(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
該アライメントマークの中心線から該第一側辺までの最短距離を第一距離とし、該アライメントマークの中心線から該第二側辺までの最短距離を第二距離とする場合、該第一距離と該第二距離との距離差が0mm〜0.5mmである請求項1又は2に記載のタッチパネル。
【発明を実施するための形態】
【0009】
次に本発明のタッチパネルおよびその製造方法を詳しく説明する。理解しておくべきであるが、以下の説明では複数の異なる実施例または例を提示して、本発明の様々な態様の実施に用いている。下記の特定の構成要素および配列方法は、本発明を簡単かつ明確に表したものに過ぎない。当然ながら、これらは単に例として挙げたものであり、本発明を限定するものではない。また、異なる実施例において、重複する符号やマークを使用することもある。こうした重複は、単に本発明を簡単かつ明確に説明するためのものであり、検討された異なる実施例および/または構造の間に、何らかの関連性があることを示すものではない。さらに、第一材料層が第二材料層上またはその上方に位置すると記載されるときには、第一材料層と第二材料層が直接接触する場合を含む。あるいは、1またはそれ以上の他の材料層が介在する場合もあり、この場合、第一材料層と第二材料層は直接接触しない可能性がある。
【0010】
本発明の実施例では、アライメントマークを可視エリアに配置することにより、単一の観測モジュールで第一基板のアライメントマークおよび第二基板の隅角を同時に観測して、第一基板と第二基板を位置合わせすることができる。これにより基板の位置合わせの精度を大きく向上させることができる。
【0011】
図1A〜
図1Bを先ず参照されたいが、
図1Aは、本発明の特定の実施例の記載に基づくタッチパネルの断面図を示し、
図1Bは、本発明の特定の実施例の記載に基づくタッチパネルの平面図を示している。
図1A〜
図1Bに示したように、本発明のタッチパネル100は、第一基板102と、第一基板102上に設けられる第二基板104とを含み、粘着層132が第一基板102と第二基板104の間に配置される。該第一基板102は、第一領域116Aと、第一領域116Aの周囲に設けられる第二領域116Bとを有する。この第一領域116A内に、少なくとも1つのアライメントマーク108を有する。第二基板104における第一基板102に対向する側に遮蔽層112を設けて、タッチパネル100の可視エリアと非可視エリアを画成し、かつ非可視エリアは第一基板102の第二領域116Bに対応させ、可視エリアは第一基板102の第一領域116Aに対応させる。
【0012】
従来の第一基板のアライメントマークが、第二基板の遮蔽層に対応させて設けられることに比べ、本発明のアライメントマーク108は、遮蔽層112に対応しないエリア(すなわち第一領域116A)に設けられ、後の記述からわかるように、従来のタッチパネルに比べ、本発明のタッチパネルは位置合わせの誤差を大きく減少させることができ、例えば、いくつかの実施例において、本発明の位置合わせ誤差は、例えば0.05mm以下など、0.1mm以下にすることができる。
【0013】
図2を参照されたいが、当該図面は、本発明の特定の実施例の記載に基づくタッチパネル100の製造方法の一ステップにおける第一基板102および第二基板104の平面図を示している。
図2に示すように、第一基板102および第二基板104を先ず提供する。一実施例において、第一基板102は感応基板であり、第二基板104はカバー板である。第一基板102は透明基板であってもよく、かつ第一基板102の第一領域116A上にアライメントマーク108が設けられ、また第二基板104は透明基板であってもよく、かつその表面の周囲に遮蔽層112が設けられ、かつこの遮蔽層112は少なくとも第一側辺と第二側辺を有して少なくとも1つの隅角114を構成する。
【0014】
詳細には、第一基板102は第二基板104よりも面積が小さく、すなわち後続の位置合わせ時または貼り合わせ後において、第二基板104が第一基板102を完全に覆うことができる。また、後続の第一基板102と第二基板104の位置合わせ時には、第一基板102における第二基板104の遮蔽層112に対応する部分が第二領域116Bであり、遮蔽層112に対応しない部分が第一領域116Aであり、この第二領域116Bは第一領域116Aの周囲に設けられ、また
