【課題を解決するための手段】
【0010】
この目的は、明細書の導入部において説明される類型の方法を用いて達成され、画像処理動作において、サブ画像をともにステッチングし、複合画像を形成することが、パターン手段を用いて生成される光学パターンを使用して行われる。このパターンは、相互に関連するサブ画像の位置が、サブ画像内のその場所等のパターンの特性を用いて確実に判定され得るように構成されるように、適正な光学情報を提供する。
【0011】
この場合、サブ画像は、パターンが、両サブ画像の重複領域内で、またパターンがサブ画像内で直接撮像されないとき、相互に重複するパターン画像内で撮影されるように、少なくとも部分的に、相互に重複する場合、有利である。しかしながら、サブ画像の重複は、光学パターンがまた、すぐ隣接するサブ画像パターンを用いて相互にそれらの位置が固定され得るように構成されることができるため、必ずしも必要ではない。
【0012】
サブ画像は、物体の一部を描写する。複合画像は、物体のより大きい部分または物体全体を描写し、便宜上、少なくとも2つのサブ画像、特に、K個のサブ画像の少なくとも1次元鎖(K
33)から構成され、さらに、特に、N×M個のサブ画像の2次元配列(N
32およびM
32)から構成される。サブ画像は、相互に当接する、または相互に重複することができる。サブ画像は、k個の画素を伴う少なくとも1次元画像であって(k
32)、便宜上、2次元画素配列、便宜上、n×m個の画素の配列(n
32およびm
32)を伴う2次元画像である。対応して、サブ画像を捕捉するための画像捕捉デバイスの画像検出器は、特に、2次元グリッド内の少なくともn×mに配列される、少なくともk個の隣接する検出器要素を備える。画像処理動作におけるアルゴリズムは、便宜上、光学パターンを使用して、サブ画像をともにステッチングする。画像処理方法は、以下のステップのうちの1つ以上を含むことができる。
【0013】
少なくとも部分的に、光学パターンを含有する、少なくとも2つの画像が、パターンのパターン要素に関して検査される。随意に、パターン要素は、パターン認識デバイス等を用いて認識されることができる。2つの画像中に見出されるパターン要素が、一致に関して相互と比較される。一致は、パラメータ、すなわち、サイズおよび/または色の形態で検査されることができる。1つ以上のパラメータにおける一致が、予め画定された程度を超える場合、2つのパターン要素が、相互に割り当てられる。相補的パターン要素が、相互に関連するそれらの場所に関して検査される。場所は、画像内の位置および配向を備えることができる。パターン要素の場所は、それらの位置における2つの画像を相互に関連させるために使用されることができる。2つの画像は、本関係を用いてともに混成され、複合画像を形成する。複合画像では、2つの相補的パターン要素が、一方が他方の上部に調和するように重畳される。
【0014】
パターン手段は、便宜上、物体の外側に配列される。パターン手段は、物体を撮像するための付加的パターンを生成する。したがって、パターンは、物体内に固有のパターンではない。パターン手段は、便宜上、物体とは独立である。代替として、パターン手段は、物体の構成要素、例えば、サンプル担体上に搭載されるパターン手段であってもよい。サンプル要素、例えば、接着剤中の粒子等のパターン要素さえ、可能性として考えられ、有利である。一般に、パターン手段が、検査される物体がない、または検査されるべき物体の領域がない、領域内に配列される、またはその中のパターンとして撮像され、したがって、パターンが物体の輪郭を妨害しない場合、有利である。
【0015】
光学パターンは、1つ以上のパターン要素から成ることができる。パターンは、その幾何学形状が、パターン手段、例えば、ドットおよび/または線によって画定されるように生成される、予め画定されたパターンであることができる。しかしながら、また、事前に判定されないように、画定されないようなパターンを生成することも可能性として考えられる。画像処理ユニットは、パターン認識のための1つまたはそれを上回るアルゴリズムを備える。本アルゴリズムは、便宜上、そのようなサブ画像またはパターン画像てでパターンを認識する。
【0016】
光学パターンは、サブ画像内、便宜上、2つの隣接するサブ画像の重複領域内で、完全または部分的に撮像されることができる。しかしながら、概して、パターンは、重複領域内に配列される必要は必ずしもない(所望に応じて、部分的にのみ)。パターンまたはその一部が、サブ画像内に配列される場合、パターンのある特性が、パターンの1つの縁から登録されることができる(例えば、輝度プロファイル)。
【0017】
