の絶縁体層が積層された積層絶縁体と、
前記積層絶縁体の内部に、前記絶縁体層に沿って配置される導体パターンと、
前記導体パターンに接続される内蔵部品と、
前記積層絶縁体の表面に搭載される搭載部品と、
を備える、積層モジュールの製造方法であって、
前記導体パターンが形成された絶縁体基材を用意する工程と、
前記搭載部品のバンプが超音波接合されるパッドと前記内蔵部品との間に、補助導体パターンを配置し、前記内蔵部品とともに前記絶縁体基材を積層し、加熱プレスする工程と、
前記搭載部品を前記積層絶縁体の表面に形成された前記パッドに超音波接合により接合する工程と、
を有することを特徴とする。

【0018】

上記方法により、内蔵部品の接合部の安定性および搭載部品の接合部の安定性が高い積層モジュールが得られる。

【0019】

（９）上記（８）において、
前記絶縁体基材に内蔵部品収納部を形成する工程と、
前記内蔵部品を前記内蔵部品収納部に配置する工程と、
を更に有することが好ましい。

【0020】

上記方法により、積層絶縁体内への内蔵部品の埋設が容易となり、不要な樹脂の流動が抑制され、内蔵部品の接合部の安定性をより確保できる。

【0021】

（１０）上記（８）または（９）において、
前記絶縁体基材に層間接続導体形成用孔を形成する工程と、
前記層間接続導体形成用孔に導電性ペーストを充填する工程と、
前記層間接続導体形成用孔に充填された導電性ペーストに前記内蔵部品の端子を接触させた状態で加熱プレスすることにより、前記層間接続導体と前記内蔵部品とを接合する工程と、を更に有することが好ましい。

【0022】

上記方法により、層間接続導体に対して内蔵部品の端子を接合する場合でも、その接合部の安定性を確保できる。

【発明の効果】

【0023】

本発明によれば、熱可塑性樹脂を主成分とする絶縁体層の熱圧着による内蔵部品の接合部の安定性が高い積層モジュールが得られる。また、積層絶縁体の表面に対する搭載部品の接合部の安定性が高い積層モジュールが得られる。

【図面の簡単な説明】

【0024】

【図1】図１は第１の実施形態に係る積層モジュール用基板１０１の分解断面図である。

【図2】図２は積層モジュール用基板１０１の断面図である。

【図3】図３は、第２の実施形態に係る積層モジュール２０１を構成する、積層絶縁体１０および搭載部品６１の断面図である。

【図4】図４（Ａ）は第２の実施形態に係る積層モジュール２０１の断面図であり、図４（Ｂ）は積層モジュール２０１の底面図である。

【図5】図５は積層モジュール２０１の外観斜視図である。

【図6】図６は第３の実施形態に係る積層モジュール用基板の比較例としての積層モジュール用基板１０３ＣＥの部分断面図である。

【図7】図７（Ａ）は第３の実施形態に係る積層モジュール用基板１０３の分解断面図である。図７（Ｂ）は積層モジュール用基板１０３の断面図である。

【図8】図８（Ａ）は第４の実施形態に係る積層モジュール用基板１０４の部分断面図である。図８（Ｂ）は比較例としての積層モジュール用基板１０４ＣＥの部分断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0025】

以降、図を参照して幾つかの具体的な例を挙げて、本発明を実施するための複数の形態を示す。各図中には同一箇所に同一符号を付す。第２の実施形態では第１の実施形態と共通の事柄についての記述を省略し、異なる点について説明する。特に、同様の構成による同様の作用効果については実施形態毎には逐次言及しない。

【0026】

《第１の実施形態》
図１は第１の実施形態に係る積層モジュール用基板１０１の分解断面図である。図２は積層モジュール用基板１０１の断面図である。この積層モジュール用基板１０１は、絶縁体層１１，１２，１３，１４，１５が積層された積層絶縁体１０を備える。積層絶縁体１０の内部には、絶縁体層１１〜１５に沿って配置される複数の導体パターンと、これら導体パターンのうち所定の導体パターンに接続される内蔵部品５１，５２とを備える。内蔵部品５１，５２は例えば、ランド（Land）型端子を有するチップキャパシタである。

【0027】

絶縁体層１１〜１５の材料は例えば、液晶ポリマー（ＬＣＰ）やポリイミド（ＰＩ）等の熱可塑性樹脂を主成分とする材料である。

【0028】

図１に表れるように、絶縁体層１１の上面には、積層絶縁体１０の表面に搭載される搭載部品のバンプが超音波接合されるパッド３１〜３６が形成される。また、絶縁体層１２の上面には、補助導体パターン３０が形成される。絶縁体層１３の上面には、導体パターン２１，２２，２３，２４が形成される。また、絶縁体層１４の上面には、導体パターン２５，２６が形成される。

