特許第6337998号(P6337998)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6337998電極箔、巻回形コンデンサ、電極箔の製造方法、及び巻回形コンデンサの製造方法
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(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6337998
(24)【登録日】2018年5月18日
(45)【発行日】2018年6月6日
(54)【発明の名称】電極箔、巻回形コンデンサ、電極箔の製造方法、及び巻回形コンデンサの製造方法
(51)【国際特許分類】
   H01G 9/04 20060101AFI20180528BHJP
   H01G 9/055 20060101ALI20180528BHJP
   H01G 9/00 20060101ALI20180528BHJP
【FI】
   H01G9/04 304
   H01G9/04 337
   H01G9/24 B
   H01G9/05 L
【請求項の数】9
【全頁数】14
(21)【出願番号】特願2017-155084(P2017-155084)
(22)【出願日】2017年8月10日
(62)【分割の表示】特願2017-541141(P2017-541141)の分割
【原出願日】2017年3月31日
(65)【公開番号】特開2017-224843(P2017-224843A)
(43)【公開日】2017年12月21日
【審査請求日】2017年8月10日
(31)【優先権主張番号】特願2016-72305(P2016-72305)
(32)【優先日】2016年3月31日
(33)【優先権主張国】JP
【早期審査対象出願】
(73)【特許権者】
【識別番号】000228578
【氏名又は名称】日本ケミコン株式会社
(74)【代理人】
【識別番号】100081961
【弁理士】
【氏名又は名称】木内 光春
(74)【復代理人】
【識別番号】100163500
【弁理士】
【氏名又は名称】片桐 貞典
(72)【発明者】
【氏名】成田 良幸
(72)【発明者】
【氏名】長原 和宏
(72)【発明者】
【氏名】田中 淳視
(72)【発明者】
【氏名】小野 昭二
【審査官】 田中 晃洋
(56)【参考文献】
【文献】 特開2013−153024(JP,A)
【文献】 特開平06−314638(JP,A)
【文献】 特開平06−314637(JP,A)
(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
H01G 9/04
H01G 9/00
H01G 9/055
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
帯状の箔により成り、
前記箔の表面に形成された拡面部と、
前記箔のうち、前記拡面部を除いた残部である芯部と、
前記拡面部に帯の幅方向に延在し、前記拡面部を分断する複数の分断部と、
前記拡面部の表面、又は前記拡面部と前記分断部の表面に形成された誘電体皮膜と、
を備え、
前記分断部は、
平均ピッチが2.1mm以下の間隔を空けて設けられていること、
を特徴とする電極箔。
【請求項2】
前記分断部は、
前記箔を完全に横断し、又は部分的に横断するように延在すること、
を特徴とする請求項1記載の電極箔。
【請求項3】
前記分断部は、
帯長手方向の10mmの範囲に4箇所以上設けられていること、
を特徴とする請求項1又は2記載の電極箔。
【請求項4】
前記分断部は、
平均ピッチが1.0mm以下の間隔を空けて設けられていること、
を特徴とする請求項1又は2記載の電極箔。
【請求項5】
前記分断部は、前記拡面部が割れて成り、前記箔を平坦にした状態で溝幅が実質的に0であること、
を特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の電極箔。
【請求項6】
請求項1乃至5の何れかに記載の電極箔を巻回して備えること、
を特徴とする巻回形コンデンサ。
【請求項7】
