特許 6332784 含水ゲルシート材の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6332784

(24)【登録日】2018年5月11日

(45)【発行日】2018年5月30日

(54)【発明の名称】含水ゲルシート材の製造方法

(51)【国際特許分類】

   A61K 9/70 20060101AFI20180521BHJP

【ＦＩ】

   A61K9/70 405

【請求項の数】5

【全頁数】21

(21)【出願番号】特願2013-208666(P2013-208666)

(22)【出願日】2013年10月3日

(65)【公開番号】特開2015-71570(P2015-71570A)

(43)【公開日】2015年4月16日

【審査請求日】2016年9月12日

(73)【特許権者】

【識別番号】000000918

【氏名又は名称】花王株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100076439

【弁理士】

【氏名又は名称】飯田 敏三

(74)【代理人】

【識別番号】100164345

【弁理士】

【氏名又は名称】後藤 隆

(72)【発明者】

【氏名】大塚 和俊

【審査官】 天野 貴子

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２００８／１４２８９６（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開平０６−０００２０１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０９−１１０６７９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１３−１６６７９９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 実開昭５２−０３４８８３（ＪＰ，Ｕ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ａ６１Ｋ ９／７０

Ａ６１Ｆ ７／００ − ７／０２

ＣＡｐｌｕｓ／ＭＥＤＬＩＮＥ／ＥＭＢＡＳＥ／ＢＩＯＳＩＳ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

長尺帯状の支持体シート上に含水ゲル層前駆体を形成し、前記支持体シート及び前記含水ゲル層前駆体を有する積層体から型抜きによって所定形状の含水ゲル層を有する複数の含水ゲルシート材を形成する含水ゲルシート材の製造方法であって、
含水ゲル組成物を前記支持体シートの長手方向に沿って連続的に塗布して前記含水ゲル層前駆体を形成する塗布工程と、
前記積層体の平面領域において、前記含水ゲル層となる領域以外の領域を型押し、互いに離間し隣接する含水ゲル層となる領域に該領域の間に存在する前記含水ゲル組成物を押し込み、前記含水ゲル層を成形する型押し工程と、
前記型押しされた各領域で前記積層体をカットして前記含水ゲルシート材を型抜きする型抜き工程と、を有し、
前記型押し工程と前記型抜き工程とを、同一の平坦ロールの円周の曲面上で連続的に行う含水ゲルシート材の製造方法。

【請求項2】

前記塗布工程において、最終製品としての含水ゲルシート材に必要な含水ゲル層の厚み又は単位面積当たりの質量よりも少ない厚み又は単位面積当たりの質量を有する前記含水ゲル層前駆体を形成し、
前記型押し工程において、前記含水ゲル層前駆体を型押しすることで前記含水ゲル組成物を前記含水ゲル層となる領域内へ移動させ、最終製品に必要な含水ゲル層の厚み又は単位面積当たりの質量を得る請求項１記載の含水ゲルシート材の製造方法。

【請求項3】

前記型押し工程もしくは前記型抜き工程の工程中または後工程において、前記含水ゲル層又は前記含水ゲル層前駆体の厚みを平準化する均し工程を有する請求項１又は２に記載の含水ゲルシート材の製造方法。

【請求項4】

前記型押し工程が、複数の工程に分割され、前記含水ゲル組成物を徐々に移動させていく工程を有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の含水ゲルシート材の製造方法。

【請求項5】

前記塗布工程において形成された前記含水ゲル層前駆体上に長尺帯状の基材シートを積層する工程を有し、前記型押し工程及び前記型抜き工程は、前記支持体シート又は前記基材シートのうち変形しやすい材料側から型押し及び型抜きを行う請求項１〜４のいずれか１項に記載の含水ゲルシート材の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は含水ゲルシート材の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

含水ゲルシート材としては、高分子の架橋構造体中に水分等を保持するゲル層を含み、粘着性、柔軟性及び弾力性を有するものがある。また、ゲル層に用いられるゲル組成物には、用途に合わせて種々の成分を含む。例えば、保湿剤等の美容成分や薬効成分を含有したものがある。該有効成分を皮膚に浸透させるため、含水ゲルシート材は身体に貼付して使用される。その際、前述したゲル層の有する粘着性等で、含水ゲルシート材が起伏のある肌面に密着し易くされている。

【0003】

この含水ゲルシート材は、貼付する身体の部位や用途等に応じて種々の形状とされている。その加工方法として、一般的には、長尺帯状の支持体シートの一面にゲル組成物を塗布したものから所定の形となる部分を型抜きする方法が用いられている。この加工方法につき種々の提案がされている。例えば、特許文献１には、ゲルに相当する膏体の型抜き後のはみ出し防止のため、型抜きする部分の外端縁のみを事前に型押し、その位置の膏体を内外に移動させることが記載されている。特許文献２には、ゲル体の綺麗なカット面を得るため、ゲルシート及び切断用刃を超音波振動させながら切断して打ち抜くことが記載されている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２００４−１８８００５公報

【特許文献2】特開平０８−１５０６００号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

上記のように含水ゲル層を有する材料から必要な形状を打ち抜くと、その残りの部分は通常廃棄される。この場合、打ち抜かれる形状にもよるが塗布された含水ゲル組成物の約半分近くが廃棄されることもある。ゲル組成物の架橋を利用してゲル層とするものでは、時間とともにゲル組成物が架橋し硬化するため、塗布後に廃棄となるゲル組成物の再利用は品質保持の点から難しい。これでは、製品としての歩留まりが悪く生産コストの上昇をもたらしかねない。この問題に関して、特許文献１及び２記載の技術は着目しておらず、塗布後に廃棄されるゲル組成物を型抜き前に含水ゲル層として利用する観点からの示唆はない。

【0006】

本発明は、上記の点に鑑み、含水ゲルシート材の歩留まりを向上させる含水ゲルシート材の製造方法に関する。

【課題を解決するための手段】

【0007】

本発明は、長尺帯状の支持体シート上に含水ゲル層前駆体を形成し、前記支持体シート及び前記含水ゲル層前駆体を有する積層体から型抜きによって所定形状の含水ゲル層を有する複数の含水ゲルシート材を形成する含水ゲルシート材の製造方法であって、含水ゲル組成物を前記支持体シートの長手方向に沿って連続的に塗布して前記含水ゲル層前駆体を形成する塗布工程と、前記積層体の平面領域において、前記含水ゲル層となる領域以外の領域を型押し、互いに離間し隣接する含水ゲル層となる領域に該領域の間に存在する前記含水ゲル組成物を押し込み、前記含水ゲル層を成形する型押し工程と、前記型押しされた各領域で前記積層体をカットして前記含水ゲルシート材を型抜きする型抜き工程と、を有する含水ゲルシート材の製造方法を提供する。

【発明の効果】

【0008】

本発明の含水ゲルシート材の製造方法は、含水ゲルシート材の歩留まりを向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【0009】

【図1】本発明の積層体の製造方法で加工される積層体の好ましい一例を模式的に示した部分拡大断面図である。

【図2】（Ａ）は本発明の含水ゲルシート材の製造方法の好ましい一実施形態（第１実施形態）の要部を模式的に示した工程説明図であり、（Ｂ）〜（Ｅ）は、その製造過程で含水ゲル層前駆体（ゲル組成物）が含水ゲル層として成形される過程を模式的に示す平面図である。

