特許 6284346 有機ＥＬ表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6284346

(24)【登録日】2018年2月9日

(45)【発行日】2018年2月28日

(54)【発明の名称】有機ＥＬ表示装置

(51)【国際特許分類】

   H05B 33/12 20060101AFI20180215BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20180215BHJP

   H05B 33/22 20060101ALI20180215BHJP

   H01L 27/32 20060101ALI20180215BHJP

   G09F 9/30 20060101ALI20180215BHJP

【ＦＩ】

   H05B33/12 E

   H05B33/14 A

   H05B33/12 B

   H05B33/22 Z

   H01L27/32

   G09F9/30 365

【請求項の数】6

【全頁数】11

(21)【出願番号】特願2013-243313(P2013-243313)

(22)【出願日】2013年11月25日

(65)【公開番号】特開2015-103406(P2015-103406A)

(43)【公開日】2015年6月4日

【審査請求日】2016年11月15日

(73)【特許権者】

【識別番号】502356528

【氏名又は名称】株式会社ジャパンディスプレイ

(74)【代理人】

【識別番号】110000154

【氏名又は名称】特許業務法人はるか国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】松本 優子

(72)【発明者】

【氏名】鈴木 雅彦

(72)【発明者】

【氏名】大岡 浩

(72)【発明者】

【氏名】大河原 健

(72)【発明者】

【氏名】高橋 恒平

【審査官】 大竹 秀紀

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００６−０５８７１０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−３１９１００（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２００７／１２２８５７（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００６−０３２０１０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−００９０１７（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０５Ｂ ３３／１２

Ｈ０５Ｂ ３３／２２

Ｈ０１Ｌ ５１／５０

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

第１の基板と、
前記第１の基板に形成され、各画素においてそれぞれ下側に凹むように湾曲している下部電極、有機ＥＬ層、及び上部電極と、
各画素に設けられ、前記有機ＥＬ層に合わせて下側に凹むように湾曲しているカラーフィルタと、を備え、
前記カラーフィルタの湾曲部の頂点は、前記湾曲している下部電極の周縁部よりも、前記第１の基板の表面に近いことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。

【請求項2】

請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置において、
前記第１の基板に向き合っている第２の基板が設けられ、
前記カラーフィルタは前記第２の基板に形成されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。

【請求項3】

請求項２に記載の有機ＥＬ表示装置において、
前記第２の基板は、前記下部電極、前記有機ＥＬ層、及び前記上部電極に合わせて湾曲した表面を有する凸部を有し、
前記カラーフィルタは前記凸部の前記第１の基板側に形成されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。

【請求項4】

請求項３に記載の有機ＥＬ表示装置において、
前記第１の基板及び前記第２の基板の平面視でのサイズに関して、前記第２の基板の前記凸部は、前記下部電極、前記有機ＥＬ層、及び前記上部電極の凹みよりも小さいことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。

【請求項5】

請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置において、
前記第１の基板に向き合っている第２の基板が設けられ、
前記上部電極と前記第２の基板との間には充填剤が設けられ、
前記カラーフィルタは前記上部電極と前記充填剤との間に形成されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。

【請求項6】

請求項５に記載の有機ＥＬ表示装置において、
前記第１の基板には、各画素においてそれぞれ下側に凹むように湾曲している絶縁層が形成され、
前記下部電極、前記有機ＥＬ層、前記上部電極、及び前記カラーフィルタは、前記絶縁層に積層されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明はカラーフィルタを有する有機エレクトロルミネッセンス（electroluminescence：ＥＬ）表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

下記特許文献１では、各画素に形成されている有機ＥＬ層が膨らむように湾曲している。特許文献１は有機ＥＬ層の湾曲により、表示装置に対して垂直な方向だけでなく表示装置に対して斜めの方向にも光を発することが可能となってる。その結果、表示装置の色度や輝度がユーザの視角によって変化することを抑えている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１１−１８４６８号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