前記電極箔を巻回して成るコンデンサ素子を備え、
前記コンデンサ素子は、巻回中心に巻芯部を有し、
前記電極箔は、前記巻芯部に巻回され、
前記分断部は、少なくとも、前記巻芯部への巻き始めを含む所定半径内の巻回中心側に形成されていること、
を特徴とする請求項6記載の巻回形コンデンサ。
【請求項8】
帯状の箔の表面に拡面部を形成するステップと、
前記拡面部を分断する複数の分断部を、平均ピッチが2.1mm以下の間隔を空けて、前記箔の帯の幅方向に各々延在させるステップと、
前記箔を化成処理し、前記拡面部の表面、又は前記拡面部と前記分断部の表面に誘電体皮膜を形成するステップと、
を有すること、
を特徴とする電極箔の製造方法。
【請求項9】
請求項8記載の製造方法で得られた前記電極箔を巻回することでコンデンサ素子を形成する素子形成ステップと、
前記コンデンサ素子に電解質を形成する電解質形成ステップと、
前記コンデンサ素子をエージングするエージングステップと、
を有し、
前記電解質形成ステップにより前記電解質を形成した後に前記エージングステップを行い、又は前記エージングステップの後に前記電解質形成ステップによって前記エージングされたコンデンサ素子に前記電解質を形成すること、
を特徴とする巻回形コンデンサの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、巻回形コンデンサに用いられる電極箔に関する。
【背景技術】
【0002】
電解コンデンサは、陽極の誘電体皮膜を対向電極と密着させるべく、電解質で空隙を埋めて成り、電解質が液体である非固体電解コンデンサ、電解質が固体である固体電解コンデンサ、電解質として、液体と固体を備えたハイブリッド形電解コンデンサ、電極双方に誘電体皮膜を形成した両極性電解コンデンサが含まれる。この電解コンデンサは、コンデンサ素子を電解質に含浸させて成り、コンデンサ素子は、アルミニウムなどの弁金属箔に誘電体皮膜を形成した陽極箔と、同種または他の金属の箔によりなる陰極箔とを対向させ、陽極箔と陰極箔との間にセパレータを介在させて構成されている。
【0003】
電解コンデンサの静電容量は誘電体皮膜の表面積に比例する。通常、電解コンデンサの電極箔にはエッチング等の拡面化処理が施され、この拡面化処理が施された拡面部には化成処理が施されて、大表面積の誘電体皮膜を有する。近年は、電解コンデンサの静電容量の更なる増大を図るべく、電極箔の表面から一層深部に至るまで拡面化を進展させている。
【0004】
換言すれば、電解コンデンサにおいては、電極箔の芯部が、より一層薄くなる傾向を示している。誘電体皮膜を有する拡面部は、芯部と比べて、柔軟性及び延伸性が低い。そのため、誘電体皮膜の大表面積化が図られた電極箔は、柔軟性及び延伸性に富む残芯部の薄厚化により、柔軟性及び延伸性が低下している。
【0005】
ここで、このような電極箔を用いた電解コンデンサとして、小型化と大容量化を両立すべく、巻回形コンデンサの形態が採られる場合がある。巻回形コンデンサのコンデンサ素子は、セパレータを挟んで陽極箔及び陰極箔を重ね合わせ、筒型に巻回して成る。近年の誘電体皮膜の表面積増大措置は、この巻回形コンデンサの巻回性に大きな問題を生じさせている。
【0006】
すなわち、図10に示すように、拡面化処理した拡面部103に化成処理して誘電体皮膜105を形成することで、電極箔101は柔軟性及び延伸性が低下してしまう。そうすると、柔軟性及び延伸性が低下した電極箔101は弓なりに変形できず、電極箔101を滑らかに湾曲させながら巻回することは困難となり、巻回により所々に折れ曲がりが生じてしまう。特に、巻回時の曲げ応力の集中は、最悪の場合、芯部102をも破壊するクラック104を発生させてしまう。この芯部102をも破壊するクラック104は、電極箔101の折れ曲がりを誘発する。
【0007】
電極箔101が所々折れ曲がって巻回されると、コンデンサ素子の径は大きくなる。そのため、巻回形コンデンサの静電容量を維持しようとすると、巻回形コンデンサが大型化する。または、巻回形コンデンサの径を維持しようとすると、巻回形コンデンサの静電容量は低下してしまう。さもなければ、不良品として取り扱い、歩留まりが悪化することになる。
