特許 6348691 平板表示装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6348691

(24)【登録日】2018年6月8日

(45)【発行日】2018年6月27日

(54)【発明の名称】平板表示装置

(51)【国際特許分類】

   H05B 33/12 20060101AFI20180618BHJP

   G09F 9/30 20060101ALI20180618BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20180618BHJP

   H05B 33/22 20060101ALI20180618BHJP

   H05B 33/10 20060101ALI20180618BHJP

   H01L 27/32 20060101ALI20180618BHJP

【ＦＩ】

   H05B33/12 B

   G09F9/30 348A

   G09F9/30 365

   H05B33/14 A

   H05B33/22 Z

   H05B33/10

   H01L27/32

【請求項の数】16

【全頁数】30

(21)【出願番号】特願2013-147689(P2013-147689)

(22)【出願日】2013年7月16日

(65)【公開番号】特開2014-22374(P2014-22374A)

(43)【公開日】2014年2月3日

【審査請求日】2016年7月13日

(31)【優先権主張番号】10-2012-0077362

(32)【優先日】2012年7月16日

(33)【優先権主張国】KR

(73)【特許権者】

【識別番号】512187343

【氏名又は名称】三星ディスプレイ株式會社

【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．

(74)【代理人】

【識別番号】110000051

【氏名又は名称】特許業務法人共生国際特許事務所

(74)【代理人】

【識別番号】100146835

【弁理士】

【氏名又は名称】佐伯 義文

(74)【代理人】

【識別番号】100089037

【弁理士】

【氏名又は名称】渡邊 隆

(72)【発明者】

【氏名】羅 相男

【審査官】 中村 博之

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００３−２８８９８３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２０１２／０１７６０２５（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 特開２００６−３０９１１８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００１−２９０４４１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２００８／０２５８６０８（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 特開２０１０−０５６０１７（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０５Ｂ ３３／１２

Ｈ０１Ｌ ５１／５０

Ｈ０５Ｂ ３３／１０

Ｈ０５Ｂ ３３／２２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板と、
前記基板上に形成され、複数の第１開口、複数の第２開口、及び複数の第３開口を備える絶縁膜と、
第１方向に配列された第１開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、第１有機発光膜を備える複数の第１ラインと、
前記第１方向に配列された第２開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜と異なる第２有機発光膜を備える複数の第２ラインと、
前記第１方向に配列された第３開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１及び第２有機発光膜と異なる第３有機発光膜を備える複数の第３ラインと、
複数のピクセルと、を備え、
互いに隣接して位置する前記第１ラインと第２ラインとは、前記絶縁膜上で一部が互いに重畳しており、前記第１ライン〜第３ラインは、隣接した他のラインの開口で重畳しておらず、
前記複数のピクセルの中の第１ピクセルは、第１サブピクセル、第２サブピクセル、及び第３サブピクセルを含み、
前記複数の第１開口の中の一つの第１開口、前記複数の第２開口の中の一つの第２開口、前記複数の第３開口の中の一つの第３開口は、それぞれ前記第１サブピクセル、前記第２サブピクセル、及び前記第３サブピクセルに対応するように位置し、
前記複数のピクセルの中の第２ピクセルは、第４サブピクセル、第５サブピクセル、及び第６サブピクセルを含み、
前記複数の第１ラインの中の一つの第１ラインは第１サブピクセル及び第４サブピクセルに亘って延長され、前記複数の第２ラインの中の一つの第２ラインは第２サブピクセル及び第５サブピクセルに亘って延長され、前記複数の第３ラインの中の一つの第３ラインは第３サブピクセル及び第６サブピクセルに亘って延長され、
前記複数の第１ラインの各々は、前記第１有機発光膜の連続したライン形状から成り、前記複数の第２ラインの各々は、前記第２有機発光膜の連続したライン形状から成り、前記複数の第３ラインの各々は、前記第３有機発光膜の連続したライン形状から成ることを特徴とする平板表示装置。

【請求項2】

互いに隣接して位置する前記第２ラインと第３ラインは、前記絶縁膜上で一部が互いに重畳していることを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置。

【請求項3】

前記第１開口とこれに隣接した第２開口との間隔、又は前記第１開口とこれに隣接した第３開口との間隔は、前記第２開口とこれに隣接した第３開口との間隔と異なることを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置。

【請求項4】

前記第１開口とこれに隣接した第２開口との間隔、又は前記第１開口とこれに隣接した第３開口との間隔は、前記第２開口とこれに隣接した第３開口との間隔より大きいことを特徴とする請求項３に記載の平板表示装置。

【請求項5】

前記第１開口〜第３開口のうち、少なくとも二つの開口の大きさが異なることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の平板表示装置。