図2に示したように、第一領域116Aと第二領域116Bの境界は、点線で示したとおりである。上記アライメントマーク108は第一領域116A内に設けられる。
【0015】
いくつかの実施例において、アライメントマーク108の長さ108Lは、例えば約0.1mm〜0.3mmなど、約0.03mm〜0.5mmとすることができ、幅108Wは、例えば約0.03mm〜0.06mmなど、約0.02 mm〜0.1mmとすることができる。このアライメントマーク108の長さ108Lが、例えば0.5mmを超えるなど長すぎると、タッチパネル100の面積に対する占有が大きすぎて、実際にタッチ可能な面積が減少する。しかし、このアライメントマーク108の長さ108Lが、例えば0.03mm未満など短すぎても、観測モジュールの位置合わせが難しくなり、位置合わせ精度が低下する。さらに、このアライメントマーク108の幅108Wが、例えば0.1mmを超えるなど広すぎると、タッチパネル100の面積に対する占有が大きすぎて、実際にタッチ可能な面積が減少する。しかし、このアライメントマーク108の幅108Wが、例えば0.02mm未満など狭すぎても、観測モジュールの位置合わせが難しくなり、位置合わせ精度が低下する。
【0016】
上記第一基板102および第二基板104の材料は、それぞれ独立して、ガラス、セラミック、プラスチック、サファイア、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、またはこれらの組み合わせから選択することができる。また上記遮蔽層112の材料は、黒色レジスト、黒色印刷インク、黒色樹脂または他の適合するいずれかの遮光材料および色であってもよい。
【0017】
なお、本発明を明確に説明するため、第一基板102上の他のモジュール(例えば後続の検知電極、絶縁層)は、
図1〜4には示されていない。上記第一基板102上の他のモジュールおよびアライメントマーク108は、後の説明および
図5〜
図6Bで詳しく説明する。
【0018】
次に、
図3A〜
図3Bを参照されたい。
図3Aは、本発明の特定の実施例の記載に基づくタッチパネル100の製造方法の一ステップにおける第一基板102および第二基板104の断面図を示しており、
図3Bは、本発明の特定の実施例の記載に基づくタッチパネル100の製造方法の一ステップにおける第一基板102および第二基板104の位置合わせ後の平面図を示している。
図3A〜
図3Bに示したように、第一基板102と第二基板104を対向配置させ、第一基板102と第二基板104を距離D3だけ離隔させる。一実施例において、この距離D3は、例えば約2mmから3mmなど、約1mmから5mmである。
【0019】
注意すべきであるが、この距離D3が、例えば5mmを超えるなど大きすぎると、第一基板102と第二基板104の離隔する距離D3が大きすぎて、後続の第一基板102と第二基板104を移動・接近させて貼り合わせる際の変位距離が長くなり、精度の低下につながる。
【0020】
次に、単一の観測モジュール118で第一基板102のアライメントマーク108および第二基板104の隅角114を同時に観測し、第一基板102と第二基板104を位置合わせする。詳細には、本発明では、アライメントマーク108が第一基板102の第一領域116Aに位置するように設計し、すなわちタッチパネル100の可視エリアに位置させることで、従来の方法のように、2つの観測モジュールにより第一基板102のアライメントマーク108および第二基板104の隅角114をそれぞれ観察・観測することなく、あるいは1つの観測ユニットで、2回に分けて観測してから位置合わせすることなく、単一の観測モジュール118のみにより第一基板102のアライメントマーク108および第二基板104の隅角114を同時に観測することができる。
【0021】