【0008】
【特許文献1】特開2007−149759号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するため、誘電体皮膜の大表面積化を進展させつつ、巻回時に芯部をも破壊するクラックを発生させ難い電極箔、当該電極箔を巻回した巻回形コンデンサ、電極箔の製造方法、及び巻回形コンデンサの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0010】
上記目的を達成するため、本発明に係る電極箔は、帯状の箔により成り、前記箔の表面に形成された拡面部と、前記箔のうち、前記拡面部を除いた残部である芯部と、前記拡面部に帯の幅方向に延在し、前記拡面部を分断する複数の分断部と、前記拡面部の表面、又は前記拡面部と前記分断部の表面に形成された誘電体皮膜と、を備え、前記分断部は、平均ピッチが2.1mm以下の間隔を空けて設けられていること、を特徴とする。
【0011】
前記分断部は、前記箔を完全に横断し、又は部分的に横断するように延在するようにしてもよい。
【0012】
前記分断部は、帯長手方向の10mmの範囲に4箇所以上設けられているようにしてもよい。
【0014】
前記分断部は、平均ピッチが1.0mm以下の間隔を空けて設けられているようにしてもよい。
【0015】
前記分断部は、前記箔を平坦にした状態で溝幅が0を含む50μm以下であるようにしてもよい。
【0016】
前記分断部は、前記拡面部が割れて成り、前記箔を平坦にした状態で溝幅が実質的に0であるようにしてもよい。
【0017】
前記拡面部と前記分断部の表面に誘電体皮膜を有するようにしてもよい。
【0018】
この電極箔を巻回して備える巻回形コンデンサも本発明の一態様である。
【0019】
この巻回形コンデンサは、前記電極箔を巻回して成るコンデンサ素子を備え、前記コンデンサ素子は、巻回中心に巻芯部を有し、前記電極箔は、前記巻芯部に巻回され、前記分断部は、少なくとも、前記巻芯部への巻き始めを含む所定半径内の巻回中心側に形成されているようにしてもよい。
【0020】
また、上記目的を達成するため、本発明に係る電極箔の製造方法は、帯状の箔の表面に拡面部を形成するステップと、前記拡面部を分断する複数の分断部を、平均ピッチが2.1mm以下の間隔を空けて、前記箔の帯の幅方向に各々延在させるステップと、前記箔を化成処理し、前記拡面部の表面、又は前記拡面部と前記分断部の表面に誘電体皮膜を形成するステップと、を有すること、を特徴とする。
【0021】
前記分断部の形成の後、前記箔を化成処理するステップを更に有するようにしてもよい。
【0022】
前記拡面部の形成の後、前記分断部の形成の前に、前記箔を化成処理するステップを更に有するようにしてもよい。
【0023】
前記拡面部の形成の後、前記分断部の形成の前に、前記箔を化成処理するステップと、前記分断部の形成の後、前記箔を再化成処理するステップと、を更に有するようにしてもよい。
【0024】
また、上記目的を達成するため、本発明に係る巻回形コンデンサの製造方法は、前記電極箔を巻回することでコンデンサ素子を形成する素子形成ステップと、前記コンデンサ素子に電解質を形成する電解質形成ステップと、前記コンデンサ素子をエージングするエージングステップと、を有し、前記電解質形成ステップにより前記電解質を形成した後に前記エージングステップを行い、又は前記エージングステップの後に前記電解質形成ステップによって前記エージングされたコンデンサ素子に前記電解質を形成すること、を特徴とする。
【発明の効果】
【0025】
本発明によれば、複数の分断部の存在により巻回時の曲げ応力が分散するため、巻回時に芯部をも破壊するクラックが生じにくく、滑らかに湾曲した良好な巻回が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0026】
図1】本実施形態に係る電極箔の構造を示し、(a)は長手方向に沿った切断図であり、(b)は上面図である。
図2】本実施形態に係る巻回形コンデンサが備えるコンデンサ素子を示す斜視図である。
図3】本実施形態の分断部を備えた電極箔の長手方向に沿った断面図である。