有機ＥＬ表示装置のなかにはカラーフィルタを備えるものがある。斜め方向の光を積極的に発する上述の構造の表示装置にカラーフィルタを適用した場合、表示装置に対して斜めの方向に有機ＥＬ層から出た光がカラーフィルタを通過する距離が、表示装置に対して垂直な方向に出た光がカラーフィルタを通過する距離よりも大きくなる。その結果、表示装置の色度や輝度がユーザの視角によって変化するという問題が再び生じる。

【0005】

本発明の目的の1つは、カラーフィルタを備え且つ有機ＥＬ層が各画素において湾曲している有機ＥＬ表示装置において、表示装置の色度や輝度がユーザの視角によって変化することを抑えることにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

（１）本発明の一形態は、第１の基板と、前記第１の基板に形成され、各画素において湾曲している有機ＥＬ層と、各画素に設けられ、有機ＥＬ層に合わせて湾曲しているカラーフィルタと、を備える有機ＥＬ表示装置である。本発明によれば、表示装置の色度や輝度がユーザの視角によって変化することを抑えることができる。

【0007】

（２）（１）の形態において、前記第１の基板に向き合っている第２の基板が設けられ、前記カラーフィルタは前記第２の基板に形成されてもよい。この構造によれば、カラーフィルタを形成する際の有機ＥＬ層への影響（例えば、水分の有機ＥＬ層への浸透）を抑えることができる。

【0008】

（３）（２）の形態において、前記有機ＥＬ層は各画素において凹むように湾曲しており、前記第２の基板は、前記有機ＥＬ層に合わせて湾曲した表面を有する凸部を有し、前記カラーフィルタは前記凸部の前記第１の基板側に形成されてもよい。これによれば、有機ＥＬ層は各画素において凹むように湾曲しているので、有機ＥＬ層が各画素において膨らむように湾曲している構造に比べて、ある画素の有機ＥＬ層から出た光が隣の画素の光と混じることを抑えることができる。

【0009】

（４）（３）の形態において、前記第１の基板及び前記第２の基板の平面視でのサイズに関して、前記第２の基板の前記凸部は前記有機ＥＬ層の凹みよりも小さくてもよい。これによれば、有機ＥＬ層とカラーフィルタとの距離を低減し易くなる。その結果、表示装置の色度や輝度がユーザの視角によって変化することを、より効果的に低減できる。

【0010】

（５）（１）の形態において、前記第１の基板に向き合っている第２の基板が設けられ、前記カラーフィルタは前記第１の基板に形成されてもよい。これによれば、有機ＥＬ層とカラーフィルタとの距離を低減し易くなる。その結果、表示装置の色度や輝度がユーザの視角によって変化することを、より効果的に低減できる。

【0011】

（６）（５）の形態において、前記第１の基板には、湾曲した表面を有する凹部を各画素に有する絶縁層が形成され、前記カラーフィルタと前記有機ＥＬ層は、前記絶縁層に積層されてもよい。これによれば、有機ＥＬ層は各画素において凹むように湾曲することになる。その結果、有機ＥＬ層が各画素において膨らむように湾曲している構造に比べて、ある画素の有機ＥＬ層から出た光が隣の画素の光と混じることを抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

【0012】

【図1】本発明に係る有機ＥＬ表示装置が備える第1基板の概略を示す平面図である。

【図2】図１に示すＩＩ−ＩＩ線で示される切断面によって得られる有機ＥＬ表示装置の概略の断面図である。

【図3】図１に示すＩＩＩ−ＩＩＩ線で示される切断面によって得られる有機ＥＬ表示装置の概略の断面図である。

【図4】本発明の変形例を示す断面図である。

【図5】本発明のさらに別の変形例を示す断面図である。

【発明を実施するための形態】

【0013】

以下、本発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、本明細書の開示は一例に過ぎず、本発明の主旨が変わらない範囲での、業者が容易に想到し得る適宜の変更は本発明の範囲に含まれる。また、実施形態の理解を容易にするために、図面中の各部の幅、厚さ、及び形状等は模式的に表されている場合があるが、図面は一例であって本発明の解釈を限定するものではない。

【0014】

図１は本発明の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置１が備える第１基板１０の概略を示す平面図である。図２は図１に示すＩＩ−ＩＩ線で示される切断面によって得られる有機ＥＬ表示装置１の概略の断面図である。図３は図１に示すＩＩＩ−ＩＩＩ線で示される切断面によって得られる有機ＥＬ表示装置１の概略の断面図である。以下において、有機ＥＬ表示装置１は単に表示装置と称する。

