特許6254093IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

基板処理装置及び基板処理装置の制御装置

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

上述したように、従来からレシピを修正して最適化することが行われている。しかしながら、1台の基板処理装置、例えば熱処理装置で実施する熱処理の種類は、例えば、膜種や膜厚毎に多数有り、必要なレシピの数も多くなる。一方、レシピの最適化を行う作業には時間がかかり、1つのレシピを実行し、膜厚測定、最適化計算等を実施して最適化するためには、例えば4時間程度の時間を要する。このため、多数のレシピを最適化するためには多くの時間を必要とし、生産性向上の妨げとなるという問題があった。なお、予め、変更する可能性のあるデータをプロセスパラメータとして定義しておき、レシピを変更する際に、プロセスパラメータを一括して呼び出して変更する技術においても、1つずつレシピを最適化する必要がある点は同様であり、多数のレシピを最適化するためには多くの時間を必要とする。 本発明は、従来の事情に対処してなされたものであり、従来に比べてレシピの最適化に要する時間を短縮することができ、生産性の向上を図ることのできる基板処理装置及び基板処理装置の制御装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の基板処理装置の一態様は、基板を処理室内に収容し、前記基板に処理を施す基板処理部と、処理条件を示すレシピを複数記憶する記憶部と、前記記憶部に記憶されたレシピに基づいて前記基板処理部を制御し前記基板に所定の処理を施す主制御部と、前記主制御部にアクセスするためのユーザインターフェース部とを有する制御部と、を具備した基板処理装置であって、前記制御部は、前記基板の処理の結果を測定した測定データ・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明によれば、従来に比べてレシピの最適化に要する時間を短縮することができ、生産性の向上を図ることのできる基板処理装置及び基板処理装置の制御装置を提供することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明の一縦型熱処理装置の縦断面構成を模式的に示す図。

【図2】レシピの最適化の例を説明するための図。

【図3】図1の縦型熱処理装置の動作を説明するためのフローチャート。

【図4】ユーザインターフェース部における操作画面の例を示す図。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

100……縦型熱処理装置、110……基板処理部、120……制御部、121……主制御部、122……ユーザインターフェース部、123……記憶部、2……反応管、3……ヒータ。

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