光学パターンが、完全または部分的に、サブ画像内で撮像される場合、画像処理ユニットは、直接、サブ画像から、光学パターン、またはより具体的には、パターン要素を認識することができ、サブ画像を正しい位置にともにステッチングすることができる。しかしながら、サブ画像内の光学パターンの撮像は、光学パターンが、サブ画像の画像コンテンツを隠し、その結果、サブ画像の画像コンテンツを低減させ得るという短所を有する。本問題を排除するために、便宜上、サブ画像に関連して画定された相対的場所を有する、1つ以上のパターン画像内の光学パターンを撮像することが有利である。パターン画像は、光学パターンがパターン画像内においてのみ撮像され、サブ画像がパターンを有していないように、サブ画像と異なる場合、有利である。
【0018】
各サブ画像がパターン画像に割り当てられる場合、有利である。この場合、異なるサブ画像が、異なるパターン画像に割り当てられる。画像処理ユニットは、2つの画像、すなわち、2つのサブ画像または2つのパターン画像内の1つのパターン要素の場所を用いて、相互に対してサブ画像に関連する位置を判定する。相互に関連するサブ画像の位置はまた、相互に関連するパターン画像の場所を用いて、間接的に判定されることができる。
【0019】
サブ画像を捕捉するために、物体は、便宜上、カメラまたは対物レンズ等の画像捕捉デバイスに関連して移動される。その結果、画像捕捉デバイスは、サブ画像別に、物体を走査することができる。有利には、パターンは、物体とともに移動される。したがって、パターンは、物体自体として、画像捕捉デバイスに対して同一方法で移動する。同時に、パターンが、その移動において、パターンと物体との間の相対的移動が生じないように、物体の移動に完全に結合される場合、有利である。移動は、相対的移動にすぎないため、また、物体およびパターンを静止状態に保持し、画像捕捉デバイスを移動させることも可能性として考えられる。有利には、パターン手段は、物体ホルダおよび物体とともに移動される。特に、パターン手段は、自動的に、該物体ホルダとともに移動される。この場合、自動移動は、パターン手段と物体ホルダとの間の剛性接続を用いて生成されることができる。
【0020】
本発明の有利な実施形態の1つとして、物体ホルダが、サンプルステージであって、物体が、サンプル、特に、サンプルステージ上に配列される、生物学的サンプルであることが挙げられる。生物学的サンプルは、生物学的材料、特に、細胞、微生物、細菌、および/または同等物を含む。サンプルは、便宜上、2次元平坦サンプルであって、1つ以上のサンプル要素、例えば、マイクロチップ、複数のサンプル容器の配列、および/または同等物を呈することができる。有利には、サンプルは、サンプルホルダ上または内に設置される、サンプル物質を備える。サンプルは、カバー、便宜上、カバーガラスによって被覆されることができる。有利には、サンプルホルダ、特に、また、カバーは、物体画像の波長において透明である。サンプルホルダのために適切な材料は、ガラスである。
【0021】
本発明の付加的有利な実施形態として、方法が、顕微鏡検査方法であって、サブ画像が、顕微鏡の光学システムを用いて捕捉されることが挙げられる。顕微鏡の光学システムは、便宜上、少なくとも5倍の拡大率、特に、少なくとも205倍の拡大率を有する。
【0022】
画像検出器上の光学パターンを撮像するために、複数のパラメータに依存する、いくつかの可能性がある。これらのパラメータは、以下に詳細に説明され、いかようにも組み合わせられることができる。
【0023】
第1のパラメータは、材料パターンまたは非材料パターンとしてのパターンの実行である。故に、パラメータは、2つの可能性を有する。パターンは、材料パターン、例えば、物体ホルダにしっかりと接続される、ガラススケール等のアイテム、および/または物体、例えば、サンプルにしっかりと接続される、アイテムであることができる。いくつかの実施例として、サンプル、例えば、接着剤中の粒子、または物体の要素のコーティングが挙げられ得る。対照的に、非材料パターン、例えば、撮像の形態で実行され得る、放射パターンは、特に、有利である。パターンは、例えば、パターン手段によって、放射パターンとして、パターン担体、例えば、物体上に投射される。用語「放射パターン」はまた、陰影パターンを含む。パターン担体上への材料パターンの投影は、有利である。便宜上、パターン手段は、光学パターンがオフに切り替えられ得るように構成される。すなわち、光学パターンは、オンおよびオフに切り替えられることができる。
【0024】
第2のパラメータは、パターンが画像検出器上で捕捉される、波長、またはより具体的には、放射スペクトルである。用語「波長」は、鋭波長だけではなく、また、波長のスペクトルに関しても以下で使用される。パターンまたはその一部の画像は、物体画像の波長またはパターン画像の波長で捕捉されることができる。故に、これらのパラメータはまた、2つの可能性、すなわち、二重パラメータを有する。物体画像の波長は、サブ画像が捕捉され、画像を捕捉する物体画像検出器が敏感である、波長またはむしろ光学スペクトルである。画像の波長は、可視スペクトル範囲内であることができ、蛍光波長または任意の他の好適なスペクトル範囲内であることができる。