図4】実施例1に係る、本実施形態の分断部を備えた電極箔の長手方向に沿った断面写真である。
図5】実施例1に係る、本実施形態の分断部を備えた電極箔の表面を示す写真であり、写真長辺方向が電極箔の幅方向であり、写真短辺方向が電極箔の長手方向である。
図6】比較例1に係る電極箔の長手方向に沿った断面写真である。
図7】実施例1乃至5及び比較例1のエリクセン試験の結果を示すグラフである。
図8】実施例1及び比較例1を巻回したコンデンサ素子の写真である。
図9】実施例1及び比較例1の巻回形コンデンサのエージング処理において流した電流を経過時間毎に示したグラフである。
図10】従来の電極箔の長手方向に沿った断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0027】
以下、本発明に係る電極箔及び巻回形コンデンサの実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は、以下に説明する実施形態に限定されるものでない。
【0028】
(電極箔)
図1に示す電極箔1は、巻回形コンデンサの陽極箔、誘電体皮膜5が形成された陰極箔又は両方に用いられる。巻回形コンデンサの代表例としては電解コンデンサであり、電解コンデンサとしては、電解質が液体であり、陽極箔に誘電体皮膜を形成した非固体電解コンデンサ、電解質が固体であり、陽極箔に誘電体皮膜を形成した固体電解コンデンサ、電解質として、液体と固体を備えたハイブリッド形電解コンデンサ、及び陽極箔と陰極箔の双方に誘電体皮膜を形成した両極性電解コンデンサが挙げられる。
【0029】
電極箔1は、アルミニウム、タンタル、チタン、ニオブ及び酸化ニオブ等の弁金属を材料とする。純度は、陽極箔に関して99.9%程度以上が望ましく、陰極箔に関して99%程度以上が望ましいが、ケイ素、鉄、銅、マグネシウム、亜鉛等の不純物が含まれていても良い。図1に示すように、この電極箔1は、長尺であり、厚み方向中心の芯部2を残して両面に拡面部3が形成され、拡面部3の一方又は両方に複数の分断部4が形成され、拡面部3と分断部4の表面に誘電体皮膜5が形成されて成る。
【0030】
拡面部3は多孔質構造を有する。多孔質構造は、トンネル状のピット、海綿状のピット、又は密集した紛体間の空隙により成る。この拡面部3は、典型的には塩酸等のハロゲンイオンが存在する酸性水溶液中で直流又は交流を印加する直流エッチング又は交流エッチングにより形成され、若しくは芯部に金属粒子等を蒸着又は焼結することにより形成される。
【0031】
この電極箔1には、低圧用電極箔、中高圧用電極箔が含まれる。また、弁金属の拡面部3を除く残部、又は蒸着等により金属粒子等が付着される基材が芯部2に相当する。換言すると、例えば未エッチング層又は基材が芯部2に相当する。拡面部3及び芯部2の厚みは特に限定されないが、拡面部3の厚みが両面合わせて40〜200μm、芯部2の厚みが8〜60μmの範囲が好ましい。
【0032】
分断部4は、電極箔1の表面から芯部2に向かう深さ方向に、拡面部3を分断する。分断部4は、芯部2を完全に分断するまでに至らなければ良く、芯部2に至らない深さ、最深部がちょうど芯部2に到達する深さ、及び最深部が芯部2に食い込む深さの何れであってもよい。また、全ての分断部4の深さが統一されている必要はない。
【0033】
分断部4は、電極箔1の帯長手方向に対して直交する幅手方向に形成される。その分断部4は、電極箔1を完全に横断し、又は部分的に横断するように延びる。すなわち、ある分断部4は、電極箔1の一方の長辺から延びて他方の長辺に至る。また、ある分断部4は、電極箔1の一方の長辺から箔中心線未満又は箔中心線を超えて延び、他方の長辺には至らない。また、ある分断部4は、電極箔1の他方の長辺から箔中心線未満又は箔中心線を超えて延び、一方の長辺には至らない。幅手方向に沿って形成されている分断部4同士が繋がっていてもよい。全ての分断部4の延びる向き及び長さが統一されている必要はない。
【0034】