比べてみれば、本願は、単一の観測モジュール118で第一基板102のアライメントマーク108および第二基板104の隅角114を同時に観測して、第一基板102と第二基板104を位置合わせするため、位置合わせ誤差が生じる可能性を1回減らすことができ、したがって位置合わせの精度を向上させることができる。さらに本願は、先ず、第一基板102および第二基板104を極めて接近する距離(例えば約1mm〜5mm)まで移動させてから、位置合わせし貼り合わせるため、2つの基板時を移動させて貼り合わせる際の誤差をさらに減らすことができる。いくつかの実施例において、本発明の基板の貼り合わせ誤差は、例えば0.05mm以下など、0.1mm以下にすることができる。
【0022】
いくつかの実施例において、上記観測モジュール118は、電荷結合観測モジュール(Charge−coupled Device,CCD)を含むことができ、またそれはアライメントマーク108の辺縁または中央に合焦することで、位置合わせを行うことができる。
【0023】
続いて
図3Bを参照されたいが、注意すべきこととして、
図3Bにおいて、第一基板102およびそのアライメントマーク108は、第二基板104の下に設けられるため、それを点線で示している。また、いくつかの実施例において、第一基板102のアライメントマーク108と、第二基板104の遮蔽層112の隅角114は重なっていない。
【0024】
詳細には、いくつかの実施例において、
図3Bに示すように、アライメントマーク108の位置合わせ点は、隅角114に近接するいずれかの所定位置に設けることができる。例えば、いくつかの実施例において、隅角114およびこの隅角114に接続される2つの側辺を基に、正方形エリア120を作り、このアライメントマーク108をこの正方形エリア120におけるいずれかの所定位置に設ける。
【0025】
いくつかの実施例において、遮蔽層112は、アライメントマーク108に近接する第一側辺S1および第二側辺S2を含み、このうち第一側辺S1と第二側辺S2は互いに異なる両側に位置し、また第一側辺S1と第二側辺S2は互いに直交して隅角を構成する。アライメントマーク108の中心線から第一側辺S1までの最短距離を第一距離D1とし、アライメントマーク108の中心線から第二側辺S2までの最短距離を第二距離D2とした場合、第一距離D1と第二距離D2の距離差は、例えば約0.1mm〜0.4mmなど、約0mm〜0.5mmである。一実施例において、このアライメントマーク108が正方形エリア120の中央にあれば、第一距離D1と第二距離D2の距離差は0mmである。
【0026】
簡単に言えば、いくつかの実施例において、この正方形エリア120の辺長Lは、例えば約3mm〜4mmなど、約2mm〜5mmである。上記アライメントマーク108から、隅角114に接続される2つの側辺までの距離D1およびD2は、それぞれ独立に、例えば約1mm〜4mmまたは約2mm〜3mmなど、約0.1mm〜4.9mmとすることができる。またこの距離D1とD2の距離差は、例えば約0.1mm〜0.4mmなど、約0mm〜0.5mmとすることができる。
【0027】
注意すべきであるが、上記アライメントマーク108の位置合わせ点は、製品ごとの設計に応じて異なる位置に設けることができ、観測モジュール118により観測し位置合わせができればそれでよい。したがって本発明の範囲は、
図3Bの実施例に限定されるものではない。
【0028】
次に、
図1A〜
図1Bを参照されたい。
図1A〜
図1Bに示したように、第一基板102と第二基板104を位置合わせした後、第一基板102と第二基板104を貼り合わせて、タッチパネル100を完成させる。
【0029】
次に、
図4を参照されたいが、当該図面は、本発明の別の実施例における様々なアライメントマークを示した図であり
図4に示したように、アライメントマーク108A、108B、108C、108Dは、円形、正方形、長方形、円形または他の適合するいずれかの形状であってもよい。
【0030】
図5〜
図6Aを参照されたいが、
図5は、本発明の実施例における第一基板102の平面図であり、
図6Aは、
図5の線分6A−6A’に沿って描いた断面図である。第一基板102は、その上方に設けられる感応層122を含む。一実施例において、感応層122は、第一領域116A上に設けられ、第二領域116Bは感応層122を取り囲む。この感応層122は、第一軸方向X1に沿って配列される複数の第一軸方向誘導電極122Aと、第二軸方向X2に沿って配列される複数の第二軸方向誘導電極122Bとを備え、この複数の第一軸方向誘導電極122Aと、複数の第二軸方向誘導電極122Bとが互いに電気的に絶縁であり、かつこの第一軸方向X1は第二軸方向X2に対して直角である。