【図3】（Ａ）及び（Ｂ）は、第１実施形態における型押し工程前の積層体の連続体の一部を拡大して模式的に示す部分拡大断面図である。

【図4】第１実施形態の型押し工程を拡大して模式的に示す工程説明図である。

【図5】（Ａ）は、含水ゲル層前駆体において型押しされる切り落とし可能領域Ｓと含水ゲル層となる成形領域Ｐを区分して示す平面図であり、（Ｂ）は型押し工程で（Ａ）の切り落とし可能領域Ｓが型押しされて含水ゲル層が成形される状態を示す平面図である。

【図6】（Ａ）は第１実施形態の型押しロールの凸部のパターンを示す平面図であり、（Ｂ）及び（Ｃ）は前記凸部の断面図である。

【図7】第１実施形態の型抜き工程を拡大して模式的に示す工程説明図である。

【図8】（Ａ）は型押し工程後の積層体１０Ｃについて型抜きされる領域を示した平面図であり、（Ｂ）は型抜き工程によって型抜きされた複数の含水ゲルシート材を示す平面図である。

【図9】（Ａ）は第１実施形態のカッターロールのカッター刃のパターンを示す平面図であり、（Ｂ）は前記カッター刃の断面図である。

【図10】第１実施形態の他の好ましい態様として、型押し工程と型抜き工程とを同一の平坦ロール上で行う工程を示す工程説明図である。

【図11】第１実施形態の均し工程を示す工程説明図である。

【図12】本発明の含水ゲルシート材の製造方法の他の好ましい一実施形態（第２実施形態）の型押し工程を模式的に示した図であり、（Ａ）はその工程説明図であり、（Ｂ）含水ゲル層前駆体が徐々に型押しされ所定形状の含水ゲル層に成形される様子を示す平面図である。

【図13】第２実施形態の型押しロールを模式的に示した図である。

【発明を実施するための形態】

【0010】

本発明に係る積層体の製造方法の好ましい一実施形態（第１実施形態）について、図１および図２を参照して、以下に説明する。

【0011】

まず、図１を参照して、製品としての含水ゲルシート材の１例を説明する。図１には、含水ゲルシート材１０の断面図が示されている。含水ゲルシート材１０は、支持体シート１、含水ゲル層２、基材シート３の３層構造からなる。
支持体シート１及び基材シート３の少なくともいずれか１方は柔軟な変形し易い素材からなる。本実施形態では、基材シート３が柔軟な変形し易い素材である不織布からなり、支持体シート１が硬質のフィルムからなる。身体へ貼付して使用することを考慮して、硬質のフィルムからなる支持体シート１が離型シートをなす。すなわち、含水ゲルシート材１０から剥離シートとしての支持体シート１を剥がし、含水ゲル層２の肌当接面２Ａを肌に貼着して使用される。なお、含水ゲルシート材１０の層構造は３層に限定されるものではなく、２層であってもよく、４層以上であってもよい。例えば、基材シート３は、１層でもよく、２層ないしそれ以上であってもよい。また含水ゲルシート材１０として、前記３層構造にさらに別の部材が配される構造であってもよい。
以下の含水ゲルシート材の製造方法の好ましい実施形態では、フィルムからなる支持体シート１、含水ゲル層２、及び不織布からなる基材シート３の３層構造の含水ゲルシート材１０の製造方法として説明する。

【0012】

図２（Ａ）には、含水ゲルシート材の製造方法の好ましい一実施形態（第１実施形態）の要部が示されている。この含水ゲルシート材の製造方法では、型押し工程５０で、最終製品（完成製品）の含水ゲル層２となる領域（成形領域Ｐ）の外側の領域（切り落とし可能領域Ｓ）の含水ゲル組成物を全て型押して押出し、最終製品の含水ゲル層を成形する（図２（Ｂ）〜（Ｅ）参照）。このとき、型押しにより、含水ゲル組成物が、互いに離間し隣接する該含水ゲル層となる成形領域Ｐに押し込まれ、無駄なく最終製品の含水ゲル層２として利用できる。従来は型抜きにより切り落とされていた含水ゲル組成物を、本発明ではほとんどを前記含水ゲル層の成形に利用するので、含水ゲルシート材の歩留まりが向上する。例えば、本発明では塗布量の９割以上の含水ゲル組成物を含水ゲル層として利用できる。また、型押し工程５０により、後の型抜き工程６０において含水ゲル組成物が切り落とされないので機械汚染を防止できる。なお、図２（Ｂ）〜（Ｅ）では、積層体１０Ｃ及び含水ゲルシート材１０の中間層である含水ゲル層前駆体２０１及び含水ゲル層２の理解のため、基材シート連続体３００側が無いものとして示している。この点は、図５（Ａ）及び（Ｂ）、図１２（Ｂ）においても同様である。
なお、成形領域Ｐの平面形状は、型抜きされる含水ゲルシート材１０に収まる形状である。本実施形態においては、含水ゲルシート材１０及び成形されるゲル層２の平面形状は長方形であるが、これに限定されることなく、物品の用途等により任意の所定形状とすることができる。

【0013】

この型押し工程５０および型抜きの工程６０を含め、本実施形態の含水ゲルシート材の製造方法の各工程について以下に説明する。なお、含水ゲル層２を形成する「含水ゲル組成物」は、調製段階から製品最終段階に向かうにつれ時間とともにゲル化（例えば架橋反応）が進行する。すなわち加工段階では、流動性をある程度有する中間体とされている。本発明の製造方法においては最初のゲル組成物調製から中間体のものも含めて「含水ゲル組成物」という。

【0014】

まず、ゲル成分の配合・混錬工程３０において、ニーダーなどの混錬機３１を用いて通常の方法により、含水ゲル組成物の成分を配合し混錬して含水ゲル組成物２００を調製する。配合する成分としては、この種の物品における含水ゲル組成物を形成しえるものを特に制限なく用いることができる。例えば、ゲル基材となる高分子、架橋剤、水、その他の成分が挙げられる。

【0015】

ここで得られる含水ゲル組成物２００の含水率は、水、薬効成分、及び他の成分の保持性を良好にすると共に、含水ゲル組成物２００自体の機械的強度を向上させ、また、得られる含水ゲル状組成物２００の柔軟性を向上させる観点から、３０質量％以上が好ましく、３０〜９０質量％がより好ましく、３０〜８５質量％がさらに好ましい。

【0016】

また、ここで得られる含水ゲル組成物２００の粘度は、その後の塗工工程４０、型押し工程５０、打ち抜き工程６０での加工のし易さを考慮して、１００Ｐａ・ｓ以上が好ましく、２００Ｐａ・ｓ以上がより好ましく、３００Ｐａ・ｓ以上がさらに好ましい。これにより、加工中に含水ゲル層の型崩れや不織布等の基材シートからの含水ゲル組成物の染み出しを防止することができる。またその上限は、２０００Ｐａ・ｓ以下が好ましく、１５００Ｐａ・ｓ以下がより好ましく、１０００Ｐａ・ｓ以下がさらに好ましい。これにより、含水ゲル組成物を安定して塗工とすることができる。