【請求項6】

前記第３開口は、前記第１開口又は前記第２開口より大きいことを特徴とする請求項５に記載の平板表示装置。

【請求項7】

前記絶縁膜は、第４開口を更に備え、
前記第１方向に配列された第４開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜〜第３有機発光膜と異なる第４有機発光膜を備える複数の第４ラインを更に備えることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の平板表示装置。

【請求項8】

基板と、
前記基板上に形成され、複数の第１開口、複数の第２開口、及び複数の第３開口を備える絶縁膜と、
第１方向に配列された第１開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、第１有機発光膜を備える複数の第１ラインと、
前記第１方向に配列された第２開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜と異なる第２有機発光膜を備える複数の第２ラインと、
前記第１方向に配列された第３開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１及び第２有機発光膜と異なる第３有機発光膜を備える複数の第３ラインと、
複数のピクセルと、を備え、
前記第１ライン〜第３ラインは、隣接した他のラインの開口で重畳しておらず、
前記第１開口とこれに隣接した第２開口との間隔、又は前記第１開口とこれに隣接した第３開口との間隔は、前記第２開口とこれに隣接した第３開口との間隔と異なり、
前記複数のピクセルの中の第１ピクセルは、第１サブピクセル、第２サブピクセル、及び第３サブピクセルを含み、
前記複数の第１開口の中の一つの第１開口、前記複数の第２開口の中の一つの第２開口、前記複数の第３開口の中の一つの第３開口は、それぞれ前記第１サブピクセル、前記第２サブピクセル、及び前記第３サブピクセルに対応するように位置し、
前記複数のピクセルの中の第２ピクセルは、第４サブピクセル、第５サブピクセル、及び第６サブピクセルを含み、
前記複数の第１ラインの中の一つの第１ラインは第１サブピクセル及び第４サブピクセルに亘って延長され、前記複数の第２ラインの中の一つの第２ラインは第２サブピクセル及び第５サブピクセルに亘って延長され、前記複数の第３ラインの中の一つの第３ラインは第３サブピクセル及び第６サブピクセルに亘って延長され、
前記複数の第１ラインの各々は、前記第１有機発光膜の連続したライン形状から成り、前記複数の第２ラインの各々は、前記第２有機発光膜の連続したライン形状から成り、前記複数の第３ラインの各々は、前記第３有機発光膜の連続したライン形状から成ることを特徴とする平板表示装置。

【請求項9】

前記第１開口とこれに隣接した第２開口との間隔、又は前記第１開口とこれに隣接した第３開口との間隔は、前記第２開口とこれに隣接した第３開口との間隔より大きいことを特徴とする請求項８に記載の平板表示装置。

【請求項10】

前記第１開口〜第３開口のうち、少なくとも二つの開口の大きさが異なることを特徴とする請求項８又は９に記載の平板表示装置。

【請求項11】

前記第３開口は、前記第１開口又は前記第２開口より大きいことを特徴とする請求項１０に記載の平板表示装置。

【請求項12】

前記絶縁膜は、第４開口を更に備え、
前記第１方向に配列された第４開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜〜第３有機発光膜と異なる第４有機発光膜を備える複数の第４ラインを更に備えることを特徴とする請求項８又は９に記載の平板表示装置。

【請求項13】

基板と、
前記基板上に形成され、複数の第１開口、複数の第２開口、及び複数の第３開口を備える絶縁膜と、
第１方向に配列された第１開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、第１有機発光膜を備える複数の第１ラインと、
前記第１方向に配列された第２開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜と異なる第２有機発光膜を備える複数の第２ラインと、
前記第１方向に配列された第３開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１及び第２有機発光膜と異なる第３有機発光膜を備える複数の第３ラインと、
複数のピクセルと、を備え、
前記第１ライン〜第３ラインは、隣接した他のラインの開口で重畳しておらず、
前記第１開口とこれに隣接した第２開口との間隔、前記第１開口とこれに隣接した第３開口との間隔、及び前記第２開口とこれに隣接した第３開口との間隔は、前記第１方向に直角な第２方向に配列された第１開口、第２開口、及び第３開口の幅より大きく、
前記複数のピクセルの中の第１ピクセルは、第１サブピクセル、第２サブピクセル、及び第３サブピクセルを含み、
前記複数の第１開口の中の一つの第１開口、前記複数の第２開口の中の一つの第２開口、前記複数の第３開口の中の一つの第３開口は、それぞれ前記第１サブピクセル、前記第２サブピクセル、及び前記第３サブピクセルに対応するように位置し、
前記複数のピクセルの中の第２ピクセルは、第４サブピクセル、第５サブピクセル、及び第６サブピクセルを含み、
前記複数の第１ラインの中の一つの第１ラインは第１サブピクセル及び第４サブピクセルに亘って延長され、前記複数の第２ラインの中の一つの第２ラインは第２サブピクセル及び第５サブピクセルに亘って延長され、前記複数の第３ラインの中の一つの第３ラインは第３サブピクセル及び第６サブピクセルに亘って延長され、
前記複数の第１ラインの各々は、前記第１有機発光膜の連続したライン形状から成り、前記複数の第２ラインの各々は、前記第２有機発光膜の連続したライン形状から成り、前記複数の第３ラインの各々は、前記第３有機発光膜の連続したライン形状から成ることを特徴とする平板表示装置。