【0025】
パターン画像の波長は、物体画像の波長と異なる。パターン画像の該波長は、物体画像の波長外、またはより具体的には、物体画像の波長スペクトル外にある。パターン画像の該波長は、サブ画像が捕捉されず、したがって、それに対する物体画像検出器が敏感ではなく、または物体画像の光路からフィルタリングされるような波長またはむしろスペクトル範囲である。サブ画像を捕捉する過程において、パターンの波長は、例えば、サブ画像が本波長で捕捉されないように、光路からフィルタリングされる。付加的可能性では、パターンの波長は、物体画像検出器に不可視である。故に、該物体画像検出器は、本波長に敏感ではない。
【0026】
付加的パラメータは、パターンの励起波長および放出波長を構成する。典型的には、パターンの放出波長は、パターンの励起波長スペクトル内に含まれる。パターンは、例えば、青色光で生成され、青色光で放出し、青色スペクトル範囲内で捕捉される。しかしながら、また、その放出波長が、例えば、蛍光の場合、励起波長スペクトル内に含まれないように、パターンを構成する可能性もある。この場合、高度に励起した放射が、低励起放射を伴うパターンを放出する、パターン担体上に入射され、パターンは、次いで、捕捉される。故に、本パラメータはまた、二重パラメータでもあって、したがって、2つの可能性を有する。
【0027】
付加的二重パラメータは、パターンが、パターン、例えば、物体としてパターン担体上にすでに入射されているか、または該パターンが、最初に、パターン担体によって形成される、すなわち、パターンが、パターン担体に固有であるという2つの可能性を有する。この場合、パターン担体は、例えば、均一に暴露され、該パターン担体は、例えば、1つのみのパターン領域が、散乱、反射、または蛍光発光するという点において、その放出にパターンを生成する。
【0028】
別の二重パラメータは、パターンが、複合画像を生成するために使用される、サブ画像内において、したがって、物体の撮像の際に撮像されるかどうか、またはパターンが、物体画像の追加である、パターン画像内で撮像されるかどうかから成る。この場合、パターンは、サブ画像内の物体情報が最大限に維持されるように、サブ画像内で撮像されない。
【0029】
パターン画像が捕捉されるとき、パターン画像がサブ画像に関連する予め画定された位置に配列される場合、有利である。相互に対するパターン画像の位置は、パターン画像内のパターンの評価を用いて判定されることができる。相互に対するサブ画像の位置は、これらのサブ画像が、ともにステッチングされ、複合画像を形成し得るように、パターン画像に関連する物体画像の既知の位置を用いて判定されることができる。
【0030】
パターン画像は、物体の撮像を備えることができる。しかしながら、サブ画像として使用されない。例えば、物体は、物体画像検出器上のパターンとともに撮像され、パターン画像が、捕捉される。特に、所定の基準点に対するパターン画像の位置が、パターンを用いて判定される。サブ画像は、パターンを撮像から除去し、次いで、サブ画像を捕捉するか、または最初捕捉サブ画像を捕捉し、次いで、検出器上の撮像の際、パターンを可視化する可能性があるように、パターンを伴わずに、事前におよび/または後で捕捉される。便宜上、物体ホルダは、例えば、両画像内の基準点に対して、同一位置に保持される。
【0031】
付加的パラメータは、非材料パターンの場所である。パターンは、パターン担体において見えるようになる。本パターン担体は、例えば、物体ホルダまたは異なるアイテムにおける、物体とは異なる、物体またはアイテムであることができる。
【0032】
さらに、パターンが、物体画像の波長に透明である、パターン担体上で可視化される場合、有利である。パターン担体は、サブ画像が捕捉された物体画像波長で透過照明されることができる一方、パターンは、パターン担体によって放出されることができる。この場合、パターン担体は、便宜上、パターン画像の波長に不透明である。パターン担体は、ガラス、例えば、サンプル担体および/またはサンプルを被覆するためのカバーガラスであることができる。複数の要素をともに糊着する、接着剤もまた、可能性として考えられる。パターン担体水も同様に、例えば、物体の構成要素として可能性として考えられ、有利である一方、物体の他の構成要素もまた、同時に、パターン担体として使用されることができる。ガラスは、パターン担体等として使用されることができるか、または物体画像の波長に透明であって、パターン画像の波長に不透明である、歪みを備えることができる。