この分断部4は、拡面部3をひび割れさせ、拡面部3を裂き、電極箔1の厚み方向に沿って拡面部3に切り込みを入れ、拡面部3を切り欠き、又は電極箔1の厚み方向に沿って拡面部3を掘り込むことにより形成される。従って、分断部4の実態の例は、割れ目、裂け目、切り込み、切り欠き又は掘り込みである。但し、拡面部3を分断していれば、分断部4の態様は特に限られない。
【0035】
分断部4の溝幅は、電極箔1を湾曲させずに平坦にならした際、0を含む50μm以下である。分断部4の溝幅とは、電極箔1の表層付近で計測された、電極箔1の長手方向に沿った長さである。分断部4を割れ、裂き、又は切り込みにより形成した場合、分断部4の溝幅は実質的に0となる。実質的に0とは、電極箔1を湾曲させずに平坦にならした際、分断部4の界面が少なくとも部分的に接している状態をいう。分断部4の溝幅が50μm以下であれば、電極箔1の柔軟性及び延伸性を損なうことなく、誘電体皮膜5の表面積減少に伴う、巻回形コンデンサの静電容量の大きな低下を抑止できる。
【0036】
ここで、分断部4の形成方法として、例えば、丸棒へ電極箔1を押し付ける等の物理的手段によることが考えられる。丸棒を利用する形成方法では、電極箔1の芯部2が長手方向に伸び、その結果芯部2の厚みが薄くなる。しかしながら、分断部4の溝幅を50μm以下とすることで、芯部2の厚みが薄くなり難く、電極箔1の柔軟性及び延伸性は向上する。この点においても、分断部4の溝幅を50μm以下とすることが好ましい。
【0037】
また、分断部4は、電極箔1の帯長手方向において、10mmの範囲当たり、4箇所以上設けられている。分断部4の数が少ないと、電極箔1を巻回する際に各分断部4に曲げ応力が分散しても、各分断部4にかかる応力が大きくなり、分断部4から芯部2をも破壊するクラックが生じやすくなる。隣接する分断部4の間隔は、平均ピッチが2.1mm以下であればよく、より望ましくは平均ピッチが1.0mm以下である。平均ピッチが2.1mm以下であれば、分断部4が未形成の電極箔1と比べて、エクセリン値が大きくなることが確認された。
【0038】
尚、平均ピッチは、電極箔1の長手方向に沿った断面を数箇所任意に選択し、各断面写真から任意で選択した連続する4本の分断部4の間隔の平均値を各々算出し、更に各平均値の平均値を取って算出した。分断部4の間隔は、電極箔1の表面付近を計測して得た。
【0039】
分断部4は、電極箔1の長手方向に沿って均一な平均ピッチや単位範囲内の数で形成されてもよい。また、電極箔1が巻回された際の、当該分断部4が形成される箇所における曲率を加味して、平均ピッチや単位範囲内の数を変更することもできる。曲率が小さくなればなるほど、すなわち巻回されたときに外周側になればなるほど、曲げ応力は小さくなり、クラックの発生の虞が低減するからである。
【0040】
例えば、巻軸への電極箔1の巻き始め部分にのみ、分断部4を形成しておくようにしてもよい。電極箔1の巻き始め部分は曲率が大きく、クラックが発生しやすい。また、分断部4が位置する箇所における巻回半径に比例させて、平均ピッチを大きく取ったり、当該半径に反比例させて、単位範囲内の数を減少させるようにしてもよい。分断部4の数が減れば減るほど、巻回形コンデンサの静電容量への影響が低減する。
【0041】
この分断部4は、両面の拡面部3に各々形成されることが望ましいが、巻回時の電極箔1の延びの観点から、少なくとも、電極箔1の巻回時に箔外側になって張力を受ける拡面部3に形成されるとよい。
【0042】
誘電体皮膜5は、拡面部3を化成処理して成り、典型的にはアジピン酸やホウ酸等の水溶液等のハロゲンイオン不在の溶液中で電圧印加して形成される酸化皮膜を用いる。
【0043】
ここで、誘電体皮膜5は、分断部4の内表面にも形成しておくことが好ましい。分断部4の表面にも誘電体皮膜5が形成されると電極箔1の安定性が増す。また、分断部4の内表面にも誘電体皮膜5を形成しておくと、誘電体皮膜5を修復するためのエージング処理に必要な電気量(A・s/F)が少なくて済むという知見が得られたためである。
【0044】
