特許 6261852 光学シートの製造方法、有機発光表示装置及び有機発光表示装置の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6261852

(24)【登録日】2017年12月22日

(45)【発行日】2018年1月17日

(54)【発明の名称】光学シートの製造方法、有機発光表示装置及び有機発光表示装置の製造方法

(51)【国際特許分類】

   G02B 5/02 20060101AFI20180104BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20180104BHJP

   H05B 33/02 20060101ALI20180104BHJP

   H05B 33/10 20060101ALI20180104BHJP

   B32B 7/02 20060101ALI20180104BHJP

   G09F 9/30 20060101ALI20180104BHJP

   H01L 27/32 20060101ALI20180104BHJP

【ＦＩ】

   G02B5/02 B

   H05B33/14 A

   H05B33/02

   H05B33/10

   B32B7/02 103

   G09F9/30 365

   H01L27/32

【請求項の数】16

【全頁数】21

(21)【出願番号】特願2012-255391(P2012-255391)

(22)【出願日】2012年11月21日

(65)【公開番号】特開2013-235233(P2013-235233A)

(43)【公開日】2013年11月21日

【審査請求日】2015年11月5日

(31)【優先権主張番号】10-2012-0049193

(32)【優先日】2012年5月9日

(33)【優先権主張国】KR

【前置審査】

(73)【特許権者】

【識別番号】512187343

【氏名又は名称】三星ディスプレイ株式會社

【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．

(74)【代理人】

【識別番号】100121382

【弁理士】

【氏名又は名称】山下 託嗣

(72)【発明者】

【氏名】金 基棲

(72)【発明者】

【氏名】睦 朗均

(72)【発明者】

【氏名】白 種仁

【審査官】 廣田 健介

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００５−０３２５３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１０−１８９２３７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００２−２７７６１３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００３−３１５５１５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０００−０７５１３２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００５−０５０７０８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００７−１７１５３９（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０２Ｂ ５／００−５／１３６

Ｂ３２Ｂ １／００−４３／００

Ｈ０１Ｌ ５１／５０−５１／５６

Ｈ０５Ｂ ３３／００−３３／２８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

有機発光表示装置のための光学シートの製造方法であって、
少なくとも一つの透明層と少なくとも一つの光散乱層とを交互に繰り返して積層して積層構造物を形成する段階であって、
複数の透明層を準備する段階と、
複数の光散乱層を準備する段階と、
前記透明層と前記光散乱層を交互に配置する段階と、
前記透明層と前記光散乱層との間にそれぞれ接着層を形成する段階と、
前記透明層と前記光散乱層を積層させる段階と、
前記透明層の各々を、前記有機発光表示装置の表示パネルにおける画素領域に対応させて配置する段階と、
前記光散乱層の各々を、前記有機発光表示装置の表示パネルにおける前記画素領域の周辺領域に対応させて配置する段階と、
を含む段階と、
前記積層構造物を切断して第１切断面を形成する段階と、
前記積層構造物を切断して前記第１切断面に対して平行な第２切断面を形成する段階とを含む、ことを特徴とする光学シートの製造方法。

【請求項2】

前記第１切断面と前記第２切断面との間の間隔が前記光学シートの厚さと同一であることを特徴とする請求項１に記載の光学シートの製造方法。

【請求項3】

前記第１切断面及び前記第２切断面は、前記透明層に対して直交することを特徴とする請求項１または２に記載の光学シートの製造方法。

【請求項4】

前記積層構造物を形成する段階は、一つの透明層上に一つの光散乱層をコーティングする工程及び前記一つの光散乱層上に他の一つの透明層をコーティングする工程を含むサイクルを繰り返して遂行する段階を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学シートの製造方法。

【請求項5】

前記光散乱層は、それぞれ透明接着剤及び光散乱式粒子を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学シートの製造方法。

【請求項6】

前記透明層は、互いに同じ厚さを有し、前記光散乱層も互いに同じ厚さを有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学シートの製造方法。

【請求項7】

前記透明層は、互いに違う厚さを有し、前記光散乱層も互いに違う厚さを有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学シートの製造方法。

【請求項8】

前記光散乱層は、ナノ粒子型、球型、ディスク型、バブル型、及び多面体型を含むグループから選択される少なくとも一つの光散乱式粒子を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学シートの製造方法。

【請求項9】

スイッチング素子、第１電極、有機発光構造物、及び第２電極を具備し、第１方向と前記第１方向に直交する第２方向に沿って配列される複数の画素領域と前記画素領域を囲む周辺領域を含む表示パネルと、
前記表示パネル上に配置され、前記第１方向に沿って延伸して前記第２方向に沿って離隔される第１光散乱層パターン及び第１透明層パターンを含む第１光学シートと、
前記第１光学シート上に配置され、前記第２方向に沿って延伸して前記第１方向に沿って離隔される第２光散乱層パターン及び第２透明層パターンを含む第２光学シートと、を含み、
前記第１光散乱層パターンと前記第２光散乱層パターンは、前記周辺領域に対応するように配置され、
前記第１透明層パターンと前記第２透明層パターンは前記画素領域に対応するように配置されることを特徴とする有機発光表示装置。

【請求項10】

前記第１透明層パターンの幅は、前記各画素領域の幅の整数倍であり、前記第２透明層パターンの幅は、前記各画素領域の高さの整数倍であることを特徴とする請求項９に記載の有機発光表示装置。

【請求項11】

スイッチング素子、第１電極、有機発光構造物、及び第２電極を含み、第１方向と前記第１方向に直交する第２方向に沿って配列される複数の画素領域と前記画素領域を囲む周辺領域を含む表示パネルを形成する段階と、
前記表示パネル上に光学シートを形成する段階と、を含み、
前記光学シートを形成する段階は、
少なくとも一つの透明層と少なくとも一つの光散乱層を交互に繰り返して積層して積層構造物を形成する段階と、
前記積層構造物を切断して第１切断面を形成する段階と、
前記積層構造物を切断して前記第１切断面に対して平行な第２切断面を形成する段階を遂行して、前記第１方向に沿って延伸して前記第２方向に沿って離隔される光散乱層パターン及び透明層パターンを含む少なくとも一つ以上の光学シートを形成する段階と、を含み、
前記表示パネル上に光学シートを形成する段階は、前記透明層が前記画素領域に対応し、前記光散乱層が前記周辺領域に対応するように前記光学シートを形成することを含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法。