【0015】

図２に示すように、表示装置１は、有機ＥＬ層３２を含む積層構造が形成されている第１基板１０を有している。また、表示装置１は、カラーフィルタ層２２を含む積層構造が形成され、且つ第１基板１０と向き合っている第２基板２０を有している。第１基板１０と第２基板２０は、例えばガラス基板であるが、プラスチック基板など他の材料の基板でもよい。

【0016】

図１に示すように、第１基板１０には、互いに間隔をあけて並んでいる走査線１１と、互いに間隔をあけて並んでいる映像信号線１２とが形成されている。走査線１１と映像信号線１２は互いに交差する２方向にそれぞれ形成され、全体としてマトリクス状をなしている。各画素Ｐｘは隣接する２つの走査線１１と隣接する２つの映像信号線１２とで囲まれている。一例では、表示装置１は、図１に示すように、赤画素Ｐｘ（Ｒ）、緑画素Ｐｘ（Ｇ）、青画素Ｐｘ（Ｂ）を有する。図１の例では、３色の画素は走査線１１に沿った方向に並んでいる。表示装置１の構造はこれに限られない。例えば表示装置１は４色（例えば赤、緑、青、及び白）の画素を有してもよい。この場合、４色の画素は走査線１１に沿った方向に並んでもよいし、４色の画素のうち２色の画素が走査線１１に沿った方向に並び、４色の画素のうち残りの２色の画素が映像信号線１２に沿った方向に並んでもよい。第１基板１０には映像信号線１２に沿って電流供給線１３が形成されている。

【0017】

図２に示すように、第１基板１０には回路部１４が形成されている。回路部１４は有機ＥＬ層３２を含むＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）部３０を駆動するための薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や、ＴＦＴに接続される上述の走査線１１、映像信号線１２及び電流供給線１３などを有している。ＴＦＴは各画素に設けられている。図２では回路部１４の詳細な構造は省略している。

【0018】

第１基板１０には、回路部１４を覆う第１絶縁層１５が形成されている。第１絶縁層１５は平坦化膜として機能する。第１絶縁層１５は例えばアクリル樹脂やポリイミド樹脂などで形成される。

【0019】

表示装置１は、図２に示すように、第１絶縁層１５上に形成されている第２絶縁層１６を有している。第２絶縁層１６は各画素に凹部１６ｂを有している。第２絶縁層１６は、隣接する２つの画素の境にバンク１６ａを有し、２つのバンク１６ａの間の領域が凹部１６ｂとなっている。凹部１６ｂは湾曲している表面を有している。言い換えるとバンク１６ａの側面が湾曲している。なお、凹部１６ｂの表面は必ずしもその全域において湾曲していなくてもよい。例えば凹部１６ｂはその中央部に平らな表面を有してもよい。凹部１６ｂは、好ましくは第１基板１０の平面視において、各画素の発光領域に対応した形状及びサイズを有する。ここで説明する例の凹部１６ｂは第１基板１０の平面視において矩形である。凹部１６ｂの形状はこれに限定されない。例えば各画素は矩形であり、凹部１６ｂは円形でもよい。また、凹部１６ｂのサイズは各画素の発光領域よりも小さくてもよい。この場合、１つの画素に複数の凹部１６ｂが形成されてもよい。

【0020】

一例では、第２絶縁層１６の凹部１６ｂの表面は、互いに直交し第１基板に沿っている２方向のうち一方の方向に沿った切断面で得られる断面で湾曲し、他方の方向に沿った切断面で得られる断面では湾曲していない。ここで示す例の表示装置１では、第２絶縁層１６の凹部１６ｂの表面は、図２に示すように走査線１１の方向（水平方向）に沿った切断面で得られる断面で湾曲し、図３に示すように映像信号線１２の方向（垂直方向）に沿った切断面で得られる断面では湾曲していない。後述するように、凹部１６ｂにはＯＬＥＤ部３０が形成されている。そのため、このような湾曲した表面を有する凹部１６ｂによると、ユーザの視点を水平方向に変化させた場合に表示装置１の輝度や色度が変化することを、抑えることができる。なお、第２絶縁層１６の凹部１６ｂの構造はこれに限られない。例えば、第２絶縁層１６の凹部１６ｂの表面は、水平方向に沿った切断面で得られる断面と垂直方向に沿った切断面で得られる断面の双方において、湾曲してもよい。