【請求項14】

前記第１開口〜第３開口のうち、少なくとも二つの開口の大きさが異なることを特徴とする請求項１３に記載の平板表示装置。

【請求項15】

前記第３開口は、前記第１開口又は前記第２開口より大きいことを特徴とする請求項１４に記載の平板表示装置。

【請求項16】

前記絶縁膜は、第４開口を更に備え、
前記第１方向に配列された第４開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜〜第３有機発光膜と異なる第４有機発光膜を備える複数の第４ラインを更に備えることを特徴とする請求項１３乃至１５のいずれか一項に記載の平板表示装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、平板表示装置に関する。

【背景技術】

【0002】

平板表示装置、例えば、有機発光ディスプレイ装置において、特に有機発光膜は、蒸着工程を利用して形成する。

【0003】

しかし、この蒸着工程では、蒸着用マスクによる陰影によって、異なる色相のサブピクセル同士の混色が発生する恐れがある。

【0004】

サブピクセル同士の混色が発生する場合、発光効率が低下し、色座標が悪くなるという問題がある。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

本発明の目的は、サブピクセルの混色の発生を減らすことができる平板表示装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0006】

本発明の一実施形態による平板表示装置は、基板と、前記基板上に形成され、第１開口、第２開口及び第３開口を備える絶縁膜と、第１方向に配列された第１開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、第１有機発光膜を備える複数の第１ラインと、前記第１方向に配列された第２開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜と異なる第２有機発光膜を備える複数の第２ラインと、前記第１方向に配列された第３開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１及び第２有機発光膜と異なる第３有機発光膜を備える複数の第３ラインと、を備え、互いに隣接して位置する前記第１ラインと第２ラインは、前記絶縁膜上で一部が互いに重畳しており、前記第１ラインないし第３ラインは、隣接した他のラインの開口において重畳していない。

【0007】

互いに隣接して位置する前記第２ラインと第３ラインは、前記絶縁膜上で一部が互に重畳してもよい。

【0008】

前記第１開口と、これに隣接した第２開口との間隔、または前記第１開口と、これに隣接した第３開口との間隔は、前記第２開口と、これに隣接した第３開口との間隔と異なってもよい。

【0009】

前記第１開口と、これに隣接した第２開口との間隔、または前記第１開口と、これに隣接した第３開口との間隔は、前記第２開口と、これに隣接した第３開口との間隔より大きくてもよい。

【0010】

前記第１開口ないし第３開口のうち、少なくとも二つの開口の大きさが相異なってもよい。

【0011】

前記第３開口は、前記第１開口または前記第２開口より大きくてもよい。

【0012】

前記絶縁膜は、第４開口をさらに備え、前記第１方向に配列された第４開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜ないし第３有機発光膜と異なる第４有機発光膜を備える複数の第４ラインをさらに備えてもよい。

【0013】

本発明の他の実施形態による平板表示装置は、基板と、前記基板上に形成され、第１開口、第２開口及び第３開口を備える絶縁膜と、第１方向に配列された第１開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、第１有機発光膜を備える複数の第１ラインと、前記第１方向に配列された第２開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜と異なる第２有機発光膜を備える複数の第２ラインと、前記第１方向に配列された第３開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１及び第２有機発光膜と異なる第３有機発光膜を備える複数の第３ラインと、を備え、前記第１ラインないし第３ラインは、隣接した他のラインの開口において重畳しておらず、前記第１開口と、これに隣接した第２開口との間隔、または前記第１開口と、これに隣接した第３開口との間隔は、前記第２開口と、これに隣接した第３開口との間隔と異なる。

【0014】

前記第１開口と、これに隣接した第２開口との間隔、または前記第１開口と、これに隣接した第３開口との間隔は、前記第２開口と、これに隣接した第３開口との間隔より大きくてもよい。

【0015】

前記第１開口ないし第３開口のうち、少なくとも二つの開口の大きさが相異なってもよい。

【0016】

前記第３開口は、前記第１開口または前記第２開口より大きくてもよい。

【0017】

前記絶縁膜は、第４開口をさらに備え、前記第１方向に配列された第４開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜ないし第３有機発光膜と異なる第４有機発光膜を備える複数の第４ラインをさらに備えてもよい。