以下、推測ではあるが、電極箔1に分断部4が形成されていない場合、巻回時に曲げ応力が集中するため、多数の微細なクラックが発生し、このクラックの内表面には未酸化の金属部分が露出してしまう場合があるが、分断部4を形成しておくと、各分断部4が曲げ応力を分担するため、曲げ応力の集中が起こりにくく、巻回時のクラック発生が抑制される。巻回時のクラック発生が抑制されると、クラックの内表面から未酸化の金属部分(アルミニウム)が露出し難い。即ち、分断部4を形成した後に化成処理をすれば、分断部4の内表面にも誘電体皮膜5を形成され、換言すれば分断部4の溝表面からも未酸化の金属部分は露出せず、エージング処理に必要な電気量が少なくなる。
【0045】
また、化成処理前に分断部4を形成しておくと、電極箔1の円滑な製造工程が実現する。そのため、好ましくは、拡面部3の形成の後、化成処理前に分断部4を形成しておく。この場合、分断部4の形成前に薄い酸化物を形成しておくことで、分断部4の形成は容易になる。
【0046】
尚、化成処理後に分断部4を形成しても、分断部4による巻回時の応力分散効果は得られ、巻回時に芯部をも破壊するクラックが生じにくく、滑らかに湾曲した良好な巻回が可能となる。また、分断部4の形成前に化成処理し、分断部4の形成後に再化成処理をすることで、分断部4の表面に誘電体皮膜5を形成することもできる。
【0047】
(巻回形コンデンサ)
図2は、この電極箔1を用いた巻回形コンデンサのコンデンサ素子6を示す模式図であり、アルミニウム電解コンデンサによる例示である。コンデンサ素子6において、陽極箔である電極箔1と陰極箔7とは、紙や合成繊維等のセパレータ8を介在させて重ね合わせられる。セパレータ8は、その一端が電極箔1及び陰極箔7の一端よりも飛び出すように重ね合わせておく。そして、飛び出したセパレータ8を先に巻き始めて巻芯部9を作成し、続けて其の巻芯部9を巻軸にして、電極箔1と陰極箔7とセパレータ8の層を巻回していく。
【0048】
このようにして作成されたコンデンサ素子6は、電解コンデンサを作成する場合、電解液に含浸され、有底筒状の外装ケースに収納され、陽極端子及び陰極端子を引き出して封口体で封止され、エージング処理されることで、巻回形コンデンサの態様を採る。また、このようにして作成されたコンデンサ素子6は、固体電解コンデンサを作成する場合、エージング処理された後、電解質が形成され、有底筒状の外装ケースに収納され、陽極端子及び陰極端子を引き出して封口体で封止されることで、巻回形コンデンサの態様を採る。
【0049】
尚、電極箔1に分断部4を形成すると、コンデンサ素子6の巻回時に生じる電極箔1の芯部2への応力が抑制される。その結果、分断部4が未形成の電極箔を巻回した場合と比べて、巻回形コンデンサの電極箔1の誘電体皮膜5を修復するためのエージング処理に必要な電気量(A・s/F)が少なくて済むとの知見が得られた。
【0050】
図3は、コンデンサ素子6に巻回させた電極箔1の状態を示す模式図である。本実施形態の電極箔1では、複数の分断部4が曲げ応力を分担して引き受け、各分断部4に曲げ応力が分散する。そのため、芯部2の破壊に至るような応力が電極箔1にかかることが抑止され、芯部2の破壊は免れ、電極箔1は折れ曲がることなく、滑らかに湾曲して巻回される。
【0051】
(実施例1)
この実施形態を示す電極箔1を次のように作成した。まず、基材として厚みが110μm、幅が10mm、長さが55mm、純度99.9重量%以上のアルミニウム箔を用いた。そして、このアルミニウム箔の両面に拡面部3を形成した。具体的には、アルミニウム箔を、液温25℃及び約8重量%の塩酸を主たる電解質とする酸性水溶液に浸し、エッチング処理を行った。エッチング処理では、交流10Hz及び電流密度0.14A/cmの電流を基材に約20分間印加し、アルミニウム箔の両面を拡面化した。
【0052】
エッチング処理後、両面がエッチング処理されたアルミニウム箔に分断部4を形成した。分断部4は、アルミニウム箔の帯長手方向と直交して発生させた。具体的には、物理的な処理方法として、φ0.5mmの丸棒に対し、当該丸棒とアルミニウム箔の接触する領域の広さを示すラップ角を180度として、アルミニウム箔を押し付けて分断部4を形成した。
【0053】
更に、分断部4の形成後、化成処理を行い、拡面部3と分断部4の表面に誘電体皮膜5を形成した。具体的には、液温85℃、15重量%のアジピン酸の化成溶液中で100Vの電圧を印加した。電圧印加は約20分であり、耐電圧が約100V相当の誘電体皮膜5が形成された。