【0021】

第２絶縁層１６の材料は例えばポリイミド樹脂あるいはアクリル樹脂などである。第２絶縁層１６の材料は第１絶縁層１５の材料と同じでもよいし、第１絶縁層１５の材料とは異なる材料でもよい。第２絶縁層１６の材料が第１絶縁層１５の材料と同じ場合、それらが１つの絶縁層を形成し、その絶縁層がバンク１６ａを有してもよい。凹部１６ｂは、例えば、露光工程で複数の異なるマスクを使用する多重露光や、露光工程で半透過膜を有するマスクを使用するハーフトーンマスク露光、露光機の解像度よりも小さいパターンによる回折現象を使用するグレイトーンマスク露光などの方法によって形成できる。

【0022】

ＯＬＥＤ部３０は各画素に下部電極３１を有している。図２に示すように、下部電極３１は各画素に形成されている上述の凹部１６ｂに形成されており、凹部１６ｂの表面に沿って湾曲している。図３に示すように、下部電極３１は第１絶縁層１５及び第２絶縁層１６に形成されているコンタクトホールｈを通して回路部１４に接続されている。具体的には、下部電極３１は回路部１４が備える駆動ＴＦＴに接続されている。ここで説明する例の表示装置１はトップエミッション型である。したがって、下部電極３１の材料は、光について反射性を有する材料（例えばＡｌやＡｇなどの金属）である。また、下部電極３１は積層構造を有してもよい。すなわち、下部電極３１はＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｅ Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電膜と、反射性を有する材料によって形成される反射膜とを有してもよい。

【0023】

ＯＬＥＤ部３０は有機ＥＬ層３２と上部電極３３とを有している。有機ＥＬ層３２はホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層等を含んでいる。上部電極３３は光を透過させるＩＴＯやＩＺＯなどを含む透明導電膜である。

【0024】

有機ＥＬ層３２は下部電極３１上に形成され、上部電極３３は有機ＥＬ層３２上に形成されている。有機ＥＬ層３２と上部電極３３は各画素において湾曲している。ここで説明する例の表示装置１では、上述したように絶縁層１６に凹部１６ｂが形成されている。有機ＥＬ層３２は、各画素において、凹部１６ｂの表面に沿って湾曲し、凹んでいる。また、上部電極３３も各画素において、凹部１６ｂの表面に沿って湾曲し、凹んでいる。有機ＥＬ層３２をこのように湾曲させることにより、有機ＥＬ層が平らな構造に比べて、表示装置１に対して斜めの方向にも有機ＥＬ層３２から光が発せられる。また、有機ＥＬ層３２を凹むように湾曲させることにより、例えば有機ＥＬ層３２を第２基板２０に向けて膨らむように湾曲させる構造に比べて、有機ＥＬ層３２が発した光が隣接する画素の光と混ざるのを抑えることができる。有機ＥＬ層３２は凹部１６ｂにおいて概ね均一な厚さを有しているのが好ましい。