【0033】
本発明の別の有利な実施形態として、パターンが、レーザパターンであることが挙げられる。所定のパターンは、特に、レーザを用いて生成することが容易である。レーザパターンは、便宜上、物体またはその一部ではない、パターン担体上に有利な方法で可視化される。レーザは、丁度レーザパターン同様に、物体画像の波長またはパターン画像の別個の波長で照射することができる。同様に、レーザパターンは、レーザによって励起され、レーザとは異なる波長で逆照射することも可能性として考えられる。
【0034】
さらに、パターンが干渉パターンである場合、有利である。本干渉パターンは、例えば、サンプルのカバーガラスであることができ、かつ物体画像の波長に透明である、パターン担体内で生成されることができる。この場合、干渉パターンは、物体画像検出器またはパターン画像検出器上等で撮像されることができる。
【0035】
パターンは、特に、サンプル要素、すなわち、サンプルと関連付けられた要素、例えば、サンプルカバーガラス等のサンプルホルダまたはその一部内に、定常波として、同一利点を伴って生成されることができる。
【0036】
スペックルパターンとしてのパターンの生成も同様に、可能性として考えられ、有利である。本スペックルパターンはまた、有利には、サンプル要素内で生成される。
【0037】
付加的二重パラメータは、サブ画像およびパターン画像の捕捉の経時的シーケンスである。捕捉は、同時に、または連続して生じることができる。連続画像捕捉の際、サブ画像が、最初に生成されることができ、次いで、事前にまたは後で、サブ画像に割り当てられるパターン画像が、生成されることができる。サブ画像およびパターン画像は、同一物体画像検出器上で撮像されることができるか、またはサブ画像は、物体画像検出器上で撮像され、パターン画像は、パターン画像検出器上で撮像される。
【0038】
別の二重パラメータは、物体画像検出器と別個である、物体画像検出器またはパターン画像検出器のいずれか上のパターンの撮像から成る。2つの検出器が使用される場合、これらの検出器は、物体画像の同一波長に、または異なるスペクトル範囲に、例えば、物体画像検出器は、物体画像の波長に、パターン画像検出器は、パターン画像の波長に敏感であることができる。
【0039】
付加的パラメータは、パターンを捕捉する、対物レンズの選択肢である。パターンは、検出器上の物体対物レンズを用いて撮像されることができ、本物体対物レンズはまた、物体画像検出器上の物体を撮像する。別の可能性は、便宜上、物体対物レンズに加えて存在し、それを用いて物体が撮像されない、パターン対物レンズを用いたパターンの撮像から成る。両検出器および2つの対物レンズのパラメータは、いかようにも相互に組み合わせられることができる。したがって、光路は、2つの対物レンズから1つの検出器、または1つの対物レンズから2つの検出器、または2つの対物レンズから2つの検出器、または物体およびパターンを撮像する、1つの対物レンズから単一検出器に案内されることができる。
【0040】
付加的パラメータは、物体に関連するパターンの相対的位置から成る。パターンは、物体上または内において、便宜上、物体画像の平面内で可視化され得る。別の可能性は、物体画像内におけるパターンの配列(但し、物体画像の平面の前または後に)から成る。この目的を達成するために、パターンが、サブ画像の物体平面外、すなわち、光学システムが、物体の先鋭撮像のために、物体画像検出器上に集束する平面外に配列されることが有利である。この場合、光学システムは、最初に、パターン上、次いで、物体上、またはその逆に集束することができる。画像、すなわち、サブ画像およびパターン画像は、集束の関数として、捕捉されることができる。パラメータのための第3の可能性は、物体に隣接して、かつ物体画像外にパターンを配列することから成る。
【0041】
別のパラメータは、光学パターンを生成する放射が、物体上に入射するかどうか、またはパターンが物体を通して進むかどうかを含むことができる。放射が、物体上に入射する場合、放射は、物体の対物レンズを用いて、物体上に入射されることができる。すなわち、放射は、物体画像の画像光路の中に結合されることができる。代替として、または加えて、放射は、物体の対物レンズを越えて、外部から物体上に透過されることができる。パターンが透過光技法において放射する場合、該パターンは、物体または物体ホルダを通して通過される。
【0042】
適切なパターン手段の選択肢は、付加的パラメータをもたらす。パターン手段は、伝送要素、すなわち、光源によって照明され、放射の一部のみを、光パターンまたは陰影パターンとして通過することを可能にするような要素であることができる。別の実施形態は、本発明の一つの有利な実施形態では、パターンが、パターン光源の撮像であり得るように、その非均一放出を用いて、パターンをすでに形成する、自己放射パターン、例えば、LEDを使用する。