【0017】

（含水ゲル組成物の粘度の測定方法）
本工程３０での含水ゲル組成物２００について、気温２０℃、湿度５０％で、ヘリカル粘度計（ＴＯＫＩ ＳＡＮＧＹＯ．ＣＯ．ＬＴＤ製）のスピンドル Ｎｏ．Ｔ−Ｆ、Ｔ−Ｄ、Ｔ−Ｅを用い、回転速度０．５−５ｒ／ｍｉｎ、３分間の条件で測定することができる。

【0018】

含水ゲル層を架橋反応によって形成する場合について以下に説明する。
用いるゲル組成物中のゲル基材となる高分子成分としては、例えば、カルボキシル基、硫酸基又はリン酸基を有する高分子が挙げられる。具体的には、カルボキシビニルポリマー、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース等のアニオン性セルロース誘導体、カラギーナン、アルギン酸及びその塩類、アニオン性の澱粉誘導体等が挙げられる。なかでも、高い保水量と、十分なゲル強度及び皮膚の凹凸やその動きに追従可能な柔軟性とを兼ね備える観点、並びにより高い水分量を保持し得る観点から、ポリ（メタ）アクリル酸類、アニオン性セルロース誘導体、カラギーナンが好ましく、カルボキシメチルセルロースがより好ましい。

【0019】

ゲル組成物に含有される架橋剤としては、例えば、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、カリウム等を含む酸化物や水酸化物、塩類のような金属イオン化合物；ポリリジン等のポリアミノ酸のようなカチオン性ポリマー；エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等の多官能性エポキシ化合物が挙げられる。

【0020】

その他の含有成分としては、含水ゲルシート材１０の用途に応じて種々のものを用いることができる。例えば、保湿剤、非ステロイド系抗炎症剤、ステロイド系抗炎症剤など、種々の薬剤を用いることができる。
保湿剤としては、グリセリン、プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、ソルビトール等の多価アルコール類；アミノ酸、ピロリドンカルボン酸ナトリウム等のＮＭＦ成分；ヒアルロン酸、コラーゲン、ムコ多糖類、コンドロイチン硫酸等の水溶性高分子を例示することができる。
非ステロイド系抗炎症剤としては、サリチル酸及びその塩類、アスピリン等のサリチル酸誘導体、アセトアミノフェンインドメタシン、イブプロフェン、ケトプロフェンなどが挙げられる。
ステロイド系抗炎症剤としては、アムシノイド、吉草酸プレドニゾロン、吉草酸ジフルコルトロン、酢酸ベータメゾン、ヒドロコルチゾン、フルオシノニド、プロピオン酸クロベタゾール、酢酸ヒドロコルチゾンなどが挙げられる。
上記以外にも、ジフェンヒドラミン、リドカイン、ビタミンＥ、グリチルレチン酸又はこれらの誘導体などが挙げられ、これらは１種単独で又は２種類以上を適宜組み合わせて使用することができる。

【0021】

次いで、塗布工程４０において、調製されたゲル組成物２００を混錬機３１からポンプ４１で塗工機４２へと送り込む。そして、通常の方法により、別の原反ロールから平坦ロール４３へと繰り出される長尺帯状の支持体シート連続体１００の一面に対し、塗工機４２を用いて含水ゲル組成物２００を支持体シート連続体１００の長手方向（搬送方向）に沿って連続的に塗布する。これにより、図３（Ａ）に示されるように、一定厚み（Ｔ１）の連続的な含水ゲル層前駆体２０１が形成される。この一定厚み（Ｔ１）は、塗工機４２の設定値に沿って塗工された厚みをいい、製造上やむを得ず生じる塗工ムラなどの変化を許容する。この段階での含水ゲル層前駆体２０１は、最終製品（完成製品）の含水ゲルシート材に必要な平面形状ないし坪量には成形されていない。すなわち、支持体シート連続体１００及び含水ゲル層前駆体２０１からなる、一定厚みの長尺帯状の積層体１０Ａが形成される。積層体１０Ａの「一定厚み」とは、前述と同様に塗工ムラによる厚みの変化を許容する（後述の積層体１０Ｂにおいても同様。）。

【0022】

積層体１０Ａの含水ゲル層前駆体２０１は、後の型押し工程５０での含水ゲル組成物２００の移動による厚み増加を考慮して、最終製品に必要とされる厚みよりも薄く形成されている。すなわち、含水ゲル層前駆体２０１の厚み（Ｔ１）は、最終製品としての含水ゲルシート材１０における含水ゲル層２の厚み（Ｔ）に対して９０％以下であり、８５％以下がより好ましく、８０％以下がさらに好ましい。その下限値は、最終製品における十分な厚みとする観点から、５０％以上が好ましく、５５％以上がより好ましく。６０％以上がさらに好ましい。
あるいは、これを質量の変化とした場合でも、積層体１０Ａの含水ゲル層となる領域における含水ゲル層前駆体２０１の単位面積当たりの質量（坪量）（Ｗ１）は、最終製品としての含水ゲルシート材１０における含水ゲル層２の単位面積当たりの質量（坪量）（Ｗ）に対して上記の範囲であることが好ましい。

【0023】

塗工機４２としては、ゲル塗工に通常用いられるものを採用でき、例えば、ダイコーター、ブレードコーターなどが挙げられる。また、前記支持体シートの素材としては、含水ゲル組成物２００を塗工する基盤とでき、最終製品として含水ゲル層２を保護し使用時に剥離できるものであれば特に制限することなく用いることができる。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレンなどが挙げられる。

【0024】

次いで、積層体１０Ａの含水ゲル層前駆体２０１の露出面２０１Ａに対し、別の原反ロールから繰り出される長尺帯状の基材シート連続体３００を積層する。これにより図３（Ｂ）に示されるような、３層構造の長尺帯状の積層体１０Ｂが得られる。この３層の積層体１０Ｂをベルトコンベア等の搬送手段４４で型押し工程５０へと搬送する。この３層構造の積層体１０Ｂも一定厚みである。前記基材シートは不織布からなるがこれに限定されず、変形しやすい素材を種々用いることができる。例えば、織布、変形性のある１０〜１００μｍ程度の薄層フィルムなどが挙げられる。このような素材の基材シートは、最終製品とされて肌に貼付したときに柔軟に追従し易すく好ましい。

【0025】

次いで、型押し工程５０において、積層体１０Ｂの中間層の含水ゲル層前駆体２０１に対し型押しを行い、複数の、互いに離間した、最終製品として必要な平面形状ないし坪量（Ｗ）の含水ゲル層２を成形する。具体的には、平坦ロール５１と、型押しロール５２との間に長尺帯状の積層体１０Ｂを搬送する。型押しロール５２はパターン配置された複数の凸部５３を有する。この凸部５３が、積層体１０Ｂの平面領域に対し、変形し易い基材シート連続体３００側から、含水ゲル層２となる部分以外の切り落とし可能領域Ｓを全て型押しする（図４参照）。これにより、切り落とし可能領域Ｓにあった含水ゲル組成物２００が押し出され、互いに離間し隣接する含水ゲル層２となる部分の複数の成形領域Ｐ（図５（Ａ）の一点鎖線で囲まれた横長の長方形領域）へと押し込まれる。その結果、最終製品として必要な平面形状及び坪量（Ｗ）の含水ゲル層２が成形される。このとき切り落とし可能領域Ｓでは、含水ゲル組成物２００はほとんど押し出され、ゲル層厚みが実質無い状態となる。この「ゲル層厚みが実質無い状態」とは、ゲルの弾力性や機能が失われる程に厚みがなく、切り落とされても機械汚染を生じない程にしか残存しない状態をいうが、含水ゲル組成物が全くない状態も含まれる。このような状態では、切り落とし可能領域Ｓの基材シート連続体３００と支持体シート連続体１００とが僅かなゲル組成物の残部を介して圧着され、その粘着性により互いに接合固定されている。