【0054】
この結果、図4及び図5に示すように、実施例1の電極箔1は、誘電体皮膜5を有する拡面部3が芯部2の両面に各々厚さ36μmで存在し、厚さ38μmの芯部2が残った。分断部4の溝幅は10μmであった。丸棒の押し付けによって、分断部4は割れにより形成され、分断部4の平均ピッチは70μmで、分断部4の10mm範囲当たりの個数は143個であった。
【0055】
(実施例2)
実施例1と同一の基材を用い、実施例1と同一のエッチング処理及び化成処理を行った。分断部4の形成処理については、φ6mmの丸棒を用いた他は同一条件である。エッチング処理、分断部4の形成処理、及び化成処理の順番も実施例1と同じく、この順番で行った。
【0056】
この結果、実施例2の電極箔1は、実施例1と同一の芯部2、拡面部3及び誘電体皮膜5の厚さを備えていた。分断部4は割れにより形成され、分断部4の平均ピッチは220μmで、分断部4の10mm範囲当たりの個数は45個であった。
【0057】
(実施例3)
実施例1及び2と同一の基材を用い、実施例1と同一のエッチング処理及び化成処理を行った。分断部4の形成処理についてφ13mmの丸棒を用いた他は、実施例1及び2と同一条件である。この結果、実施例3の電極箔1は、分断部4において、割れにより形成されている他、分断部4の平均ピッチは950μmで、10mm範囲当たりの個数は10個であった。
【0058】
(実施例4)
実施例1乃至3と同一の基材を用い、実施例1乃至3と同一のエッチング処理及び化成処理を行った。分断部4の形成処理についてφ16mmの丸棒を用いた他は、実施例1乃至3と同一条件である。この結果、実施例3の電極箔1は、分断部4において、割れにより形成されている他、分断部4の平均ピッチは2100μmで、10mm範囲当たりの個数は4個であった。
【0059】
(参考例)
実施例1乃至4と同一のエッチング処理及び化成処理を行った。分断部4の形成処理についてφ22mmの丸棒を用いた他は、実施例1乃至4と同一条件である。この結果、参考例の電極箔1は、分断部4において、割れにより形成されている他、分断部4の平均ピッチ3100μmで、10mm範囲当たりの個数は3個であった。
【0060】
(比較例1)
実施例1乃至4及び参考例と同一の基材を用い、実施例1乃至4及び参考例と同一のエッチング処理及び化成処理を行った。但し、分断部4の形成処理を省いており、分断部4は未形成である。この結果、図6に示すように、実施例1乃至4及び参考例と同じく、比較例1の電極箔は、芯部2の両面に各々拡面部3を備え、各拡面部3は、誘電体皮膜5を備え、誘電体皮膜5を備えた拡面部3の厚さは各々厚さ36μmとなり、芯部2の厚さは38μmとなっていた。
【0061】
(エリクセン試験)
これら実施例1乃至4及び参考例の電極箔1、及び比較例1の電極箔に対してエリクセン試験を行った。エリクセン試験では、内径33mmを有するダイスとしわ押えで、実施例1乃至4及び参考例の電極箔1及び比較例1の電極箔を10kNで挟み込み、たがね状を有するポンチで押し込んだ。たがね状のポンチは、幅30mmで、先端部が断面視φ4mmの球面である。電極箔1の帯長手方向に直交させるようにして、ポンチのたがね部位を押し込んだ。ポンチの押し込み速度は0.5mm/minとした。
【0062】
このエリクセン試験の結果を図7に示す。図7は、横軸を分断部4の平均ピッチ、縦軸をエリクセン値としたグラフである。図7に示すように、比較例1のエリクセン値が1.4mmであったのに対し、参考例のエリクセン値は1.5mmとなっていた。すなわち、分断部4を設けることで巻回時の曲げ応力が分散し、電極箔1の柔軟性及び延伸性が向上することがわかる。
【0063】
また、分断部4の平均ピッチを2100μm以下とすると、エリクセン値は1.7mm以上となり、分断部4が未形成であった場合と比べて明確な差が生じた。すなわち、平均ピッチ2100μm以下で分断部4を設けることで巻回時の曲げ応力が良好に分散し、電極箔1に良好な柔軟性及び延伸性が付与されることがわかる。
【0064】