【0029】

絶縁体層１２には層間接続導体４７が形成される。絶縁体層１３には層間接続導体４１〜４６が形成される。絶縁体層１４には内蔵部品収納部（キャビティ）ＣＡ１，ＣＡ２が形成される。

【0030】

上記補助導体パターン３０は、積層絶縁体１０の表面に搭載される搭載部品のバンプが超音波接合されるパッドと内蔵部品５１，５２との間に形成される。この補助導体パターン３０は、絶縁体層１１〜１５の積層方向に視て、パッド３１〜３６および内蔵部品５１，５２を覆う範囲に広がる。また、この補助導体パターン３０は、層間接続導体４７を介して導体パターン２４と導通する。

【0031】

上記積層モジュール用基板は例えば次の手順で製造される。

【0032】

（１）導体パターンが形成された熱可塑性樹脂を主成分とする絶縁体基材を用意する。例えば、片面に銅箔が貼られた片面銅貼り絶縁体シートを用い、このシートの銅箔を上記所定の導体パターンになるようにパターンニングする。

【0033】

（２）絶縁体層１２，１３に相当する絶縁体基材の所定位置にレーザー加工等により貫通孔を開け、それら貫通孔に導電性ペーストを充填する。これらの導電性ペーストが後に層間接続導体４１〜４７となる。

【0034】

（３）絶縁体層１４に相当する絶縁体基材に、内蔵部品５１，５２を収納する内蔵部品収納部ＣＡ１，ＣＡ２を形成する。

【0035】

（４）内蔵部品５１，５２を内蔵部品収納部ＣＡ１，ＣＡ２に配置する。例えば、図１に示される絶縁体層１５に相当する絶縁体基材の所定位置に内蔵部品５１，５２を載置し、この絶縁体基材の上面に絶縁体層１４に相当する絶縁体基材を重ねる。または、例えば、絶縁体層１３に相当する絶縁体基材の層間接続導体４２，４３，４４，４５に内蔵部品５１，５２を仮接合し、絶縁体層１３，１４，１５に相当する絶縁体基材を重ねる。

【0036】

（５）搭載部品６１のバンプ７１〜７６が超音波接合されるパッド３１〜３６と内蔵部品５１，５２との間に、補助導体パターン３０を配置し、絶縁体層１１〜１５に相当する絶縁体基材を積層し、加熱プレスする。このことにより、絶縁体層１１〜１５および内蔵部品５１，５２が加熱プレスにより熱圧着される。

【0037】

上述のとおり、絶縁体層１１〜１５および内蔵部品５１，５２が積層され、加熱プレスされることで、図２に示される積層絶縁体１０が構成される。この加熱プレスの際に、内蔵部品５１，５２の実装部の近傍における樹脂の流動が補助導体パターン３０で抑制されるので、内蔵部品５１，５２の接合部の安定性は高い。特に、内蔵部品５１，５２を配置するために内蔵部品収納部ＣＡ１，ＣＡ２を設けた場合に、それら内蔵部品収納部ＣＡ１，ＣＡ２への樹脂の流動が生じやすいが、上記補助導体パターン３０の存在により、上記樹脂の流動は抑制される。仮に、補助導体パターン３０が無い場合に、加熱プレス時の樹脂の流動によって、内蔵部品５１，５２が傾きやすい。内蔵部品５１，５２が傾くと、内蔵部品５１，５２の端子と層間接続導体４２，４３，４４，４５との接合面が不安定となる。また、内蔵部品５１，５２の端子が接合する層間接続導体４２，４３，４４，４５となる導電性ペーストが流出し、短絡の原因となるおそれもある。上記補助導体パターン３０を設けることにより、内蔵部品５１，５２の接合部の安定性が確保される。

【0038】

なお、内蔵部品５１，５２の端子と導体パターンとの接続には層間接続導体を用いないで、はんだにより接合してもよい。

【0039】

《第２の実施形態》
図３は、第２の実施形態に係る積層モジュール２０１を構成する、積層絶縁体１０および搭載部品６１の断面図である。図４（Ａ）は第２の実施形態に係る積層モジュール２０１の断面図であり、図４（Ｂ）は上記積層モジュール２０１の底面図である。また、図５は積層モジュール２０１の外観斜視図である。

【0040】

本実施形態の積層モジュール２０１は、第１の実施形態に示される積層モジュール用基板１０１と、搭載部品６１とで構成される。

【0041】

搭載部品６１は例えばＲＦ−ＩＣや所定の信号処理を行うプロセッサ等である。図３に表れるように、搭載部品６１は、その下面に２列のはんだバンプ７１〜７６等を備えるチップ部品である。この搭載部品６１は積層絶縁体１０の上面に形成されるパッド３１〜３６に対して超音波接合される。