【0026】

この型押し工程５０では、成形領域Ｐに所望の平面形状ないし坪量（Ｗ）の含水ゲル層２を配する３層と、切り落とし可能領域Ｓにゲル層厚みが実質ない２層とからなる、積層体１０Ｃが得られる。

【0027】

前記「含水ゲル層２となる部分以外の切り落とし可能領域Ｓ」は、前述の型押しがなされ、型抜き工程６０で切り落とされる部分の領域を示している。この領域には、後工程で廃棄される部分と、含水ゲルシート材１０として含水ゲル層２の外側ののりしろ部１１（支持体シート１と基材シート３との２層部分）となる部分が含まれる。この切り落とし可能領域Ｓは、積層体１０Ｂの平面領域全体に亘る場合に限らず、その一部の領域とされる場合もある。例えば、製造上の制限などで加工対象領域から外れる部分がある場合は、その部分を含まない領域である。本実施形態においては、積層体１０Ｂの幅方向の両側部Ｑ，Ｑが加工対象領域から外れ、切り落とし可能領域Ｓに含まれない。両側部Ｑ，Ｑの外側には含水ゲル層２となる部分の成形領域Ｐがなく、該両側部Ｑ，Ｑを型押ししては、含水ゲル組成物２００が積層体１０Ｂからはみ出し機械汚染しかねないからである。

【0028】

本実施形態では、図５（Ｂ）に示されるように、成形される含水ゲル層２は、大きさＭ１で横長の長方形である。この長方形の含水ゲル層２が、搬送方向（図５（Ｂ）のＹ方向）に間隔Ｈ２を開けて組み合わせられ、該組み合わせが横方向（図５（Ｂ）のＸ方向）のに間隔Ｈ３を開けて４列とされている。さらに、この４列からなる含水ゲル層２の組み合わせは、搬送方向（Ｙ方向）に間隔Ｈ１を開けて複数配置されている。幅方向側縁の成形領域Ｐの外方には間隔Ｈ４を開けて前述の加工対象外の両側部Ｑが配されている。本実施形態において、間隔Ｈ２は間隔Ｈ１及びＨ３よりも狭く、間隔Ｈ１とＨ３とは同幅である。本発明においては、含水ゲル層２の成形される形状及びその数は、本実施形態に限定されるものでなく、型押し工程５０及び後の型抜き工程６０で含水ゲル層２が成形される限り任意に設定できる。そのため、成形される含水ゲル層２の形状に合わせて切り落とし可能領域Ｓも適宜設定され、この切り落とし可能領域Ｓに合わせて凹凸部ロール５２の凸部５３のパターンが設定される。

【0029】

本実施形態の型押しロール５２は、前記横長の含水ゲル層２となる成形領域Ｐ以外の切り落とし可能領域Ｓに一致するパターンの凸部５３を有する。具体的には、型押しロール５２の周面を平面として見たときに、図６（Ａ）に示されるように、成形領域Ｐを取り囲む切り落とし可能領域Ｓに対応した正方格子パターンの凸部５３を有する。
より具体的には凸部５３は、型押しロール５２のロール軸方向（横方向）に延在する２種類の横凸部５３Ａ及び５３Ｂを複数有する。横凸部５３Ａは前述の間隔Ｈ１に一致する幅を有し、横凸部５３Ｂはこれより狭い間隔Ｈ２に一致する幅を有する。さらに、型押しロール５２の周方向（縦方向）に延在する縦凸部５３Ｃを複数有する。縦凸部５３Ｃは、間隔Ｈ３に一致する幅を有する。この縦凸部５３Ｃが横凸部５３Ａ及び５３Ｂと直角に交差して、正方格子パターンの凸部５３をなしている。また、凸部５３の断面形状は、上底が下底よりも短い台形をなしている。横凸部５３Ａ及び縦凸部５３Ｃは、図６（Ｂ）に示されるように、互いの上底（積層体１０Ｂとの接触部分）が同じ幅の台形とされ、横断面５３Ｂは、これより上底が幅狭で、図６（Ｃ）に示されるような台形とされている。これらの凸部５３は、断面が台形に限定されるものでなく、切り落とし可能領域Ｓを均等に押して含水ゲル組成物２００を成形領域Ｐ内へ確実に移動させる形状を任意に採用できる。その中でも、断面が台形であることで、ある一定以上の厚みがある含水ゲル組成物の場合、徐々に含水ゲル組成物を成形領域Ｐ内へ移動させることができるため好ましい。

【0030】

なお、本実施形態では、型押しロール５２のロール軸方向（幅方向）の両側の縦凸部５３Ｄ，５３Ｄは、間隔Ｈ４に位置し、縦凸部５３Ｃよりも幅狭とされている。これは、縦凸部５３Ｄで型押しされる積層体１０Ｂの外方が前述の加工対象外の両側部Ｑ，Ｑであり、該両側部Ｑ，Ｑを型押ししないようにするためである。すなわち、縦凸部５３Ｃが両側部Ｑ，Ｑを型押ししないことで、含水ゲル組成物２００のはみ出しとこれによる機械汚染を防止する。

【0031】

前述のように、凸部５３で切り落とし可能領域Ｓ全体の含水ゲル組成物２００を確実に押圧してゲル層厚みを実質なくし、成形領域Ｐに所望の平面形状（大きさＭ１の長方形）で所望の坪量（Ｗ）ないし厚み（Ｔ）の含水ゲル層２を成形する。このとき、互いに離間し隣接する含水ゲル層２となる２つの成形領域Ｐに対して、その２つの成形領域Ｐの間に位置する切り落とし可能領域Ｓを押圧することで、切り落とし可能領域Ｓに存在する含水ゲル組成物２００を２つの成形領域Ｐへ移動させる。これにより、切り落とし可能領域Ｓに存在していた含水ゲル組成物２００のほとんどを含水ゲル層２の成形に利用できるので、含水ゲルシート材１０の歩留りを向上させることができる。
また、成形領域Ｐに挟まれた切り落とし可能領域Ｓの幅（間隔Ｈ１〜Ｈ３）、すなわち型押しロール５２の凸部５３の上底の幅は、十分な量の含水ゲル組成物２００を移動させる観点から、２ｍｍ以上が好ましく、３ｍｍ以上がより好ましく、５ｍｍ以上がさらに好ましい。その上限は、含水ゲル組成物を残さずゲル層厚みを実質なくす観点から、１５ｍｍ以下が好ましく、１０ｍｍ以下がより好ましく、８ｍｍ以下がさらに好ましい。一方、切り落とし可能領域Ｓに対して成形領域Ｐが片側しかない部分の幅（離間Ｈ４）、すなわち凸部５３Ｄの上底部の幅は、上記上限及び下限の半分の値とする範囲が好ましい範囲となる。