【0025】

有機ＥＬ層３２の一例は白色光を発する。すなわち、有機ＥＬ層３２の一例は、赤色光、緑色光及び青色光をそれぞれ発する３つの発光層が積層された構造を有する。

【0026】

また、有機ＥＬ層３２の他の例は、赤画素Ｐｘ（Ｒ）、緑画素Ｐｘ（Ｇ）及び青画素Ｐｘ（Ｂ）に、赤の発光層、緑の発光層、及び青の発光層をそれぞれ有してもよい。この場合、有機ＥＬ層３２はマイクロキャビティ構造を有してもよい。すなわち、各画素での下部電極３１と上部電極３３との間隔（換言すると、有機ＥＬ層３２の厚さ）がその画素の発光色のスペクトルピークに合わせて設定されてもよい。一般的に、マイクロキャビディ構造では、表示装置の色度や輝度に対して視角依存性が生じやすい。本実施形態では、ＯＬＥＤ部３０が第２絶縁層１６に形成されている凹部１６ｂの表面に合わせて湾曲しているので、そのような角度依存性を抑えながら、発光効率を向上できる。なお、マイクロキャビティ効果を得る構造は以上説明したものに限られない。例えば、有機ＥＬ層３２と下部電極３１との間に透明電極層が形成されてもよい。そして、各画素での透明電極層の厚さがその画素の発光色のスペクトルピークに合わせて設定されてもよい。

【0027】

また、有機ＥＬ層３２がマイクロキャビティ構造を有する場合、有機ＥＬ層３２の曲率（言い換えると、凹部１６ｂ表面の曲率）や、有機ＥＬ層３２の水平方向での幅（凹部１６ｂの幅）は画素の色によって異なっていてもよい。こうすることにより、赤画素、緑画素、及び青画素の発光面積を変えることが可能となり、表示装置１の表示色に最適化し易くなる。

【0028】

上述したように、表示装置１は第１基板１０に向き合う第２基板２０を有している。ここで説明する例の表示装置１はトップエミッション型であり、第２基板２０は例えばガラスやプラスチックなどの透光性材料で形成される。図２に示すように、第２基板２０はカラーフィルタ層２２を有している。カラーフィルタ層２２は赤画素Ｐｘ（Ｒ）、緑画素Ｐｘ（Ｇ）及び青画素Ｐｘ（Ｂ）にカラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂをそれぞれ有している。

【0029】

カラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂは有機ＥＬ層３２に合わせて湾曲している。換言すると、カラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂは有機ＥＬ層３２に沿って湾曲している。これにより、第１基板１０に対して垂直な方向に有機ＥＬ層３２から出た光Ｌ１がカラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂを通過する距離と、第１基板１０に対して斜めの方向に出た光Ｌ２がカラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂを通過する距離との差を低減できる。その結果、表示装置の色度や輝度がユーザの視角によって変化することを抑えることができる。

【0030】

ここで説明する例の第２基板２０には下地層２１が形成されている。カラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂは下地層２１の第１基板１０側に形成されている。下地層２１は、第２絶縁層１６に形成されている凹部１６ｂに対向している凸部２１ａを各画素に有している。凸部２１ａの表面は、第２絶縁層１６の凹部１６ｂの表面に合わせて湾曲している。カラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂは凸部２１ａの表面に形成され、これにより、第１基板１０に形成されている有機ＥＬ層３２に合わせて湾曲する。カラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂのそれぞれは概ね均一な厚さを有している。カラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂの全体はオーバーコート層によって覆われてもよい。

【0031】

上述したように、凹部１６ｂの表面は、図２に示すように水平方向に沿った切断面で得られる断面で湾曲し、垂直方向に沿った切断面で得られる断面では湾曲していない。したがって、凸部２１ａの表面も、図２に示すように水平方向に沿った切断面で得られる断面では第１基板１０に向かって膨らむように湾曲し、垂直方向に沿った切断面で得られる断面では湾曲していない。

【0032】

なお、第２絶縁層１６の凹部１６ｂの表面は、水平方向に沿った切断面で得られる断面と垂直方向に沿った切断面で得られる断面の双方において、湾曲してもよい。この場合、凸部２１ａの表面も、好ましくは、水平方向に沿った切断面で得られる断面と垂直方向に沿った切断面で得られる断面の双方において、第１基板１０に向かって膨らむように湾曲する。

【0033】

下地層２１は透明な材料で形成される。例えば下地層２１はポリイミド樹脂やアクリル樹脂など透明な樹脂によって形成される。下地層２１の凸部２１ａは、例えば、第２絶縁層１６の凹部１６ｂと同様に、多重露光や、ハーフトーンマスク露光、グレイトーンマスク露光などの方法によって形成できる。なお、凸部２１ａは必ずしも下地層２１に形成されなくてもよい。凸部２１ａは例えば第２基板２０自体に形成されてもよい。