【請求項12】

前記第１切断面と前記第２切断面との間の間隔が、前記光学シートの厚さと同一であることを特徴とする請求項１１に記載の有機発光表示装置の製造方法。

【請求項13】

前記第１切断面及び前記第２切断面は、前記透明層に対して直交することを特徴とする請求項１１または１２に記載の有機発光表示装置の製造方法。

【請求項14】

前記透明層パターンは互いに同じ幅を有し、前記光散乱層パターンも互いに同じ幅を有することを特徴とする請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の有機発光表示装置の製造方法。

【請求項15】

前記透明層パターンの幅は、前記画素領域の幅または高さの整数倍に対応することを特徴とする請求項１４に記載の有機発光表示装置の製造方法。

【請求項16】

前記表示パネル上に前記光学シートを形成する段階は、
前記第１方向に沿って延伸し、前記第２方向に沿って離隔される第１光散乱層パターン及び第１透明層パターンを含む第１光学シートを前記表示パネル上に配置する段階と、
前記第２方向に沿って延伸し、前記第１方向に沿って離隔される第２光散乱層パターン及び第２透明層パターンを含む第２光学シートを前記第１光学シート上に配置する段階と、を含むことを特徴とする請求項１２に記載の有機発光表示装置の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、本発明は光学シートの製造方法、光学シートを具備する有機発光表示装置及び光学シートを具備する有機発光表示装置の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

有機発光表示（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＥＤ）装置は、正極（ａｎｏｄｅ）と負極（ｃａｔｈｏｄｅ）からそれぞれ提供される正孔と電子が、前記正極と負極との間に位置する有機発光層から結合して生成される光を利用して画像、文字などの情報を表現可能な表示装置である。このような有機発光表示装置は、広い視野角、速い応答速度、薄い厚さ、低い消費電力などの色々なメリットを有するので、有望な次世代ディスプレイ装置として脚光を浴びている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】大韓民国特許出願公開２０１１−００７１５３０号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

しかし、従来の有機発光表示装置においては、表示パネルの側面方向から放出される光の波長が前記表示パネルの正面方向に放出される光の波長と違った現象（即ち、側面カラーシフト現象）が発生して前記有機発光表示装置が表示する画像の画質が低下するという問題点があった。これによって、有機発光表示装置の側面カラーシフト現象を減少させるための研究が進行されてきた。

【0005】

そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、光学的特性を有する新規かつ改良された光学シートの製造方法、有機発光表示装置及び有機発光表示装置の製造方法を提供することにある。

【0006】

ただし、本発明が解決しようとする課題は、上述した課題に限定されるのではなく、本発明の思想及び領域から逸脱しない範囲で多様に拡張されるべきである。

【課題を解決するための手段】

【0007】

上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、少なくとも一つの透明層と少なくとも一つの光散乱層とを交互に繰り返して積層して積層構造物を形成する段階と、前記積層構造物を切断して第１切断面を形成する段階と、前記積層構造物を切断して前記第１切断面に対して平行な第２切断面を形成する段階と、を含むことを特徴とする光学シートの製造方法が提供される。

【0008】

前記第１切断面と前記第２切断面との間の間隔が前記光学シートの厚さと同一であってもよい。

【0009】

前記第１切断面及び前記第２切断面は、前記透明層に対して直交してもよい。

【0010】

前記積層構造物を形成する段階は、一つの透明層上に一つの光散乱層をコーティングする工程及び前記一つの光散乱層上に他の一つの透明層をコーティングする工程を含むサイクルを繰り返して遂行する段階を含んでもよい。

【0011】

前記積層構造物を形成する段階は、複数の透明層を準備する段階と、複数の光散乱層を準備する段階と、前記透明層と前記光散乱層を交互に繰り返して積層する段階と、を含んでもよい。

【0012】

前記光散乱層は、それぞれ透明接着剤及び光散乱式粒子を含んでもよい。

【0013】

光学シートの製造方法は、前記透明層と前記光散乱層との間に接着層を形成する段階をさらに含んでもよい。

【0014】

前記透明層は、互いに同じ厚さを有し、前記光散乱層も互いに同じ厚さを有してもよい。

【0015】

前記透明層は、互いに違う厚さを有し、前記光散乱層も互いに違う厚さを有してもよい。

【0016】

前記光散乱層は、ナノ粒子型、球型、ディスク型、バブル型、及び多面体型を含むグループから選択される少なくとも一つの光散乱式粒子を含んでもよい。

【0017】

また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、スイッチング素子、第１電極、有機発光構造物、及び第２電極を具備し、第１方向と前記第１方向に直交する第２方向に沿って配列される複数の画素領域と前記画素領域を囲む周辺領域を含む表示パネルと、前記表示パネル上に配置され、前記第１方向に沿って延伸して前記第２方向に沿って離隔される第１光散乱層パターン及び第１透明層パターンを含む第１光学シートと、前記第１光学シート上に配置され、前記第２方向に沿って延伸して前記第１方向に沿って離隔される第２光散乱層パターン及び第２透明層パターンを含む第２光学シートと、を含むことを特徴とする有機発光表示装置が提供される。