【0043】
前述のパラメータは、パターンの有利な生成が個別の用途のために達成されるように、いかようにも組み合わせられることができる。個々の有利な例示的実施形態は、図と併せて説明される。しかしながら、前述のパラメータの組み合わせに対応する、多数の可能性として考えられ、有利な実施形態に起因して、有利な実施形態の全てを説明することは不可能である。対応して、有利な実施形態のわずかな選択のみ、提示され得る。しかしながら、パラメータの他の組み合わせも、他の用途では有利であり得る。
【0044】
加えて、本発明は、複数のサブ画像から構成される、複合画像を生成するためのデバイスに関する。本デバイスは、物体画像検出器と、物体画像検出器上の物体を撮像するための光学システムと、物体の複数の隣接する、特に、部分的に、重複するサブ画像をともにステッチングし、コヒーレント複合画像を形成するための画像処理ユニットとを備える。
【0045】
本デバイスは、本発明による、光学パターンを生成するためのパターン手段を呈することが提案される。この場合、画像処理ユニットは、サブ画像をともにステッチングし、パターンを用いて複合画像を形成するように事前に構成される。前述のように、相互に関連するサブ画像の相対的位置は、パターンを用いて認識されることができ、サブ画像は、正しい位置にともにステッチングされ、複合画像を形成することができる。
【0046】
本デバイスは、有利には、検出器、対物レンズ、サンプル要素、パターン担体、および同等物等の前述の説明されるデバイス要素のうちの1つ以上を備える。
【0047】
さらに、本デバイスは、有利には、本発明による方法を実施するように事前に構成される、制御ユニットと、本方法の前述の詳細のうちの1つ以上とを備える。
【0048】
光学システムは、便宜上、物体画像の波長において透過性であって、また、物体対物レンズを備えることができる、物体光学システムを備える。さらに、光学システムは、有利には、パターン画像の波長において透過性であって、また、パターン対物レンズを備えることができる、物体光学システムを備える。便宜上、物体光学システムは、パターン画像の波長において、50%未満、特に、10%未満透明である。
【0049】
本発明の有利な実施形態の前述の説明は、詳細に説明される本発明の多数のパラメータを含む。しかしながら、当業者は、これらの特徴を実践的方法で組み合わせ、論理的組み合わせを形成するであろう。特に、これらの特徴は、独立請求項に従って、個々に、かつ本発明の方法および本発明のデバイスと任意の適切な組み合わせで、組み合わせられることができる。
【0050】
本発明の前述の説明される特性、特徴、および利点、ならびに該特性、特徴、および利点が達成される様式は、図面を参照して詳細に説明される、例示的実施形態の以下の説明と併せて、より明確となり、かつより深く理解されるであろう。例示的実施形態の目的は、本発明を説明することであって、機能特徴に関してさえも、本発明を該例示的実施形態に開示される特徴の組み合わせに限定することではない。加えて、例示的実施形態のうちの任意の1つの個別の好適な特徴はまた、明示的に切り離して検討されてもよく、一例示的実施形態から除去される、それを補完するために、別の例示的実施形態に挿入されてもよく、および/または請求項のうちの任意の1つと組み合わせられることができる。
例えば、本願発明は以下の項目を提供する。
(項目1)
複数のサブ画像(6)から構成される、物体(8)の複合画像(4)を生成するための方法であって、前記物体(8)の複数の隣接するサブ画像(6)が捕捉され、前記サブ画像(6)が画像処理動作を用いてともに組み合わせられてコヒーレント複合画像(4)を形成し、前記画像処理動作において、前記サブ画像(6)をともにステッチングすることが、パターン手段(44)を用いて生成される光学パターン(30、74)を使用して実施されることを特徴とする、方法。
(項目2)
前記物体(8)が、サンプルステージとして設計される物体ホルダ(10)上に配列されるサンプル(60)であって、前記方法が、顕微鏡検査方法であって、前記光学システムが、少なくとも5倍の拡大率を伴う顕微鏡光学システムであることを特徴とする、項目1に記載の方法。
(項目3)
前記パターン手段(44)が、前記パターン(30)を、パターン担体上の放射パターンとして投射することを特徴とする、項目1または2に記載の方法。
(項目4)
前記パターン(30)が、前記物体のサブ画像(6)が捕捉される物体画像波長で生成されることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目5)