【0034】

基板１０、２０の平面視での凸部２１ａのサイズは、好ましくは第１基板１０の凹部１６ｂのサイズよりも小さい。具体的には、図２に示すように、水平方向での凸部２１ａの幅Ｗ２は水平方向での凹部１６ｂの幅Ｗ１よりも小さい。また、図３に示すように、垂直方向での凸部２１ａの幅Ｗ４は垂直方向での凹部１６ｂの幅Ｗ３よりも小さい。こうすることにより、有機ＥＬ層３２とカラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂとの距離を小さくすることが可能となる。その結果、有機ＥＬ層３２から出た光がカラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂが通過する距離が、その光の角度によって変化することを抑え易くなる。好ましくは、図２及び図３に示すように、表示装置１の断面を見た場合に、カラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂとＯＬＥＤ部３０は水平方向及び垂直方向において重なる。なお、カラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂとＯＬＥＤ部３０との位置関係はこれに限られない。すなわち、表示装置１の断面を見た場合に、カラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂとＯＬＥＤ部３０は必ずしも水平方向及び垂直方向において重なっていなくてもよい。

【0035】

図２に示すように、表示装置１の一例では、隣接する２つのカラーフィルタの間には各画素を区画するブラックマトリクス２３が形成される。これにより、表示装置１を斜めに見た場合に隣接する２つの画素の光が混入することを、より効果的に防ぐことができる。なお、本実施形態では、有機ＥＬ層３２は凹むように湾曲している。このような構造では、有機ＥＬ層３２が膨らんでいる構造に比べて、有機ＥＬ層３２から出る光が隣の画素のカラーフィルタに侵入することは抑えられている。したがって、ブラックマトリクス２３は必ずしも形成されなくてもよい。

【0036】

第１基板１０に形成されている積層構造と第２基板２０に形成されている積層構造との間には充填剤１７が設けられている。充填剤１７は、例えば流動性を有し、かつ硬化可能な合成樹脂等の材料で形成される。、例えば、充填剤１７は流動性を有する状態で、第１基板１０の上部電極３３上に積層される。その後、第１基板１０と第２基板２０とを互いに貼り合わせ、カラーフィルタ２２ｒ、２２ｇ、２２ｂと有機ＥＬ層３２との距離が予め規定された距離となった後に、充填剤１７は熱を受けて硬化される。

【0037】

図４は本発明の変形例である表示装置１００を示す断面図である。この図の切断面は図２と同様である。図４では、これまで説明した箇所と同一箇所には同一符合を付している。以下では、主に、これまで説明した表示装置１と異なる点について説明し、その他の点は表示装置１と同様である。

【0038】

表示装置１００では、表示装置１と同様に、第１絶縁層１５、第２絶縁層１６及びＯＬＥＤ部３０が第１基板１０に形成されている。表示装置１００では第１基板１０にカラーフィルタ層１２２が形成されている。カラーフィルタ層１２２は、赤画素Ｐｘ（Ｒ）、緑画素Ｐｘ（Ｇ）及び青画素Ｐｘ（Ｂ）にカラーフィルタ１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂをそれぞれ有している。カラーフィルタ１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂと有機ＥＬ層３２は積層され、各画素において第２絶縁層１６の凹部１６ｂの表面に合わせて湾曲している。カラーフィルタ１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂも第１基板１０に形成されるこのような構造によれば、カラーフィルタ１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂと有機ＥＬ層３２との距離をさらに小さくすることが可能となる。第２基板２０と第１基板１０の積層構造（具体的には第１絶縁層１５〜カラーフィルタ層１２２）との間には充填剤１７が配置されている。

【0039】

表示装置１００では、ＯＬＥＤ部３０の第２基板２０側には保護膜１１８が形成されている。保護膜１１８はＯＬＥＤ３０を覆っている。カラーフィルタ１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂは保護膜１１８上に形成されている。保護膜１１８は、例えばカラーフィルタ１２２ｒ、１２２ｇ、１２２ｂの形成時（例えば、ウェットエッチング時）に、水分がＯＬＥＤ部３０に及ぶのを防ぐためや、充填剤１７の水分からＯＬＥＤ部３０を保護するために設けられる。保護膜１１８は例えば窒化シリコン（ＳｉＮ）など防湿性に優れた材料によって形成される。