【0018】

前記第１透明層パターンの幅は、前記各画素領域の幅の整数倍であり、前記第２透明層パターンの幅は、前記各画素領域の高さの整数倍であってもよい。

【0019】

前記第１光散乱層パターンと前記第２光散乱層パターンは、前記周辺領域に対応するように配置されてもよい。

【0020】

また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、スイッチング素子、第１電極、有機発光構造物、及び第２電極を含み、第１方向と前記第１方向に直交する第２方向に沿って配列される複数の画素領域と前記画素領域を囲む周辺領域を含む表示パネルを形成する段階と、前記表示パネル上に光学シートを形成する段階と、を含み、前記光学シートを形成する段階は、少なくとも一つの透明層と少なくとも一つの光散乱層を交互に繰り返して積層して積層構造物を形成する段階と、前記積層構造物を切断して第１切断面を形成する段階と、前記積層構造物を切断して前記第１切断面に対して平行な第２切断面を形成する段階を遂行して、前記第１方向に沿って延伸して前記第２方向に沿って離隔される光散乱層パターン及び透明層パターンを含む少なくとも一つ以上の光学シートを形成して段階と、を含むことを特徴とする有機発光表示装置の製造方法が提供される。

【0021】

前記第１切断面と前記第２切断面との間の間隔が、前記光学シートの厚さと同一であってもよい。

【0022】

前記第１切断面及び前記第２切断面は、前記透明層に対して直交してもよい。

【0023】

前記透明層パターンは互いに同じ幅を有し、前記光散乱層パターンも互いに同じ幅を有してもよい。

【0024】

前記透明層パターンの幅は、前記画素領域の幅または高さの整数倍に対応してもよい。

【0025】

前記表示パネル上に前記光学シートを形成する段階は、前記第１方向に沿って延伸し、前記第２方向に沿って離隔される第１光散乱層パターン及び第１透明層パターンを含む第１光学シートを前記表示パネル上に配置する段階と、前記第２方向に沿って延伸し、前記第１方向に沿って離隔される第２光散乱層パターン及び第２透明層パターンを含む第２光学シートを前記第１光学シート上に配置する段階と、を含んでもよい。

【発明の効果】

【0026】

以上説明したように本発明によれば、光学的特性を有する光学シートの製造方法、有機発光表示装置及び有機発光表示装置の製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0027】

【図1】本発明の一実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【図2】本発明の一実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【図3】本発明の一実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【図4】本発明の一実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【図5】本発明の一実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【図6】本発明の他の実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【図7】本発明の他の実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【図8】本発明の他の実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【図9】本発明のまた他の実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【図10】本発明のまた他の実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【図11】本発明のまた他の実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【図12】本発明のまた他の実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【図13】本発明の一実施形態に係る光学シートを具備する有機発光表示装置の斜視図である。

【図14】本発明の一実施形態に係る光学シートを具備する有機発光表示装置の断面図である。

【図15】本発明の一実施形態に係る光学シートを具備する有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。

【図16】本発明の一実施形態に係る光学シートを具備する有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0028】

以下、本発明の一実施形態に係る光学シートの製造方法、光学シートを含む有機発光表示装置及び光学シートを含む有機発光表示装置の製造方法について添付した図面を参照して詳細に説明するが、本発明が本明細書に記載された一実施形態によって制限されるものではない。該当分野の通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で本発明を多様な他の形態で具現することができる。

【0029】

本明細書において、特定の構造的ないし機能的説明は、単に本発明の実施形態を説明する目的で例示されたものである。本発明の実施形態は多様な形態で実施されることができ、本明細書に説明された実施形態に限定されると解釈されるべきではなく、本発明の思想及び技術範囲に含まれる全ての変更、均等物ないし代替物を含むと理解されるべきである。

【0030】

ある構成要素が他の構成要素に「連結されて」いる、または「接続されて」いると言及された場合には、その他の構成要素に直接的に連結されている、または、接続されていることも意味するが、中間に他の構成要素が存在する場合も含むと理解されるべきである。一方、ある構成要素が他の構成要素に「直接連結されて」いる、または「直接接続されて」いると言及された場合には、中間に他の構成要素が存在しないと理解されるべきである。構成要素の間の関係を説明する他の表現、即ち、「〜の間に」と「直接〜の間に」または「〜に隣接する」と「〜に直接隣接する」等も同じように解釈されるべきである。

【0031】

本明細書で使用した用語は、単に特定の実施形態を説明するために使用されたもので、本発明を限定するものではない。単数の表現は文脈上明白に異なることがない限り、複数の表現を含む。本明細書で、「含む」、「備える」、または「有する」等の用語は明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品または、これを組み合わせたのが存在するということを示すものであって、１つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品または、これを組み合わせたものの存在または、付加の可能性を、予め排除するわけではない。

【0032】

また、特に定義しない限り、技術的或いは科学的用語を含み、本明細書中において使用される全ての用語は本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、一般的に理解するのと同一の意味を有する。一般的な辞書において定義される用語と同じ用語は、関連技術の文脈上有する意味と同一の意味を有するものと理解されるべきで、本明細書において明白に定義しない限り、理想的或いは形式的な意味として解釈してはならない。

【0033】

第１、第２、第３、第４等の用語は多様な構成要素を説明するのに使用されるが、これらの構成要素はこのような用語によって限定されてはならない。これらの用語は１つの構成要素を他の構成要素から区別する目的で使われる。例えば、本発明の権利範囲から逸脱せずに第１構成要素を第２構成要素、第３構成要素、または第４構成要素と称することができ、同様に、第２構成要素、第３構成要素、または第４構成要素も交互に命名することができる。

【0034】

図１〜図５は、本発明の一実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【0035】

図１に示したように、本発明の一実施形態による光学シートの製造に際し、まず第１透明層１００ａ上に第１光散乱層１１０ａをコーティングしてもよい。

【0036】

第１透明層１００ａは、予め決まった強度と透明度を有する透明な有機物質を含んでもよい。例えば、第１透明層１００ａは、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）樹脂、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）樹脂、ポリアクリル（ｐｏｌｙｄａｃｔｙｌ）樹脂、ポリエポキシ（ｐｏｌｙｅｐｏｘｙ）樹脂、ポリエチレン（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）樹脂、ポリスチレン（ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ）樹脂、ポリエチレンナフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｎａｐｈｔｈａｌａｔｅ）樹脂、ポリカーボネート（ｐｏｌｙ ｃａｒｂｏｎａｔｅ）樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリプロピレン樹脂、シクロオレフィン共重合体（ｃｙｃｌｏ ｏｌｅｆｉｎ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）、トリアセチルセルロース（ｔｒｉａｃｅｔｙ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）または、これらの混合物などのような透明樹脂を含むことができる。また、第１透明層１００ａは予め決まった厚さを有することができる。一実施形態において、第１透明層１００ａの厚さは、表示装置の画素領域の高さまたは、幅に実質的に対応することができる。例えば、第１透明層１００ａの厚さは、表示装置の画素領域の高さまたは、幅の整数倍であってもよい。