【0032】

この型押し工程５０で得られる積層体１０Ｃでは、切り落とし可能領域Ｓの含水ゲル組成物２００の押し出しで、押出し直後は成形領域Ｐの外周部分２８が中央部分よりも厚く盛り上がり厚みＴ２となっている（図４参照）。しかし、その後のこの外周部分２８の厚みＴ２を平準化して、最終製品として所望の均一な含水ゲル層２の厚みＴとなるように含水ゲル組成物を均す均し工程を設けることができる。
この平準化はゲル層２の自然流動による場合でもよいが、均し工程として、当該型押し工程５０において、型押しロール５２の凸部５３以外の平坦面で押圧する工程を有してもよく、また、後の型抜き工程６０で用いるカッターロール６２の平坦面で押圧する工程を有してもよい。あるいは搬送時の振動による工程であってもよい。前記型押しロール５２及びカッターロール６２で均す場合、凸部５３の高さや後述の型抜き工程６０でのカッター刃６３の高さを適宜調整し設定しておく必要がある。その設定としては、型押しロール５２の場合、凸部５３の高さは、型押しにより切り落とし可能領域Ｓから成形領域Ｐへ移動してくる含水ゲル組成物の割合に依存する。例えば、１つの成形領域Ｐに対して２０％の面積の切り落とし可能領域Ｓから含水ゲル組成物が移動するように型押しする場合、凸部５３の高さは、形成された含水ゲル層前駆体の厚みより２０％アップの高さに設定することが好ましい。また、型抜き工程６０でのカッター刃６３の高さは、確実に打ち抜くことができるように、含水ゲル層前駆体の厚みの２倍以上、３倍以下であることが好ましい。
あるいは、これらの工程の後に、別工程として均し工程８０があってもよい。厚みの均整化を確実にし、最終製品の品質を保持する観点から、別工程として均し工程８０を設けることが好ましい。この均し工程８０については後述する。

【0033】

次いで、型抜き工程６０において、型押し工程５０で得た積層体１０Ｃに対し打ち抜き加工がなされる。具体的には、図７に示されるように、積層体１０Ｃを平坦ロール６１とカッターロール６２との間に連続的に搬送する。カッターロール６２は、その表面に、カッター刃６３が複数パターン配置されている。このカッター刃６３はそれぞれが、含水ゲル層２の大きさ（Ｍ１）よりも若干大きい（Ｍ２）横長の長方形を縁取る形状で、最終製品における含水ゲルシート材１０の外形に沿った形状である（図９（Ａ）及び（Ｂ）参照）。これによりカッター刃６３は、含水ゲル層２の外周縁の近傍の切り落とし可能領域Ｓに当たるようにされている。すなわち図７及び図８（Ａ）に示されるように、ゲル層厚みの実質ない切り落とし可能領域Ｓ内で切り込みを入れ、基材シート３、含水ゲル層２及び支持体シート１からなる含水ゲルシート材１０を複数型抜きする（図８（Ｂ）参照）。

【0034】

前記「含水ゲル層２の外周縁の近傍」とは、含水ゲルシート材１０としたときのシート接合ののりしろ部１１の範囲をいう。本実施形態では、含水ゲル層２の外周縁に対し、のりしろ部１１の幅Ｈ１１の長さだけ離間した位置に切り込みを入れ、含水ゲル層２よりも若干大きめ（Ｍ２＞Ｍ１）の含水ゲルシート材１０が形成される（図８（Ａ）及び（Ｂ）参照）。幅Ｈ１１は、切り込み位置ずれによる加工ミスを防ぐ観点から、０．５ｍｍ以上が好ましく、１．０ｍｍ以上がより好ましい。その上限は、製品外観上の観点から、５．０ｍｍ以下が好ましく、３．０ｍｍ以下がより好ましい。
型抜き工程６０においては、前述ののりしろ部１１の幅Ｈ１１の位置に限らず、この切り落とし可能領域Ｓ内の任意の場所に切り込みをいれることが可能である。前段の型押し工程５０で、切り落とし可能領域Ｓ全体から含水ゲル組成物２００が押し出されて実質なくなっているため、切り落とし可能領域Ｓのいずれの位置で切り込みを入れても、含水ゲル組成物２００がはみ出して機械汚染を生じることがない。これに対し、従来では、例えば、特許文献１記載の発明の加工方法では、型抜きする位置に一致してゲルを型押ししていたため、少しのブレでもゲルのはみ出しが起こり得た。本発明の製造方法では、このようなゲルのはみ出し及び機械汚染の問題をも解決する。

【0035】

本実施形態の型押し工程５０及び型抜き工程６０では、積層体１０Ｂないし積層体１０Ｃに対して、変形し易い不織布からなる基材シート側から加工を行っている。これにより、不織布の変形性で凸部５３の型押し圧力が含水ゲル組成物２００に良く伝わり含水ゲル組成物を効果的に押出しすることができ、その結果、後工程のカッター刃６３の切り込みが良好なものとなる。すなわち、変形し易い不織布からなる基材シート側からの加工が、型押し工程５０及び型抜き工程６０の仕上がりの質を向上さる点で好ましい。
幅Ｈ１１の大きさにもよるが、型抜きされた含水ゲルシート材１０は、その縁部において、基材シート３と支持体シート１とが接合された状態となっていてもよい。

【0036】

本実施形態においては、型押し工程５０及び型抜き工程６０でそれぞれ異なる平坦ロール５１と６１とを搬送方向に並べてそれぞれの加工をおこなっていた。この平坦ロールについては、本実施形態の形態に限定されることなく、図１０に示すような形態であってもよい。すなわち、型押し工程５０の型押しロール５２による型押し加工、型抜き工程６０のカッターロール６２による型抜き加工を、全て同一の平坦ロール５５の円周面上で行ってもよい。
この場合、平坦ロール５５の円周の曲面で、積層体１０Ｂから積層体１０Ｃとして型押し部分（切り落とし可能領域Ｓ）を拡張したまま連続的に型抜き加工を行う。この加工方法であれば、コンベア等で積層体１０Ｂを水平にした状態で両工程を別々に行う場合に比べて、型押し部分（切り落とし可能領域Ｓ）が拡張し型抜きし易い。また拡張したままの連続加工であるので、含水ゲル組成物２００が戻り難く含水ゲル層２の形状保持性、機械汚染防止性が高まり好ましい。

【0037】

次いで、切り落とし部分（スクラップ部分）は、回収ロール７１によって回収される。
一方、型抜きされた複数の含水ゲルシート材１０は、その後の製品形成工程へと搬送される。ここで、含水ゲルシート材１０は、前述のとおり、最終製品の品質を保持する観点から、均し工程８０を経ることが好ましい。この均し工程８０においては、２つの平坦ロール８１及び８２の間に含水ゲルシート材１０を通過させ圧をかけていく。これにより、型押し工程５０及び型抜き工程６０の各ロール圧では均しきれなかった含水ゲル組成物２００の偏在（外周部分２８）を均一にする（図１１参照）。

【0038】

次いで、図示しないが、型抜きされた含水ゲルシート材１０をそれぞれ、搬送方向及び幅方向にリピッチし、アルミニウム材などによる密封袋に封入する。そして、所定個数を１カートンとし、複数カートンを１パッケージとして包装する。