特に、分断部4の平均ピッチを950μm以下とすると、エリクセン値は2.0mm以上となり、分断部4が未形成であった場合と比べて飛躍的に優れた結果となった。すなわち、平均ピッチ950μm以下で分断部4を設けることで巻回時の曲げ応力が極めて良好に分散し、電極箔1に極めて良好な柔軟性及び延伸性が付与されることがわかる。さらには、分断部4の平均ピッチを220μm以下とすると、エリクセン値は2.6mm以上となり、分断部4が未形成であった場合と比べてさらに飛躍的に優れた結果となった。
【0065】
(巻回試験)
実施例1の電極箔1と比較例1の電極箔を実際に巻回し、コンデンサ素子6を作成した。巻回した実施例1の電極箔1と比較例1の電極箔は、共に、幅が5.6mm、長さが125mmの寸法を有していた。結果を図8に示す。図8は、巻回された実施例1の電極箔1と比較例1の電極箔の写真である。図8の(a)に示すように、比較例1の電極箔を巻回すると、巻芯部9付近については各所で多数の折れ曲がりが発生していることがわかる。また、巻芯部9から離れて曲率が大きくなった中層付近でも、各所で多数の折れ曲がりが発生していることがわかる。更に、コンデンサ素子6の外周面付近でも、一部に折れ曲がりが発生していることがわかる。
【0066】
一方、図8の(b)に示すように、実施例1の電極箔1を巻回すると、コンデンサ素子6の外周面付近はおろか、巻芯部9付近であっても、折れ曲がりが未発生であり、滑らかに湾曲して巻回されていることがわかる。
【0067】
従って、図8の(a)に示すように、同長の電極箔を巻回したコンデンサ素子6の直径は、比較例1において7.36mmにまで広がっているのに対し、図8の(b)に示すように、同長の電極箔1を巻回したコンデンサ素子6の半径は、実施例1において7.10mmに収まった。
【0068】
(エージング評価)
実施例1の電極箔1と比較例1の電極箔を陽極箔として用いて巻回し、コンデンサ素子6を作成した。実施例1の電極箔1と比較例1の電極箔は、共に、幅が5.6mm、長さが125mmの寸法を有していた。陰極箔7にはアルミニウム箔を用いた。陰極箔7には、拡面部3を形成し、誘電体皮膜5は形成しなかった。セパレータにはセルロース繊維を用いた。
【0069】
実施例1の電極箔1を用いたコンデンサ素子6と比較例1の電極箔を用いたコンデンサ素子には電解液を含浸し、有底筒状の外装ケースに収納し、陽極端子及び陰極端子を引き出して封口体で封止した。電解液は、フタル酸アミジニウム塩のγ―ブチロラクトン溶液を用いた。これにより、実施例1の電極箔1を用いた巻回形コンデンサと比較例1の電極箔を用いた巻回形コンデンサが作製された。
【0070】
作製された両巻回形コンデンサをエージング処理し、エージング処理に要した電気量を測定した。エージング処理では、100℃の温度条件にて定格電圧を印加してエージング処理を行った。このエージング処理の間、陽極端子と陰極端子との間に流れた電流変化を測定した。尚、両巻回形コンデンサに対してエージング処理開始時点で流した電流値は同値である。図9は、エージング処理開始時点の電流値を100%とし、エージング処理開始時点に対する各経過時間の電流値の百分率を示すグラフである。
【0071】
図9に示すように、実施例1の電極箔1を用いた巻回形コンデンサでは、2分に待たずに電流値が減少し始め、3分程度でエージング開始時点の約30%まで電流値が減少した。これに対し、比較例1の電極箔を用いた巻回形コンデンサでは、2分を超えて3分弱で電流値の減少が見られ、電流値がエージング開始時点の約30%まで減少するのに5分程度かかった。即ち、図9に示すように、実施例1は比較例1と比べて1分以上早く電流値が減少し始め、エージング開始から5分経過までの電流値と時間の積において、実施例1の電極箔1を用いた巻回形コンデンサは、比較例1の電極箔を用いた巻回形コンデンサと比べてエージング処理に要する電気量が削減されていることが確認された。
【符号の説明】
【0072】
1 電極箔
2 芯部
3 拡面部
4 分断部
5 誘電体皮膜
6 コンデンサ素子
7 陰極箔
8 セパレータ
9 巻芯部
図1
図2
図3
図4
図5
図6
図7
図8
図9
図10