【0037】

第１光散乱層１１０ａは第１透明層１００ａ上に塗布されることができる。一実施形態において、第１光散乱層１１０ａは、浸漬塗工法（ｄｉｐ ｃｏａｔｉｎｇ）工程、スピンコーティング（ｓｐｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）工程、スクリーンコーティング（ｓｃｒｅｅｎ ｃｏａｔｉｎｇ）工程、スプレーコーティング（ｓｐｒａｙ ｃｏａｔｉｎｇ）工程、ナイフコーティング（ｋｎｉｆｅ ｃｏａｔｉｎｇ）工程、グラビアコーティング（Ｇｒａｖｕｒｅ ｃｏａｔｉｎｇ）工程、超音波噴霧コーティング（ｕｌｔｒａｓｏｎｉｃ ａｔｏｍｉｚｉｎｇ ｃｏａｔｉｎｇ）工程、スプレー−ミスト噴霧コーティング（ｓｐｒａｙ−ｍｉｓｔ ａｔｏｍｉｚｉｎｇ ｃｏａｔｉｎｇ）工程、オフセットプリンティング（ｏｆｆｓｅｔ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程、インクジェットプリンティング（ｉｎｋｊｅｔ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程、パッドプリンティング（ｐａｄ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）工程などを通じて形成することができる。

【0038】

一実施形態において、第１光散乱層１１０ａは、光散乱式粒子１２５を含む塗布額を使うスピンコーティング工程を通じて第１透明層１００ａ上に形成することができる。例えば、光散乱式粒子１２５は、ナノ粒子型、球型、ディスク型、バブル型、多面体型などの多様な形状を有してもよい。

【0039】

また、第１光散乱層１１０ａは、予め決まった厚さを有するように形成することができる。一実施形態において、第１光散乱層１１０ａの厚さは前記表示装置の周辺領域の幅に実質的に対応することができる。

【0040】

さらに、図２に示したように、第１光散乱層１１０ａ上に第２透明層１００ｂをコーティングしてもよい。

【0041】

一実施形態において、第２透明層１００ｂは、浸漬塗工法工程、スピンコーティング工程、スクリーンコーティング工程、スプレーコーティング工程、ナイフコーティング工程、グラビアコーティング工程、超音波噴霧コーティング工程、スプレー−ミスト噴霧コーティング工程、オフセットプリンティング工程、インクジェットプリンティング工程、パッドプリンティング工程などを通じて形成することができる。

【0042】

第２透明層１００ｂは、第１透明層１００ａと実質的に同じ物質を使って形成することができる。他の実施形態によれば、第２透明層１００ｂは第１透明層１００ａと他の透明樹脂を使って形成することもできる。

【0043】

一実施形態において、第２透明層１００ｂは、第１透明層１００ａと実質的に同じ厚さを有するように形成することができる。他の実施形態によれば、第２透明層１００ｂと第１透明層１００ａは、互いに違う厚さを有することができる。

【0044】

その後、図３に示したように、上述したコーティング工程を繰り返して遂行し、透明層１００と光散乱層１１０が交互に繰り返して積層された構造物１３０を形成することができる。例えば、図１及び図２を参照して説明した透明層１００を形成するためのコーティング工程と光散乱層１１０を形成するためのコーティング工程のサイクルを繰り返して遂行して積層構造物１３０を形成することができる。即ち、第２透明層１００ｂ上に上述したコーティング工程を通じて第２光散乱層１１０ｂを形成することができ、第２光散乱層１１０ｂ上に上述したコーティング工程を通じて第３透明層１００ｃを形成することができ、第３透明層１００ｃ上に上述したコーティング工程を通じて第３光散乱層１１０ｃを形成することができる。また、第３光散乱層１１０ｃ上には第４透明層１００ｄが形成することができる。

【0045】

一実施形態によれば、透明層１００は実質的に同じ厚さを有してもよく、光散乱層１１０も実質的に同じ厚さを有してもよい。他の実施形態において、透明層１００は互いに違う厚さを有してもよく、光散乱層１１０も互いに違う厚さを有してもよい。

【0046】

図３では積層構造物１３０が、複数の透明層１００と複数の光散乱層１１０を含むことと図示されている、本発明がこれによって制限されるのではない。即ち、透明層１００を形成するためのコーティング工程と光散乱層１１０を形成するためのコーティング工程のサイクルは、数十回〜数千回程度で繰り返されることができる。これに伴い、数十〜数千個の光散乱層１１０と透明層１００が交互に繰り返して積層されて積層構造物１３０を構成することもできる。

【0047】

さらに、図４に示したように、積層構造物１３０を切断して第１切断面１３２を形成する。

【0048】

積層構造物１３０は、光学的、物理的、熱的、化学的方法、または、二種類以上の方法が混合された工程などを通じて切断されてもよい。一実施形態において、積層構造物１３０は、レーザーを利用して切断されてもよい。他の実施形態によれば、積層構造物１３０は、回転する刃または鋸の刃によって切断されてもよい。

【0049】

上述した切断工程を通じて第１切断面１３２が形成することができる。第１切断面１３２は積層構造物１３０の表面に対して予め決まった角度で切断してもよい。例えば、第１切断面１３２は透明層１００に対して実質的に直交してもよい。すなわち、第１切断面１３２は、積層構造物１３０を各層の積層方向に沿って切断することにより形成されてもよい。