【0039】

次に、本発明に係る積層体の製造方法の好ましい別の一実施形態（第２実施形態）について、図１２および図１３を参照して、以下に説明する。

【0040】

第２実施形態では、図１２（Ａ）に示されるように、前述の第１実施形態における型押し工程５０が複数の工程に分割されており、型押しロール５２による型押しを複数回行う。これにより図１２（Ｂ）に示されるように、最終製品における含水ゲル層２を徐々に成形し、含水ゲル組成物２００の移動をより確実に行うことができる。特に、成形される含水ゲル層２が、方形でなく、図１２（Ｂ）に示されるように三日月状など曲線からなる形状の場合に効果的である。それ以外の工程は、第１実施形態と同様である。以下では、第１実施形態との相違点である型押し工程５０について説明する。

【0041】

図１２（Ａ）では、含水ゲル層前駆体２０１を有する積層体１０Ｂに対し、型押し工程５０を型押し１から型押し３まで段階的におこなうことが示されている。これにより、三日月状の含水ゲル層２を２つ搬送方向に離間配置した組み合わせ２５を幅方向（Ｘ方向）に２組（２５Ａ及び２５Ｂ）形成するようにしている。なお、組み合わせ２５の幅方向への配置数は、本実施形態の２組に限らずそれ以上であってもよい。

【0042】

まず、型押し１（第１段階）において、搬送方向（Ｙ方向）に沿う長方形の含水ゲル層の第１前駆体２１Ａ及び２１Ｂを成形する。具体的には、第１前駆体２１Ａ及び２１Ｂの周囲の切り落とし可能領域Ｓ１に対応する凸部５３Ａを有する型押しロール５２Ａ（図１３（Ａ）参照）を用い、含水ゲル組成物２００を第１前駆体２１Ａ及び２１Ｂとなる領域に移動させる。
次いで、型押し２（第２段階）において、第１前駆体２１Ａ及び２１Ｂのそれぞれの領域内に、最終製品として所望の大きさよりもやや大きめの三日月状の含水ゲル層（第２前駆体２２Ａ〜Ｄ）を成形する。具体的には、第２前駆体２２Ａ〜Ｄ内のそれぞれの外周の切り落とし可能領域Ｓ２に対応する凸部５３Ｂを有する型押しロール５２Ｂ（図１３（Ｂ）参照）を用い、含水ゲル組成物２００を第２前駆体２２Ａ〜Ｄとなる部分にさらに移動させる。すなわち、第１前駆体２１Ａ及び２１Ｂと第２前駆体２２Ａ〜Ｄとの外径差を利用して的確に含水ゲル組成物２００を第２前駆体２２Ａ〜Ｄとなる部分に移動させる。
次いで、型押し３（第３段階）において、第２前駆体２２Ａ〜Ｄ内のそれぞれの外周をさらに型押しして、最終製品として所望の大きさ、形状及び坪量（Ｗ）の含水ゲル層２Ａ〜Ｄを成形する。具体的には、含水ゲル層２Ａ〜Ｄ内のそれぞれの外周の切り落とし可能領域Ｓ３に対応する凸部５３Ｃを有する型押しロール５２Ｃ（図１３（Ｃ）参照）を用い、含水ゲル組成物２００を含水ゲル層２Ａ〜Ｄとなる部分にさらに移動させる。すなわち、第２前駆体２２Ａ〜Ｄと最終製品としての含水ゲル層２Ａ〜Ｄとの外径差を利用して的確に含水ゲル組成物２００を含水ゲル層２Ａ〜Ｄとなる部分に移動させる。

【0043】

このように段階的に周囲から徐々に型押しするので、確実に、含水ゲル組成物２００を含水ゲル層２となる領域へと移動できる。これにより、切り落とし可能領域Ｓ１〜Ｓ３での含水ゲル組成物２００の残留を効果的に抑制でき、三日月状のように種々の形状の含水ゲル層２を成形することができる。本実施形態では、複数回の型押しでは、１回のみの型押しに比べて、含水ゲル組成物２００の移動量を多くすることができる。このことを考慮して、第２実施形態では、塗布工程４０での含水ゲル組成物２００の塗工厚み（Ｔ１）も適宜設定することが好ましい。本実施形態の長方形から三日月状へと成形していったが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち各段階の型押しの範囲ないし形状は、最終製品となる含水ゲル層２の形状及び個数に併せて適宜設定できる。また、型押しの回数も本実施形態の３回に限らず、２回でもよく、４回以上でもよい。

【0044】

上述した実施形態に関し、本発明はさらに以下の含水ゲルシート材の製造方法を開示する。

【0045】

＜１＞長尺帯状の支持体シート上に含水ゲル層前駆体を形成し、前記支持体シート及び前記含水ゲル層前駆体を有する積層体から型抜きによって所定形状の含水ゲル層を有する複数の含水ゲルシート材を形成する含水ゲルシート材の製造方法であって、
含水ゲル組成物を前記支持体シートの長手方向に沿って連続的に塗布して前記含水ゲル層前駆体を形成する塗布工程と、
前記積層体の平面領域において、前記含水ゲル層となる領域以外の領域を型押し、互いに離間し隣接する含水ゲル層となる領域に該領域の間に存在する前記含水ゲル組成物を押し込み、前記含水ゲル層を成形する型押し工程と、
前記型押しされた各領域で前記積層体をカットして前記含水ゲルシート材を型抜きする型抜き工程と、を有する含水ゲルシート材の製造方法。

【0046】

＜２＞前記塗布工程において、最終製品としての含水ゲルシート材に必要な含水ゲル層の厚み又は単位面積当たりの質量よりも少ない厚み又は単位面積当たりの質量を有する前記含水ゲル層前駆体を形成し、
前記型押し工程において、前記含水ゲル層前駆体を型押しすることで前記含水ゲル組成物を前記含水ゲル層となる領域内へ移動させ、最終製品に必要な含水ゲル層の厚み又は単位面積当たりの質量を得る前記＜１＞に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜３＞前記型押し工程もしくは前記型抜き工程の工程中または後工程において、前記含水ゲル層又は前記含水ゲル層前駆体の厚みを平準化する均し工程を有する前記＜１＞又は＜２＞に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜４＞前記型押し工程が、複数の工程に分割され、前記含水ゲル組成物を徐々に移動させていく工程を有する前記＜１＞〜＜３＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜５＞前記塗布工程において形成された前記含水ゲル層前駆体上に長尺帯状の基材シートを積層する工程を有し、前記型押し工程及び前記型抜き工程は、前記支持体シート又は前記基材シートのうち変形しやすい材料側から型押し及び型抜きを行う前記＜１＞〜＜４＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。