【0031】
感応層122はさらに、隣接する第一軸方向誘導電極122Aを接続する複数本の接続線124を備え、かつ各第二軸方向誘導電極122Bが、接続線124の両側に設けられる。第一基板102はさらに、感応層122上に設けられるブリッジ接続構造126を備え、このブリッジ接続構造126は、第二軸方向X2において隣接する2つの第二軸方向誘導電極122B(例えば122B1と122B2)を電気的に接続する。
【0032】
感応層122はさらに、複数のダミー電極(dummy electrode)128に設けられ、第一領域における第一軸方向誘導電極122Aと複数の第二軸方向誘導電極122B以外を設けたエリアを備える。
図5に示すように、いくつかの実施例において、アライメントマーク108は、第一基板102上のダミー電極128に対応するエリアに設けられ、ダミー電極128の上方に設置してもよく、あるいはダミー電極128のエリアであるがダミー電極128には接続せずに設けてもよい。さらに、このダミー電極128は、第一軸方向誘導電極122Aおよび第二軸方向誘導電極122Bと電気的に接続されていない。
【0033】
上記第一軸方向誘導電極122A、第二軸方向誘導電極122B、接続線124、ブリッジ接続構造126、およびダミー電極128の材料は、例えばインジウム錫酸化物(ITO) 酸化錫(TO)、酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、酸化インジウムガリウム亜鉛(IGZO)、酸化インジウム錫亜鉛(ITZO)、酸化アンチモン錫(ATO)、酸化アンチモン亜鉛(AZO)、これらの組み合わせ、または他の適合する透明導電材料などの、透明導電材料であってもよい。第一軸方向誘導電極122A、第二軸方向誘導電極122B、接続線124、ブリッジ接続構造126、およびダミー電極128は、堆積プロセスおよびリソグラフィとエッチングなどのプロセスにより形成することができる。堆積プロセスは、スパッタリング法、電気めっき法、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、または他の適合するいずれかの堆積方法であってもよい。このエッチングプロセスには、乾式エッチング、湿式エッチング、またはこれらの組み合わせが含まれる。別の実施例において、ブリッジ接続構造126は、金属材料を含んでいてもよい。
【0034】
図6Aは、本発明の別の実施例における第一基板102の断面図である。
図6Aに示したように、アライメントマーク108はダミー電極128内の貫通孔であり、それは完全にダミー電極128を貫通する。
【0035】
詳細には、一実施例において、先ず、第一基板102上に透明導電材料層を全体的に堆積させ、次に、この透明導電材料層をリソグラフィおよびエッチングプロセスによりそれぞれパターン化して、第一軸方向誘導電極122A、第二軸方向誘導電極122B、接続線124、およびアライメントマーク108である貫通孔を有するダミー電極128を形成する。
【0036】
いくつかの実施例において、
図6Bに示したように、第一基板102はさらに感応層122上に設けられる絶縁層130を備え、この絶縁層130は、感応層122とブリッジ接続構造126との間に設けられる絶縁部130A、および感応層122のダミー電極128上に設けられるアライメントマーク108を備える。簡単に言えば、この実施例において、アライメントマーク108は絶縁材料からなる有形パターンである。
【0037】
詳細には、絶縁層130の材料(すなわち絶縁部130A、および感応層122に設けられる材料)には、ポリイミド(Polyimide)、ポリプロピレン(Polypropylene)、アクリル樹脂(Acrylic)、酸化ケイ素(Silicon Dioxide,SiO2)、窒化ケイ素(Silicon Nitride,Si3N4)、酸化アルミニウム(Aluminum Oxide,Al2O3)、またはヘキサメチルジシラザン(Hexamethyldisilazane,HMDS)、またはこれらの組み合わせ、または他の適合するいずれかの絶縁材料を含んでいてもよい。