【0050】

続いて、図５に示したように、積層構造物１３０を切断して第２切断面１３４を形成し、光学シート１４０を完成する。なお、第２切断面１３４は、第１切断面１３２と同様に透明層１００に対して実質的に直交してもよい。すなわち、第２切断面１３４は、積層構造物１３０を各層の積層方向に沿って切断することにより形成されてもよい。

【0051】

第１切断面１３２を有する積層構造物１３０は、光学的、物理的、熱的、化学的方法または、二種類以上の方法が混合した工程などを通じて切断してもよい。例えば、積層構造物１３０は図４を参照して説明した切断工程と実質的に同一であるか、或いは、類似の工程を通じて切断されてもよい。

【0052】

上述した切断工程を通じて第２切断面１３４を形成してもよい。一実施形態において、第２切断面１３４は第１切断面１３２と実質的に平行してもよい。また、第２切断面１３４は第１切断面１３２と約５ｕｍ〜約１,０００ｕｍ程度の距離で離隔してもよい。

【0053】

上述した切断工程によって、第１切断面１３２と第２切断面１３４を具備する光学シート１４０が収得されることができる。この場合、光学シート１４０の厚さは第１切断面１３２と第２切断面１３４との間の距離と実質的に同一であってもよい。光学シート１４０は一方向に沿って延伸する透明層パターン１４５と光散乱層パターン１５０を含んでもよい。

【0054】

図４及び図５において、第１切断面１３２を形成する工程と第２切断面１３４を形成する工程が順次に遂行されることで図示されてはいるが、本発明がこれによって制限されるのではない。例えば、第１切断面１３２を形成する工程と第２切断面１３４を形成する工程は同時に遂行しもよい。

【0055】

一実施形態によれば、別途のパターニング工程を遂行しないのに、交互に繰り返して配置された透明層パターン１４５と光散乱層パターン１５０を具備する光学シート１４０を製造することができる。光学シート１４０を表示装置に適用する場合、光学シート１４０は前記表示装置の正面方向に放出される光の輝度を維持させながら、前記表示装置の側面方向に放出される光のカラーシフト（ｃｏｌｏｒ ｓｈｉｆｔ）現象を抑制することができる。従って、前記表示装置が現わす画像の品質を改善することができる。

【0056】

図６〜図８は本発明の他の実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【0057】

図６に示したように、透明層２００と光散乱層２１０を交互に繰り返して配置してもよい。

【0058】

一実施形態において、第１透明層２００ａ、第２透明層２００ｂ、第３透明層２００ｃ、第４透明層２００ｄなどを含む数十個〜数千個の透明層２００が配置されてもよいし、第１光散乱層２１０ａ、第２光散乱層２１０ｂ、第３光散乱層２１０ｃなどを含む数十個〜数千個の光散乱層２１０が配置されてもよい。

【0059】

一実施形態によれば、透明層２００はそれぞれ図１を参照して説明した第１透明層１００ａと実質的に同じ物質を含むことができる。

【0060】

光散乱層２１０ａ、２１０ｂ、２１０ｃは、それぞれ接着剤２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃ、及び、光散乱式粒子２２５ａ、２２５ｂ、２２５ｃを含んでもよい。即ち、第１光散乱層２１０ａは第１接着剤２２０ａ及び第１光散乱式粒子２２５ａを含んでもよく、第２光散乱層２１０ｂは第２接着剤２２０ｂ及び第２光散乱式粒子２２５ｂを含んでもよく、第３光散乱層２１０ｃは第３接着剤２２０ｃ及び第３光散乱式粒子２２５ｃを含んでもよい。一実施形態において、接着剤２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃは、ゴム系（ｒｕｂｂｅｒ−ｂａｓｅｄ）接着剤、アクリル系（ａｃｒｙｌ−ｂａｓｅｄ）接着剤、ビニルエーテル系（ｖｉｎｙｌ ｅｓｔｅｒ−ｂａｓｅｄ）接着剤、シリコン系（ｓｉｌｉｃｏｎ−ｂａｓｅｄ）接着剤、ウレタン系（ｕｒｅｔｈａｎｅ−ｂａｓｅｄ）接着剤のような透明な減圧性接着剤を含むことができる。また、光散乱式粒子２２５ａ、２２５ｂ、２２５ｃは、ナノ粒子型、球型、ディスク型、バブル型、及び多面体型などの形態を有することができる。

【0061】

そして、図７に示したように、透明層２００と光散乱層２１０を接着して、積層構造物２３０を形成することができる。

【0062】

光散乱層２１０は接着剤２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃを含むので、光散乱層２１０と透明層２１０を接着するための、別途の接着フィルムが要求されない。一実施形態において、接着剤２２０ａ、２２０ｂ、２２０ｃが減圧性接着剤を含む場合、透明層２００と光散乱層２１０を交互に繰り返して順次に積層した後、圧力を加えて積層構造物２３０を形成することができる。

【0063】

図７では積層構造物２３０は複数の透明層２００と複数の光散乱層２１０を含むことと図示されているが、本発明はこれによって制限されるのではない。例えば、積層構造物２３０は交互に繰り返して積層された数十〜数千個の光散乱層２１０と透明層２００を含むことができる。

【0064】

さらに、図８に示したように、積層構造物２３０を切断し第１切断面２３２及び第２切断面２３４を形成して光学シート２４０を完成する。

【0065】

積層構造物２３０は図４及び図５を参照して説明した切断工程と実質的に同一であるか、或いは、類似の工程を通じて切断されてもよい。これに伴い、第１切断面２３２と第２切断面２３４を有する光学シート２４０が形成することができる。光学シート２４０は交互に繰り返して配置された透明層パターン２４５と光散乱層パターン２５０を具備してもよい。第１切断面２３２と第２切断面２３４との間の距離は光学シート２４０の厚さと実質的に同一であってもよい。

【0066】

一実施形態によれば、別途のパターニング工程及びコーティング工程を遂行しないのに、交互に繰り返して配置された透明層パターン２４５及び光散乱層パターン２５０を具備する光学シート２４０を形成することができる。また、光散乱層２１０は接着剤２２０を含むので、追加的な接着剤層が省略されることができる。