【0047】

＜６＞前記塗布工程において、塗布する含水ゲル組成物の含水率は３０質量％以上が好ましく、３０〜９０質量％がより好ましく、３０〜８５質量％がさらに好ましい、前記＜１＞〜＜５＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜７＞前記塗布工程において、塗布する含水ゲル組成物の粘度は１００Ｐａ・ｓ以上が好ましく、２００Ｐａ・ｓ以上がより好ましく、３００Ｐａ・ｓ以上がさらに好ましい、前記＜１＞〜＜６＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜８＞前記塗布工程において形成される含水ゲル層前駆体の厚み（Ｔ１）もしくは単位面積当たりの質量（Ｗ１）が、最終製品としての含水ゲルシート材における含水ゲル層の厚み（Ｔ）もしくは単位面積当たりの質量に対して、５０％以上が好ましく、５５％以上がより好ましく、６０％以上がさらに好ましく、その上限は、９０％以下が好ましく、８５％以下がより好ましく、８０％以下がさらに好ましい、前記＜１＞〜＜７＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜９＞前記支持体シートがフィルムからなる前記＜１＞〜＜８＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜１０＞前記フィルムがポリエチレンテレフタレートからなる前記＜９＞に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜１１＞前記基材シートが不織布からなる前記＜１＞〜＜１０＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜１２＞前記型押し工程において、含水ゲル層となる領域以外の領域に一致するパターンの凸部を有する型押しロールで型押しする前記＜１＞〜＜１１＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜１３＞前記型押しロールの凸部の断面は、上底が下底よりも短い台形である前記＜１＞〜＜１２＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜１４＞前記型押しロールの凸部の上底の幅は、２ｍｍ以上が好ましく、３ｍｍ以上がより好ましく、５ｍｍ以上がさらに好ましく、その上限は、１５ｍｍ以下が好ましく、１０ｍｍ以下がより好ましく、８ｍｍ以下がさらに好ましい、前記＜１３＞に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜１５＞互いに離間し隣接する含水ゲル層となる領域の間の幅が、２ｍｍ以上が好ましく、３ｍｍ以上がより好ましく、５ｍｍ以上がさらに好ましく、その上限は、１５ｍｍ以下が好ましく、１０ｍｍ以下がより好ましく、８ｍｍ以下がさらに好ましい、前記＜１＞〜＜１４＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜１６＞前記型抜き工程において、含水ゲル層となる領域の外周縁からのりしろ部の幅Ｈ１１の長さだけ離間した位置に切り込みを入れ、前記積層体をカットする前記＜１＞〜＜１５＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜１７＞前記カットによって、前記含水ゲル層よりも大きい（Ｍ２＞Ｍ１）含水ゲルシート材１０が形成される前記＜１６＞に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜１８＞前記幅Ｈ１１は、０．５ｍｍ以上が好ましく、１．０ｍｍ以上がより好ましく、その上限は、５．０ｍｍ以下が好ましく、３．０ｍｍ以下がより好ましい、前記＜１６＞又は＜１７＞に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜１９＞前記型抜き工程は、前記積層体を平坦ロールとカッターロールとの間に搬送して行われる前記＜１＞〜＜１８＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜２０＞前記カッターロールはカッター刃を有し、該カッター刃の高さは、前記含水ゲル層前駆体の厚みの２倍以上であり、３倍以下である前記＜１９＞に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜２１＞前記型押し工程の型押しロールによる型押し加工、前記型抜き工程のカッターロールによる型抜き加工を、全て同一の平坦ロールの円周面上で行う前記＜１９＞又は＜２０＞に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜２２＞前記型抜き工程後に均し工程を有し、該均し工程においては、２つの平坦ロールの間に前記含水ゲルシート材を通過させ圧をかける前記＜１＞〜＜２１＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜２３＞前記含水ゲル組成物は、カルボキシル基、硫酸基又はリン酸基を有する高分子をゲル基材として含有する前記＜１＞〜＜２２＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜２４＞前記高分子はカルボキシメチルセルロースからなる前記＜２３＞に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜２５＞前記含水ゲル組成物は、架橋剤を含有する前記＜１＞〜＜２４＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜２６＞前記含水ゲル組成物は、保湿剤を含有する前記＜１＞〜＜２５＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜２７＞前記所定形状が、曲線のみからなる形状である前記＜１＞〜＜２６＞のいずれか１に記載の含水ゲルシート材の製造方法。
＜２８＞前記所定形状が、三日月状である前記＜２７＞記載の含水ゲルシート材の製造方法。

【実施例】

【0048】

以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、これにより本発明が限定して解釈されるものではない。

【0049】

（実施例１）
実施例１では、図２に示される含水ゲルシート材の製造方法を実施した。具体的には、ゲル成分の配合・混錬工程３０において、カルボキシメチルセルロール、水酸化アルミニウム、水を配合して混錬し、含水量８５％、粘度４００Ps・ｓの含水ゲル組成物２００を得た。次いで、塗布工程４０において、ポリエチレンテレフタレートフィルムからなる支持体シート連続体１００の一面側に前記含水ゲル組成物２００を連続的に塗工して含水ゲル層前駆体２０１を形成した。さらに不織布からなる基材シート連続体３００を積層して、積層体１０Ｂの連続体を得た。
このときの含水ゲル層前駆体２０１の厚み（Ｔ１）は、０．９ｍｍで、坪量（Ｗ１）は７２０ｇ／ｍ^２であった。

【0050】

次いで、型押し工程５０において、図６のパターンで、積層体１０Ｂを型押しした。具体的には、Ｈ１＝１０ｍｍ、Ｈ２＝４ｍｍ、Ｈ３＝１０ｍｍの幅の正方格子の凸部５３を有する型押しロール５２と平坦ロールとを用い、積層体１０Ｂに対し、基材シート連続体３００側から、スクラップ部分となる切り落とし可能領域Ｓを全て型押しした。このときの型押しロールの圧力は、４，０００Ｎ（油圧シリンダー φ５０×２ 使用圧力 １Ｍｐａ）であった。これにより、Ｘ方向の横幅５５ｍｍ、Ｙ方向の縦幅４１ｍｍの含水ゲル層２を２つ搬送方向に４ｍｍ（＝Ｈ２）離間させて形成し、この組み合わせを幅方向（Ｘ方向）に１０ｍｍ（Ｈ３）離間させて４列形成し、この４列を搬送方向（Ｙ方向）に１０ｍｍ（＝Ｈ１）離間させて連続的に形成した。これにより型押しされた切り落とし可能領域Ｓ（Ｈ１〜３で形成される正方格子の領域）では、含水ゲル組成物２００が押し出されゲル層厚みが実質なくなっていた。
得られた含水ゲル層２の大きさＭ１は、横幅５５ｍｍ×縦幅４１ｍｍであった。
また、得られた含水ゲル層２の坪量（Ｗ）は１０００ｇ／ｍ^２となり、塗工工程４０における坪量（Ｗ１）から増加し、最終製品（完成製品）として必要とされる坪量となっていた。

【0051】

次いで、型抜き工程６０において、積層体１０Ｂの型押しされた切り落とし可能領域Ｓに対して、図９のパターンのカッター刃６３を有するカッターロール６２と平坦ロール６１とで型抜きを行った。カッターロール６２は、型押し工程５０で得られた、横幅５５ｍｍ及び縦幅４１ｍｍの含水ゲル層２の外周縁から２ｍｍ離間した切り落とし可能領域Ｓにカッター刃６３があたるパターンとされている。このときのカッターロール６２の圧力は、８，０００Ｎ（油圧シリンダー φ５０×２ 使用圧力 ２Ｍｐａ）であった。
これにより、横幅５５ｍｍ×縦幅４１ｍｍ（Ｍ１）の含水ゲル層２を有し、その外周縁より２ｍｍののりしろ部１１を有する横幅５９ｍｍ×縦幅４５ｍｍ（Ｍ２）の含水ゲルシート材１０を複数得た。
この型抜きと同時に、型抜きされた後の切り落とし部分（スクラップ部分）は、回収ロール７１によって回収された。

