特許6304482流動層乾燥装置及び低品位炭の乾燥方法

発明の名称　流動層乾燥装置及び低品位炭の乾燥方法

出願人　株式会社ＩＨＩ　（識別番号 99）

　　　　特許公開件数ランキング 334 位（97件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 171 位（168件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6304482

公報発行日　2018年4月4

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6304482

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