【0067】

図９〜図１２は、本発明のまた他の実施形態に係る光学シートの製造方法を説明するための斜視図である。

【0068】

図９に示したように、透明層３００と光散乱層３１０は交互に繰り返して配置されてもよい。

【0069】

透明層３００と光散乱層３１０は、図１を参照して説明した透明層１００及び光散乱層１１０と実質的に同一であるか、或いは、類似の物質を含んでもよい。また、図６を参照して説明した工程と実質的に同一であるか、或いは、類似の工程を遂行して、透明層３００と光散乱層３１０を交互に繰り返して配置してもよい。一実施形態によれば、第１透明層３００ａと第２透明層３００ｂとの間には第１光散乱層３１０ａを配置してもよく、第１光散乱層３１０ａと第２光散乱層３１０ｂとの間には第２透明層３００ｂを配置してもよい。第３透明層３００ｃ、第４透明層３００ｄ、及び第３光散乱層３１０ｃも上述したのと同じ方式で配置してもよい。

【0070】

さらに、図１０に示したように、透明層３００と光散乱層３１０との間に接着層３２０が配置されてもよい。

【0071】

接着層３２０は、図６を参照して説明した接着剤２２０と実質的に同一であるか、或いは、類似の物質を含むことができる。接着層３２０は透明層３００と光散乱層３１０との間に配置してもよい。

【0072】

その後、図１１に示したように、透明層３００、光散乱層３１０、及び接着層３２０を接着して積層構造物３３０を形成することができる。

【0073】

接着層３２０は上面及び下面に配置された透明層３００及び光散乱層３１０を接着することができる。これに伴い、透明層３００,光散乱層３１０及び接着層３２０が交互に繰り返して積層された構造物３３０を形成することができる。

【0074】

図１１では積層構造物３３０は複数の透明層３００、複数の光散乱層３１０及び複数の接着層３２０を含むことと図示されているが、本発明はこれによって制限されるのではない。例えば、積層構造物３３０は交互に繰り返して積層された数十〜数千個の光散乱層３１０、透明層３００及び接着層３２０を含むことができる。

【0075】

続いて、図１２に示したように、積層構造物３３０を切断して第１切断面３３２及び第２切断面３３４を形成することによって光学シート３４０を完成する。

【0076】

図８を参照して説明した工程と実質的に同一であるか、或いは、類似の工程を遂行して、第１切断面３３２及び第２切断面３３４を形成することができる。これに伴い、透明層パターン３４５、光散乱層パターン３５０及び接着層パターン３５５が交互に繰り返して配置された光学シート３４０を形成することができる。

【0077】

一実施形態によれば、別途のパターニング工程及びコーティング工程を遂行しないのに、交互に繰り返して配置された透明層パターン３４５、光散乱層パターン３５０及び接着層パターン３５５を具備する光学シート３４０を形成することができる。

【0078】

図１３及び図１４は、それぞれ本発明の一実施形態に係る光学シートを具備する有機発光表示装置の斜視図及び断面図である。

【0079】

図１３は本発明の一実施形態に係る光学シートを具備する有機発光表示装置の分解斜視図であり、図１４は図１３のＩ−Ｉ’ラインに従って切断した断面図である。

【0080】

図１３及び図１４を参照すれば、前記有機発光表示装置は表示パネル５００、表示パネル５００上に配置された第１光学シート４００及び第２光学シート４５０を含んでもよい。

【0081】

表示パネル５００は、第１方向とこのような第１方向に対して実質的に直交する第２方向に沿って配列された画素領域（Ｉ）及び画素領域（Ｉ）を取り囲む周辺領域（ＩＩ）を含むことができる。一実施形態において、画素領域（Ｉ）は、それぞれ実質的に同じ形態とサイズを有することができる。例えば、画素領域（Ｉ）は第１高さＨ１と第１幅Ｗ１を有してもよく、周辺領域（ＩＩ）は第２幅Ｗ２を有してもよい。

【0082】

表示パネル５００は、第１基板５１０、スイッチング構造物（ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）、第１電極５７０、発光構造物（ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）、第２電極６２０などを含むことができる。例えば、図１４に例示した有機発光表示装置は、背面発光構造を有することができる。

【0083】

前記スイッチング構造物は第１基板５１０上に配置してもよく、第１電極５７０は、前記スイッチング構造物上に位置してもよく、前記スイッチング構造物に電気的に接続されてもよい。前記発光構造物は第１電極５７０と第２電極６２０との間に配置されてもよい。

【0084】

第１基板５１０は透明絶縁基板を含んでもよい。例えば、第１基板５１０はガラス基板、石英基板、透明プラスチック基板などを含んでもよい。他の実施形態において、第１基板５１０は、軟性を有する基板（ｆｌｅｘｉｂｌｅ ｓｕｂｓｔｒａｔｅ）から構成してもよい。

【0085】

前記有機発光表示装置がアクティブマトリクス方式を採用する場合、前記スイッチング構造物は第１基板５１０と第１電極５７０との間に配置してもよい。一実施形態において、前記スイッチング構造物はそれぞれトランジスタのようなスイッチング素子と複数の絶縁層を含んでもよい。

【0086】

前記スイッチング構造物の前記スイッチング素子が薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を含む場合、前記スイッチング素子はゲート電極５５２、ソース電極５５４、ドレーン電極５５６、半導体層５３０などから構成してもよい。

【0087】

ゲート電極５５２にはゲート信号が印加されることができ、ソース電極５５４にはデータ信号が印加されることができる。ドレーン電極５５６は第１電極５７０に電気的に接続されてもよく、半導体層５３０はソース電極５５４とドレーン電極５５６に電気的に接触されてもよい。ここで、半導体層５３０はソース電極５５４に接続されるソース領域５３４、ドレーン電極５５６に接触するドレーン領域５３６、そしてソース領域５３４とドレーン領域５３６との間に位置するチャネル領域５３２を含んでもよい。

