特許6247684誘電体層及び誘電体層の製造方法、並びに固体電子装置及び固体電子装置の製造方法

発明の名称　誘電体層及び誘電体層の製造方法、並びに固体電子装置及び固体電子装置の製造方法

出願人　独立行政法人科学技術振興機構　（識別番号 503360115）

　　　　特許公開件数ランキング 2546 位（9件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 752 位（30件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6247684

公報発行日　2017年12月13

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6247684

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