【0052】

次いで、均し工程８０で、型抜きされた各含水ゲルシート材１０を２つの平坦ロール８１及び８２の間で通過させ圧力をかけて中間層の含水ゲル層２の厚みを均した。
これにより含水ゲル層２は、最終製品として必要な厚み（Ｔ）１．０ｍｍとなっていた。

【0053】

以上のようにして含水ゲルシート材１０を複数得た。これら一連の工程を加工速度は１０ｍ／分で３０分間実施した。使用した基材シート及び支持体シートの長さは３ｍであった。

【0054】

（実施例２）
実施例２では、前述の均し工程８０を有さない以外、実施例１と同様にして行った。

【0055】

（比較例１）
比較例１では、実施例１の工程のうち、塗工工程４０での塗工量を最終製品の基準とし、型押し工程５０として前記特許文献１に記載の製造方法の部分型押しを行い、均し工程８０を実施しなかった以外は、実施例１で実施した製造方法を実施しした。これにより、実施例１と同様の含水ゲルシート材１０を得た。
具体的には、比較例１の塗工工程４０では、最終製品として必要な層厚み（Ｔ）１．０ｍｍ、坪量（Ｗ）１０００ｇ／ｍ^２の含水ゲル層２の連続体を形成した。そのため、実施例１における型押し工程５０での含水ゲル層２の成形は実施しなかった。すなわち、含水ゲル層２に必要な量の含水ゲル組成物２００を移動させるための型押しではなく、型抜き後の外端縁からのゲルはみ出しや刃の汚れ防止のための必要最小限の範囲での部分型押しを行った。
この部分型押しでは、積層体１０Ｂに対し、カッターロール６２のカッター刃６３が当たる線上の両側１．５ｍｍずつの幅（合計３ｍｍ幅）の領域を型押しした。すなわち、切り落としとなる切り落とし可能領域Ｓのうち、横幅５６ｍｍ×縦幅４２ｍｍ（Ｍ１）の含水ゲル層２の外周縁に沿って３ｍｍ幅のみを型押しした。したがって、切り落とし可能領域Ｓには、含水ゲル組成物２００がかなりの量残っていた。なお、比較例１では、当初から最終製品に必要な層厚み（Ｔ）及び坪量（Ｗ）の含水ゲル層となっているため、製品品質の観点から上記の範囲以上の型押しができなかった。
次いで、型抜き工程６０において、実施例１と同様のカッターロール６２及び平坦ロール６１を用いて、実施例１と同様のパターンで含水ゲルシート材１０を複数型抜きした。すなわち、横幅５６ｍｍ×縦幅４２ｍｍ（Ｍ１）の含水ゲル層２を有し、その外周縁より１．５ｍｍののりしろ部１１を有する横幅５９ｍｍ×縦幅４５ｍｍ（Ｍ２）の含水ゲルシート材１０を複数得た。

【0056】

（比較例２）
比較例２では、比較例１の部分型押しを行わなかった以外は、比較例１の製造方法と同様にして実施した。

【0057】

上記の実施例１及び２並びに比較例１及び２の実施結果について、下記の表１に示す。
表１中の「製品状態」とは、得られた含水ゲルシート材１０における含水ゲル層２の厚みことである。「良好」は厚みが全て均一の状態を示す。「カッター周辺部編肉」は含水ゲル層の外周縁部分の厚みが他の部分より厚くなっている状態を示す。この評価は、定圧厚み測定器を用い測定を行った。
表１中の「刃の汚れ」は、上記の製造工程を全て実施した後において、カッターロール６２のカッター刃６３及び加工ライン中に含水ゲル組成物付着しているかどうかを評価した。この評価は、目視により行った。
表１中の「ゲル打ち抜き歩留まり」は、塗工された含水ゲル組成物２００の最終製品における利用率を示す。その評価は、３０分間運転した時に塗工工程で使用した含水ゲル量と最終製品の生産枚数とそれに使用した含水ゲル量から算出した。

【0058】

【表1】

【0059】

表１に示されるように、実施例１及び２は、ゲル打ち抜き歩留まりが９６％とほぼ無駄なく含水ゲル組成物を利用することができた。これに対し、比較例１及び２は、廃棄されてしまう含水ゲル組成物が大量に発生してしまっていた。また、実施例１及び２は、型抜きで使用したカッターロールの刃の汚れが無く、良好な継続製造が可能であることが分かった。これに対し、比較例２では、製造の障害となりかねない刃の汚れや加工ライン中の汚れが認められた。

【0060】

（実施例３）
実施例３では、図１２に示される含水ゲルシート材の製造方法を、実施例１と同じ条件で実施した。
具体的には、塗工工程４０において、含水ゲル組成物２００の層厚み（Ｔ１）を０．６ｍｍ、坪量（Ｗ１）を６００ｇ／ｍ^２として塗工した。次いで、型押し工程５０で、図１３（Ａ）〜（Ｃ）までの３つの型押しロールを用い、３段階の型押しを行った。その後、型抜き工程５０で、得られた三日月状の含水ゲル層２の外周縁より２ｍｍののりしろ部１１を有するようにして型抜きした。その後、均し工程８０等を経て、三日月状の含水ゲルシート材１０を複数得た。
このようにして得られた含水ゲルシート材１０における、含水ゲル層２の層厚み（Ｔ）は１．００ｍｍとなっていた。また、得られた含水ゲル層２の坪量（Ｗ）は１０００ｇ／ｍ^２となり、塗工工程４０における坪量（Ｗ１）から増加し、最終製品（完成製品）として必要とされる坪量となっていた。

【0061】

（実施例４）
実施例４では、図１２に示される含水ゲルシート材の製造方法を、実施例２と同じ条件で実施した。すなわち、実施例３のうち均し工程８０を実施しなかった。

【0062】

（比較例３）
比較例３では、含水ゲル層２及び含水ゲルシート材１０の形状を実施例３と同じ三日月状とした以外は、比較例１と同様にして実施した。

【0063】

（比較例４）
比較例４では、含水ゲル層２及び含水ゲルシート材１０の形状を実施例３と同じ三日月状とした以外は、比較例２と同様にして実施した。

【0064】

【表2】

【0065】

表２に示されるように、実施例３及び４は、ゲル打ち抜き歩留まりが９５％とほぼ無駄なく含水ゲル組成物を利用することができた。これに対し、比較例３及び４は、廃棄されてしまう含水ゲル組成物が６０％ないし５５％と塗工量の約半分程度しか利用されず、多量の廃棄が発生した。また、実施例３及び４は、型抜きで使用したカッターロールの刃の汚れが無く、良好な継続製造が可能であることが分かった。これに対し、比較例４では、製造の障害となりかねない刃の汚れが認められた。

【符号の説明】

【0066】

１ 支持体シート
２ 含水ゲル層
３ 基材シート
１０ 含水ゲルシート材
１０Ａ、１０Ｂ 積層体
３０ ゲル成分の配合・混錬工程
４０ 塗工工程
５０ 型押し工程
５３ 凸部
６０ 型抜き工程
６３ カッター刃
８０ 均し工程
２００ 含水ゲル組成物
２０１ 含水ゲル層前駆体
Ｓ、Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３ 切り落とし可能領域

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】