【0042】

図４（Ａ）（Ｂ）に表れるように、補助導体パターン３０は、積層絶縁体１０の上面のパッド３１〜３６と内蔵部品５１，５２との間に形成され、絶縁体層１１〜１５の積層方向に視て、パッド３１〜３６および内蔵部品５１，５２を覆う範囲に広がる。この補助導体パターン３０の存在により、パッド３１〜３６直下の剛性が高まり、搭載部品６１を超音波接合する際に、パッド３１〜３６およびバンプ７１〜７６の接合部に超音波エネルギーが効率良く印加される。その結果、搭載部品６１の接合部に高い安定性が得られる。

【0043】

図４（Ｂ）に表れるように、導体パターン２１〜２４に繋がる層間接続導体のうち、内蔵部品５１，５２に接合する層間接続導体以外の層間接続導体４１，４６，４８，４９は、平面視でパッド３１〜３６と重ならないように形成される。このことにより、搭載部品６１の搭載面の平坦性を確保できる。より好ましくは、層間接続導体４１，４６，４８，４９は補助導体パターン３０の平面視での外側に形成される。このことにより、搭載部品６１の搭載面の平坦性をより確保できる。また、層間接続導体４１，４６，４８，４９が平面視で補助導体パターン３０に重なることに起因して補助導体パターン３０の平坦性が損なわれることを防止することができるので、搭載部品６１を超音波接合する際に、パッド３１〜３６およびバンプ７１〜７６の接合部に超音波エネルギーを効率良く印加できる。

【0044】

本実施形態では、上記補助導体パターン３０はグランド導体パターンである。これにより、内蔵部品５１，５２および搭載部品６１が電界シールドされる。また、内蔵部品５１，５２と搭載部品６１との間のアイソレーションが高まる。例えば、積層絶縁体内に構成される回路に搭載部品６１からの輻射ノイズが伝搬することが抑制される。

【0045】

なお、積層絶縁体１０のパッド３１〜３６側にはんだボールなどの超音波接合時に溶融する接合材が配置されていれば、搭載部品６１はランド（Land）型の端子を有するチップ部品でもよい。

【0046】

以上に示した積層モジュールは高周波部品に限らない。例えば搭載部品６１がCMOSイメージセンサであり、このイメージセンサと積層絶縁体１０とで構成されるカメラモジュールにも同様に適用できる。また、積層絶縁体１０に貫通孔が形成され、積層絶縁体１０の裏面側（レンズから離れる側）にイメージセンサが搭載される構造にも同様に適用できる。この場合、イメージセンサが傾いた状態で接合されることによる、カメラモジュールとしての機能低下を抑制することができる。

【0047】

《第３の実施形態》
第３の実施形態では、補助導体パターンと他の導体パターンとの間隔を確保する構造について示す。

【0048】

図６は、本発明に係り、第３の実施形態に係る積層モジュール用基板と比較対照するための積層モジュール用基板１０３ＣＥの部分断面図である。この積層モジュール用基板１０３ＣＥの基本的な構成は第１の実施形態で、図２等に示した積層モジュール用基板１０１と同じである。

【0049】

図６に示す比較例は、加熱プレスで積層絶縁体１０を構成する際に、補助導体パターン３０の変形により、補助導体パターン３０と、この補助導体パターン３０に近接する導体パターン２１との間隔が破線の楕円Ａで示す部分で狭くなった例である。

【0050】

図６に示すように、導体パターン２１は、補助導体パターン３０に対して厚み方向に最も近接する位置で、且つ平面視で、補助導体パターン３０に重なっており、且つ、補助導体パターン３０の外側領域にも亘るように形成されている。

【0051】

複数の絶縁体層が積層され、加熱プレスされる際に、剛性の高い層間接続導体４２の付近で導体パターン２１が局部的に変形し、湾曲する場合がある。この場合、層間接続導体４２の付近（図６中、破線の楕円Ａで示す部分）で、導体パターン２１と補助導体パターン３０との間隔が狭くなる。この間隔が狭くなりすぎると、導体パターン２１と補助導体パターン３０とが短絡するおそれが高まる。

【0052】

図７（Ａ）は第３の実施形態に係る積層モジュール用基板１０３の分解断面図である。図７（Ｂ）は積層モジュール用基板１０３の断面図である。この積層モジュール用基板１０３は、絶縁体層１１，１２，１３，１４，１５が積層された積層絶縁体１０を備える。積層絶縁体１０の内部には、絶縁体層１１〜１５に沿って配置される複数の導体パターンと、これら導体パターンのうち所定の導体パターンに接続される内蔵部品５１，５２とを備える。積層絶縁体１０の上面に形成されるパッド３１〜３６に対して搭載部品（図３参照）６１が超音波接合される。