【0040】

図５は本発明の変形例である表示装置２００を示す断面図である。この図の切断面は図２と同様である。図５では、これまで説明した箇所と同一箇所には同一符合を付している。以下では、主に、これまで説明した表示装置１００と異なる点について説明し、その他の点は表示装置１００と同様である。

【0041】

表示装置２００では、表示装置１００と同様に、第１絶縁層１５及び第２絶縁層１６が第１基板１０に形成されている。表示装置２００の第１基板１０でに、ＯＬＥＤ部３０とカラーフィルタ層２２２がさらに積層されている。カラーフィルタ層２２２は、赤画素Ｐｘ（Ｒ）、緑画素Ｐｘ（Ｇ）及び青画素Ｐｘ（Ｂ）にカラーフィルタ２２２ｒ、２２２ｇ、２２２ｂをそれぞれ有している。表示装置２００は、表示装置１００とは異なり、ボトムエミッション型である。したがって、表示装置２００では、カラーフィルタ層２２２は、ＯＬＥＤ部３０よりも第１基板１０側に形成されている。図５に示す例では、カラーフィルタ２２２ｒ、２２２ｇ、２２２ｂは第２絶縁層１６上に形成され、凹部１６ｂの表面に合わせて凹むように湾曲している。

【0042】

ＯＬＥＤ部３０は、下部電極３１と、有機ＥＬ層３２と、上部電極３３とを有している。ここで説明する例の下部電極３１は光を透過させるＩＺＯ、ＩＴＯなどの透明導電膜である。下部電極３１はカラーフィルタ２２２ｒ、２２２ｇ、２２２ｂの第２基板２０側にに形成され、凹部１６ｂの表面に沿って湾曲している。有機ＥＬ層３２は下部電極３１上に形成され、上部電極３３は有機ＥＬ層３２上に形成されている。上部電極３３は、第１絶縁層１５及び第２絶縁層１６に形成されているコンタクトホールを通して回路部１４に接続されている。上部電極３３の材料は、例えば光について反射性を有する材料（例えばＡｌやＡｇなどの金属）である。また、上部電極３３は、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明導電膜と、反射性を有する材料によって形成される反射膜とを含む積層構造を有してもよい。

【0043】

本発明は以上説明した表示装置１、１００、２００に限られず、種々の変更が可能である。

【0044】

例えば、表示装置１、１００、２００では、有機ＥＬ層３２は第２絶縁層１６の凹部１６ｂの表面に合わせて湾曲していた。しかしながら、第２絶縁層１６は、各画素に凸部を有し、この凸部の表面が第２基板２０に向かって膨らむように湾曲してもよい。そして、カラーフィルタはこの凸部の第２の基板２０側に形成され、凸部の表面に合わせて湾曲してもよい。このような構造でも、有機ＥＬ層３２から第１基板１０に対して垂直方向に出た光がカラーフィルタを通過する距離と、第１基板１０に対して斜めの方向に出た光がカラーフィルタを通過する距離との差を低減できる。その結果、表示装置の色度や輝度がユーザの視角によって変化することを抑えることができる。この場合、カラーフィルタは、表示装置１と同様に第２基板２０に形成されてもよいし、表示装置１００、２００と同様に第１基板１０に形成されてもよい。

【符号の説明】

【0045】

１，１００，２００ 有機ＥＬ表示装置、１０ 第１基板、１１ 走査線、１２ 映像信号線、１３ 電流供給線、１４ 回路部、１５ 第１絶縁層、１６ 第２絶縁層、１６ａ バンク、１６ｂ 凹部、１７ 充填剤、２１ 下地層、２１ａ 凸部、２２ｒ、２２ｇ，２２ｂ，１２２ｒ、１２２ｇ，１２２ｂ，２２２ｒ，２２２ｇ，２２２ｂ カラーフィルタ、２３ ブラックマトリクス、３０ ＯＬＥＤ部、３１ 下部電極、３２ 有機ＥＬ層、３３ 上部電極、１１８ 保護膜。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】