【0088】

半導体層５３０上にはゲート電極５５２を半導体層５３０から電気的に絶縁させるゲート絶縁膜５４０を配置してもよく、ゲート絶縁膜５４０上にはゲート電極５５２を覆う第１絶縁層５６０を配置してもよい。

【0089】

図１４に例示的に図示したスイッチング素子において、半導体層５３０上部にゲート電極５５２が配置されるトップゲート（ｔｏｐ−ｇａｔｅ）構造の薄膜トランジスタが例示的に図示されているが、前記スイッチング素子の構成がここに限定されるのではない。例えば、前記薄膜トランジスタは半導体層下にゲート電極が位置するボトムゲート（ｂｏｔｔｏｍ−ｇａｔｅ）構造を有してもよい。

【0090】

前記スイッチング構造物の第２絶縁層５６５は、ソース電極５５４とドレーン電極５５６とを覆って第１絶縁層５６０上に配置されてもよく、実質的に平坦な上面を有してもよい。

【0091】

図１４に図示したように、前記発光構造物はそれぞれ正孔輸送層（ＨＩＬ）５９０、有機発光層（ＥＬ）６００、電子輸送層（ＥＴＬ）６１０などを含むことができる。一実施形態において、有機発光層６００は、赤色光、緑色光、または、青色光を発生させるための発光物質を含んでもよい。他の実施形態によれば、有機発光層６００は互いに違う波長を有する光を発生させる複数の発光物質が混合された物質を含んでもよい。

【0092】

前記スイッチング構造物と前記発光構造物との間には第１電極５７０を配置してもよく、前記発光構造物と第２基板６６０との間に第２電極６２０を位置させてもよい。また、画素定義膜５７５を前記スイッチング構造物と前記発光構造物との間で第１電極５７０が配置されない部分に位置してもよい。

【0093】

一実施形態において、有機発光層６００は画素領域（Ｉ）内に配置してもよく、画素定義膜５７５は周辺領域（ＩＩ）内に配置してもよい。従って、有機発光層６００から発生した光は画素領域（Ｉ）で放出し、画素定義膜５７５が配置された周辺領域（ＩＩ）では光が放出されないこともある。

【0094】

一実施形態によれば、第１電極５７０は前記発光構造物の正孔輸送層５９０に正孔（ｈｏｌｅｓ）を提供する正極（ａｎｏｄｅ）に該当することができ、第２電極６２０は電子輸送層６１０に電子を提供する負極（ｃａｔｈｏｄｅ）に該当することができる。前記有機発光表示装置の発光方式により、第１電極５７０は透過電極または、反透過電極に該当することができ、第２電極６２０は反射電極に該当することもできる。例えば、第１電極５７０は、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、錫酸化物（ＳｎＯｘ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯｘ）などのような透明導電性物質を含んでもよく、第２電極６２０はアルミニウム（Ａｌ）、白金（Ｐｔ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタン（Ｔｉ）、これらの合金などのような相対的に高反射率を有する金属を含んでもよい。

【0095】

第２基板６６０は第２電極６２０上に配置してもよい。第２基板６６０は透明基板を含んでもよい。例えば、第２基板６６０はガラス基板、透明プラスチック基板などを含んでもよい。一方、第２基板６６０は、軟性を有する基板から構成してもよい。一実施形態において、第２基板６６０は第１基板５１０と実質的に同じ物質を含んでもよいが、第１及び第２基板５１０、６６０が互いに違った物質を含んでもよい。

【0096】

第１光学シート４００は、図１〜図６を参照して説明した光学シート１４０と実質的に同一であるか、或いは、類似することができる。即ち、第１光学シート４００は第１透明層パターン４１０及び第１光散乱層パターン４２０を含むことができる。第１透明層パターン４１０及び第１光散乱層パターン４２０は、前記第１方向に沿って延伸してもよく、前記第２方向に沿って整列してもよい。ここで、第１光散乱層パターン４２０は、それぞれ第１光散乱式粒子４３０を含んでもよい。

【0097】

一実施形態において、第１透明層パターン４１０の幅は、画素領域（Ｉ）の第１高さＨ１に実質的に対応することができ、第１光散乱層パターン４２０の幅は周辺領域（ＩＩ）の第２幅Ｗ２に実質的に対応することができる。即ち、第１透明層パターン４１０の幅は、画素領域（Ｉ）の第１高さＨ１の整数倍であってもよく、第１光散乱層パターン４２０の幅は、周辺領域（ＩＩ）の第２幅Ｗ２の整数倍であってもよい。これに伴い、第１光散乱層パターン４２０が周辺領域（ＩＩ）と実質的に重なるように配置してもよい。

【0098】

一方、第２光学シート４５０も第１光学シート４００と実質的に類似していてもよい。この場合、第２光学シート４５０は前記第２方向に沿って延伸した第２透明層パターン４６０及び第２光散乱層パターン４７０を含むことができる。

【0099】

一実施形態において、第２透明層パターン４６０の幅は、画素領域（Ｉ）の第１幅Ｗ１に実質的に対応してもよく、第２光散乱層パターン４７０の幅は、周辺領域（ＩＩ）の第２幅Ｗ２に実質的に対応してもよい。従って、第２光散乱層パターン４７０が周辺領域（ＩＩ）と実質的に重なるように配置してもよい。

【0100】

一実施形態に係る有機発光表示装置において、第１透明層パターン４１０及び第２透明層パターン４６０は、画素領域（Ｉ）に実質的に対応するように配置してもよい。画素領域（Ｉ）で発生して第１光学シート４００と直交する方向に進行する光（即ち、前記有機発光表示装置の正面方向に進行する光）は第１透明層パターン４１０及び第２透明層パターン４６０のみを通過してもよく、これに伴い、第１光学シート４００及び第２光学シート４５０を通過する時に光の輝度が維持されてもよい。反面、第１光散乱層パターン４２０及び第２光散乱層パターン４７０は、周辺領域（ＩＩ）に対応するように配置してもよい。画素領域（Ｉ）で発生して第１光学シート４００と所定の角度をなす方向に進行する光（即ち、前記有機発光表示装置の側面方向に進行する光）は、第１光散乱層パターン４２０及び第２光散乱層パターン４７０を通過してもよい。これに伴い、前記の側面方向に進行する光は第１光散乱層パターン４２０及び第２光散乱層パターン４７０で分散することができ、光の波長変化が減少することができる。結局、前記正面方向に進行する光と前記の側面方向に進行する光との間の色変化（ｃｏｌｏｒ ｓｈｉｆｔ）現象を減少させることができるので、前記有機発光表示装置が向上した品質を有する画像を表示することができる。