【0053】

積層モジュール用基板１０３の補助導体パターン３０の厚みは、第１の実施形態で図１、図２等に示した積層モジュール用基板１０１の補助導体パターン３０より厚い。例えば、補助導体パターン３０の厚さは導体パターン２１の厚さの１．５倍以上である。そのため、補助導体パターン３０の剛性は高い。

【0054】

図６の比較例と本実施形態の図７（Ｂ）とを比較すると明らかなように、本実施形態に係る積層モジュール用基板１０３においては、補助導体パターン３０の剛性が高いことにより、加熱プレスを行っても導体パターン２１は層間接続導体４２付近で局部的に変形しにくい。したがって、層間接続導体４２の付近（図７（Ｂ）中Ａで示す部分）で、導体パターン２１と補助導体パターン３０との間隔が狭くなりにくい。

【0055】

また、本実施形態に係る積層モジュール用基板１０３を用いた積層モジュールによれば、この厚みが厚い補助導体パターン３０の存在により、パッド３１〜３６直下の剛性が高まり、搭載部品をパッド３１〜３６にバンプを介して超音波接合する際に、パッド３１〜３６およびバンプの接合部に超音波エネルギーがさらに効率良く印加される。その結果、搭載部品６１の接合部にさらに高い安定性が得られる。

【0056】

《第４の実施形態》
第４の実施形態では、第３の実施形態とは異なる、補助導体パターンと他の導体パターンとの間隔を確保する構造について示す。

【0057】

図８（Ａ）は第４の実施形態に係る積層モジュール用基板の積層モジュール用基板１０４の部分断面図である。図８（Ｂ）は本発明に係り、第４の実施形態に係る積層モジュール用基板と比較対照するための積層モジュール用基板１０４ＣＥの部分断面図である。この積層モジュール用基板１０４，１０４ＣＥの基本的な構成は第１の実施形態で、図２等に示した積層モジュール用基板１０１と同じである。導体パターン２１は、平面視で、補助導体パターン３０に重なっており、且つ、補助導体パターン３０の外側領域にも亘るように形成されている。

【0058】

図８（Ｂ）に示す例では、加熱プレスで積層絶縁体１０を構成する際に、補助導体パターン３０の存在する部分と存在しない部分とで圧力差が生じ、補助導体パターン３０に近接する導体パターン２１の変形により、補助導体パターン３０の外縁（図８（Ｂ）中、破線の楕円Ａで示す部分）と導体パターン２１との間隔が狭くなる。この間隔が狭くなりすぎると、導体パターン２１と補助導体パターン３０との短絡のおそれが高まる。

【0059】

本実施形態の積層モジュール用基板１０４において、導体パターン２１は本発明に係る「近接導体パターン」の一例である。積層モジュール用基板１０４において、平面導体パターン３７は、平面視で補助導体パターン３０の外側の領域に設けられ、導体パターン２１と少なくとも一部が重なる。このことにより、図８（Ａ）に表れているように、導体パターン２１に平面導体パターン３７が対向しており、それにより補助導体パターン３０の存在する部分と存在しない部分との圧力差が生じにくくなるので、加熱プレスで積層絶縁体を構成する際、導体パターン２１の変形が抑制される。そのため、補助導体パターン３０の外縁（図８（Ａ）中、破線の楕円Ａで示す部分）と導体パターン２１との間隔が極端に狭くはならない。したがって、補助導体パターン３０と導体パターン２１との短絡が防止される。

【0060】

なお、補助導体パターン３０の存在する部分と存在しない部分とで圧力差は、補助導体パターン３０の厚みが厚いほど生じやすい。したがって、第３の実施形態の積層モジュール用基板１０３において、本実施形態の平面導体パターンを設けることが特に好ましい。

【0061】

平面導体パターン３７は、浮き電極（他の回路を構成する導体パターンと導通しない独立した電極）であることが好ましい。このことにより、加熱プレスで積層絶縁体を構成する際の平面導体パターン３７の変形が大きくても、また、導体パターン２１と平面導体パターン３７との間隔が狭くなっても、電気的特性のばらつきの少ない積層モジュールが得られる。

【0062】

最後に、上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではない。当業者にとって変形および変更が適宜可能であることは明らかである。例えば異なる実施形態で示した構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることは言うまでもない。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

【符号の説明】

【0063】

ＣＡ１，ＣＡ２…内蔵部品収納部
１０…積層絶縁体
１１〜１５…絶縁体層
２１〜２６…導体パターン
３０…補助導体パターン
３１〜３６…パッド
３７…平面導体パターン
４１〜４９…層間接続導体
５１，５２…内蔵部品
６１…搭載部品
７１〜７６…バンプ
１０１，１０３，１０３ＣＥ，１０４，１０４ＣＥ…積層モジュール用基板
２０１…積層モジュール

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】