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特許6282917真空処理装置
発明の名称 真空処理装置
出願人 株式会社ＩＨＩ （識別番号 99）
特許公開件数ランキング 334 位（97件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 171 位（168件）（共同出願を含む）
出願人 株式会社梶製作所 （識別番号 591070587）
特許公開件数ランキング 30447 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 24615 位（1件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-6282917
公報発行日 2018年2月21
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6282917
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