前記パターン(30)がパターン画像(68)で捕捉され、前記サブ画像(6)には前記パターン(30)がないことを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目6)
前記サブ画像(6)に追加して、前記パターン画像(68)が捕捉され、前記パターン画像が前記サブ画像(6)に対して予め画定された位置に配置され、前記パターン(30)が前記パターン画像(68)内で見えることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目7)
前記パターン(30)が入射波長を用いて生成され、前記入射波長と異なる放出波長を用いて放出および捕捉されることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目8)
前記パターン(30)が蛍光パターンであることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目9)
前記パターン(30)が前記物体(8)上に配列されるパターン担体上で見えるようにされ、前記物体画像の波長に対して透明であることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目10)
前記パターンがレーザパターンであることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目11)
前記パターンが干渉パターンであることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目12)
前記パターンが特にサンプル要素内の定常波として生成されることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目13)
前記パターンがスペックルパターンであることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目14)
前記物体(8)が物体画像検出器(18)上で撮像され、パターン画像(68)が前記物体画像要素とともに捕捉され、前記パターン(30)が前記撮像から除去され、前記物体のサブ画像(6)が捕捉されることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目15)
前記パターン(30)が前記サブ画像(6)の前記物体平面外に配列されることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目16)
前記パターンがパターン光源の撮像であることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目17)
前記パターンが、前記サンプルの中に下方から透過される透過光パターンであることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目18)
画像を捕捉する目的のために、前記サブ画像(6)が物体画像検出器(18)上で対物レンズ(14)を用いて撮像され、前記パターン(30)が少なくとも部分的に前記対物レンズ(14)を用いて前記物体(8)上に入射することを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目19)
前記物体(8)が物体画像検出器(18)上の対物レンズ(14)を用いて撮像され、前記パターン(30)がパターン画像検出器(34)上で前記対物レンズ(14)を用いて同時に撮像されることを特徴とする、前記項目のいずれか1項に記載の方法。
(項目20)
前記対物レンズ(14)が前記物体(8)を前記物体の焦点面内に集束させ、前記パターン(30)を前記物体の焦点面と異なるパターン焦点面内に集束させることを特徴とする、項目19に記載の方法。
(項目21)
複数のサブ画像(6)から構成される複合画像(4)を生成するためのデバイス(2)であって、物体画像検出器(18)と、前記物体画像検出器(18)上で物体(8)を撮像するための光学システム(26)と、前記物体(8)の複数の隣接するサブ画像(6)をともに組み合わせてコヒーレント複合画像(4)を形成するための画像処理ユニット(36、38)とを備え、
光学パターン(30)を生成するためのパターン手段(44)を特徴とし、前記画像処理ユニット(36、38)が、前記パターン(30)を用いて前記サブ画像(6)をともにステッチングして前記複合画像(4)を形成するように事前に構成された、デバイス。
(項目22)
前記光学システム(26)が、前記パターン画像の波長において透過性であるパターン光学システムと、前記物体画像の波長において透過性であって、前記パターン画像の波長において不透明である物体光学システムとを備えることを特徴とする、項目21に記載のデバイス。