【0038】
さらに、一実施例において、先ず、絶縁材料層を第一基板102上に全体的に堆積させ、次に、この誘電材料層をリソグラフィおよびエッチングプロセスによりそれぞれパターン化して絶縁部130Aおよびアライメントマーク108(すなわち絶縁層130)を形成してもよい。したがって、この実施例において、絶縁部130Aの高さはアライメントマーク108の高さと同じである。
【0039】
別の実施例において、
図6Cを参照されたいが、当該実施例におけるアライメントマークは、ダミー電極128エリア内の絶縁ブロック130Bであり、具体的には、ダミー電極128に貫通孔を設け、絶縁ブロック130Bを配置してこの貫通孔に嵌入し、ここで該絶縁ブロックはダミー電極には接続されない。
【0040】
注意すべきであるが、いくつかの実施例において、アライメントマーク108は透明材料で形成される構造であるが、このアライメントマーク108は観測モジュール118で特定の波長の光により観測してもよい。注意しておくが、本発明の範囲は上記の実施例に限定されるものではない。
【0041】
図7A〜
図7Bは、本発明の別の実施例における第一基板102の断面図である。
図7Aは、本発明の別の実施例における第一基板102の平面図である。
図7Bは、
図7Aの線分7B−7B’に沿って描いた断面図である。本実施例の構造は、
図5、
図6Aの実施例の構造と略同じであり、相違点は、本実施例のアライメントマーク108は、ダミー電極128内の透かし網状構造134であることである。ここで網状の部分は、感応層122と同一の透明導電材料であってもよい。
【0042】
詳細には、一実施例において、アライメントマーク108は、絶縁部130Aと同一の絶縁材料であってもよく、また絶縁部130Aとともに同一のプロセスにて形成されてもよい。しかし、別の実施例においては、アライメントマーク108は感応層122と同一の透明導電材料であってもよく、かつ感応層122とともに同一のプロセスにて形成されてもよい。この技術分野において一般的な知識を有する者であれば、アライメントマーク108はまたブリッジ接続構造126と同一の導電材料または金属材料であってもよく、さらにブリッジ接続構造126とともに同一のプロセスにて形成されてもよいことを理解することができる。
【0043】
上述のとおり、本構造では、アライメントマーク108を第一基板102の第一領域116Aに位置するように設計し、すなわちタッチパネル100の可視エリアに位置させることにより、単一の観測モジュールで第一基板のアライメントマークおよび第二基板の隅角を同時に観測して、第一基板と第二基板を位置合わせできるため、位置合わせ誤差が発生する可能性を一回減少させることができ、したがって位置合わせの精度を向上することができる。また、本願では先ず、第一基板と第二基板を極めて近い距離(例えば約1mm〜5mm)に移動させてから、位置合わせし貼り合わせており、従来の方法のように、先ず位置合わせしてから離隔した2つの基板を移動させて貼り合わせるものではないため、本発明の実施例では2つの基板時を移動させて貼り合わせる際の誤差を減らすことができる。いくつかの実施例において、本発明は基板の貼り合わせ誤差を、例えば0.05mm以下など、0.1mm以下にすることができる。
【0044】
注意すべきであるが、上記のモジュールのサイズ、モジュールのパラメータ、およびモジュールの形状は、いずれも本発明の限定条件ではない。この技術分野で一般的な知識を有する者であれば、様々なニーズに応じて、これらの設定値を調整することができる。また、本発明のタッチパネルおよびその製造方法は、
図1〜
図7Bに図示された状態のみに限定されるものではない。本発明は、単に
図1〜
図7Bのいずれか1つもしくは複数の実施例のいずれか1つまたは複数の特徴を含むものであってもよい。換言すれば、図示されたすべての特徴が、いずれも本発明のタッチパネルおよびその製造方法において同時に実施される必要はない。
【0045】
(付記)
該アライメントマークは長さが0.03mm〜0.5mmであり、幅が0.02mm〜0.1mmである、タッチパネル。