【0101】

図１５〜図１６はそれぞれ本発明の一実施形態に係る光学シートを具備する有機発光表示装置の製造方法を説明するための断面図及び斜視図である。

【0102】

図１５を参照すれば、前記有機発光表示装置の表示パネル５００が提供されることができる。

【0103】

表示パネル５００は、図１４を参照して説明した表示パネル５００と実質的に同一であるか、或いは、実質的に類似の構成を有してもよく、これに対する詳細な説明は省略する。

【0104】

図１６を参照すれば、表示パネル５００上に第１光学シート４００及び第２光学シート４５０を形成することができる。一実施形態において、第１光学シート４００及び第２光学シート４５０は、図１〜図１２を参照して説明した工程と実質的に同一であるか、或いは、実質的に類似の工程によって形成することができる。従って、第１及び第２光学シート４００、４５０の製造過程に対する詳細な説明は省略する。

【0105】

表示パネル５００上に第１光学シート４００を形成してもよい。一実施形態において、第１光学シート４００の第１光散乱層パターンが表示パネル５００の周辺領域（ＩＩ）と実質的に重なり、第１光学シート４００の第１透明層パターンが画素領域（Ｉ）と実質的に重なるように配置してもよい。例えば、前記第１光散乱層パターンは、表示パネル５００上で第１方向に沿って延伸することができる。

【0106】

第１光学シート４００上には第２光学シート４５０が形成されてもよい。ここで、第２光学シート４５０の第２光散乱層パターン４７０は、第１光学シート４００の第１光散乱層パターンと実質的に直交するように配置してもよい。即ち、第２透明パターン４６０と第２光散乱層パターン４７０は、前記第１方向に対して実質的に直交する第２方向に沿って延伸することができる。一実施形態によれば、第２光学シート４５０の第２光散乱層パターンが表示パネル５００の周辺領域（ＩＩ）と実質的に重なり、第２光学シート４５０の第２透明層パターンが画素領域（Ｉ）と実質的に重なるように形成してもよい。

【0107】

一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法において、別途のパターニング工程を遂行しないで、交互に繰り返して配置された透明層パターンと光散乱層パターンを具備する光学シートを形成してもよい。また、このような光学シートを前記有機発光表示装置の表示パネルに形成し、前記表示パネルの正面方向に放出される光の輝度を維持させながら、前記表示パネルの側面方向に放出される光のカラーシフト現象を抑制することができる。これに伴い、前記有機発光表示装置によって表示される画像の品質を改善することができる。

【0108】

以上説明したように、本発明の実施形態によれば、本発明の一実施形態に係る光学シートの製造方法において、別途のパターニング工程を遂行しないで、交互に繰り返して配置された透明層パターンと光散乱層パターンを具備する光学シートを形成することができる。前記光学シートが有機発光表示装置に採用される時、前記光学シートは正面方向に放出される光の輝度を維持させながら、側面方向に放出される光のカラーシフト（ｃｏｌｏｒ ｓｈｉｆｔ）現象を抑制して前記有機発光表示装置が現わす画像の品質を向上させることができる。

【0109】

なお、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

【産業上の利用可能性】

【0110】

本発明の一実施形態に係る光学シートの製造方法において、別途のパターニング工程を要求しないで、交互に繰り返して配置された透明層パターンと光散乱層パターンを具備する光学シートを形成することができる。このような光学シートを有機発光表示装置に適用する場合、前記有機発光表示装置の正面方向に放出される光の輝度を維持させながら、前記有機発光表示装置の側面方向に放出される光のカラーシフト現象を抑制することができる。

【符号の説明】

【0111】

１００、２００、３００ 透明層
１００ａ、２００ａ、３００ａ 第１透明層
１００ｂ、２００ｂ、３００ｂ 第２透明層
１００ｃ、２００ｃ、３００ｃ 第３透明層
１１０,２１０,３１０ 光散乱層
１１０ａ、２１０ａ、３１０ａ 第１光散乱層
１１０ｂ、２１０ｂ、３１０ｂ 第２光散乱層
１１０ｃ、２１０ｃ、３１０ｃ 第３光散乱層
２２０ 接着剤
３２０ 接着剤層
１２５、２２５、３２５ 光散乱式粒子
１３０、２３０、３３０ 積層構造物
１３２、２３２、３３２ 第１切断面
１３４、２３４、３３４ 第２切断面
１４０、２４０、３４０ 光学シート
１４５、２４５、３４５ 透明層パターン
１５０、２５０、３５０ 光散乱層パターン
３５５ 接着層パターン
４００ 第１光学シート
４１０ 第１透明層パターン
４２０ 第１光散乱層パターン
４３０ 第１光散乱式粒子
４５０ 第２光学シート
４６０ 第２透明層パターン
４７０ 第２光散乱層パターン
４８０ 第２光散乱式粒子
５００ 表示パネル
５１０ 第１基板
５３０ 半導体層
５３２ チャネル領域
５３４ ソース領域
５３６ ドレーン領域
５４０ ゲート絶縁膜
５５２ ゲート電極
５５４ ソース電極
５５６ ドレーン電極
５６０ 第１絶縁層
５６５ 第２絶縁層
５７０ 第１電極
５７５ 画素定義膜
５９０ 正孔輸送層
６００ 有機発光層
６１０ 電子輸送層
６２０ 第２電極
６６０ 第２基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】