【0018】

本発明のさらに他の実施形態による平板表示装置は、基板と、前記基板上に形成され、第１開口、第２開口及び第３開口を備える絶縁膜と、第１方向に配列された第１開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、第１有機発光膜を備える複数の第１ラインと、前記第１方向に配列された第２開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜と異なる第２有機発光膜を備える複数の第２ラインと、前記第１方向に配列された第３開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１及び第２有機発光膜と異なる第３有機発光膜を備える複数の第３ラインと、を備え、前記第１ラインないし第３ラインは、隣接した他のラインの開口において重畳しておらず、前記第１開口と、これに隣接した第２開口との間隔、前記第１開口と、これに隣接した第３開口との間隔、及び前記第２開口と、これに隣接した第３開口との間隔は、前記第１方向に直角な第２方向に配列された第１開口、第２開口及び第３開口の幅より大きい。

【0019】

前記第１開口ないし第３開口のうち、少なくとも二つの開口の大きさが相異なってもよい。

【0020】

前記第３開口は、前記第１開口または前記第２開口より大きくてもよい。

【0021】

前記絶縁膜は、第４開口をさらに備え、前記第１方向に配列された第４開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜ないし第３有機発光膜と異なる第４有機発光膜を備える複数の第４ラインをさらに備えてもよい。

【0022】

本発明の一実施形態による平板表示装置の製造方法は、第１開口、第２開口及び第３開口を備える絶縁膜が形成された基板を用意するステップと、第１蒸着アセンブリと前記基板とが離隔された状態で、前記基板が、前記第１蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記第１蒸着アセンブリから発散された第１有機発光物質が、前記基板に蒸着されて、第１方向に配列された第１開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、第１有機発光膜を備える複数の第１ラインを形成するステップと、第２蒸着アセンブリと前記基板とが離隔された状態で、前記基板が、前記第２蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記第２蒸着アセンブリから発散された第２有機発光物質が、前記基板に蒸着されて、前記第１方向に配列された第２開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜と異なる第２有機発光膜を備える複数の第２ラインを形成するステップと、第３蒸着アセンブリと前記基板とが離隔された状態で、前記基板が、前記第３蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記第３蒸着アセンブリから発散された第３有機発光物質が、前記基板に蒸着されて、前記第１方向に配列された第３開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１及び第２有機発光膜と異なる第３有機発光膜を備える複数の第３ラインを形成するステップと、を含み、互いに隣接して位置する前記第１ラインと第２ラインは、前記絶縁膜上で一部が互いに重畳しているが、前記第１ラインないし第３ラインは、隣接した他のラインの開口において重畳していない。

【0023】

互いに隣接して位置する前記第２ラインと第３ラインは、前記絶縁膜上で一部が互いに重畳していてもよい。

【0024】

前記第１開口と、これに隣接した第２開口との間隔、または前記第１開口と、これに隣接した第３開口との間隔は、前記第２開口と、これに隣接した第３開口との間隔と異なってもよい。

【0025】

前記第１開口と、これに隣接した第２開口との間隔、または前記第１開口と、これに隣接した第３開口との間隔は、前記第２開口と、これに隣接した第３開口との間隔より大きくてもよい。

【0026】

前記第１ラインを形成するステップは、前記第２ラインを形成するステップ、または前記第３ラインを形成するステップより先に行われてもよい。

【0027】

前記第１開口ないし第３開口のうち、少なくとも二つの開口の大きさが相異なってもよい。

【0028】

前記第３開口は、前記第１開口または前記第２開口より大きくてもよい。

【0029】

前記第１ラインを形成するステップないし第３ラインを形成するステップは、前記第１方向に移送される基板に対して連続的に行われてもよい。

【0030】

前記絶縁膜は、第４開口をさらに備え、第４蒸着アセンブリと前記基板とが離隔された状態で、前記基板が、前記第４蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記第４蒸着アセンブリから発散された第４有機発光物質が、前記基板に蒸着されて、前記第１方向に配列された第４開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜ないし第３有機発光膜と異なる第４有機発光膜を備える複数の第４ラインを形成するステップをさらに含んでもよい。

【0031】

前記第１ラインを形成するステップないし第４ラインを形成するステップは、前記第１方向に移送される基板に対して連続的に行われてもよい。

【0032】

本発明の他の実施形態による平板表示装置の製造方法は、第１開口、第２開口及び第３開口を備える絶縁膜が形成された基板を用意するステップと、第１蒸着アセンブリと前記基板とが離隔された状態で、前記基板が、前記第１蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記第１蒸着アセンブリから発散された第１有機発光物質が、前記基板に蒸着されて、第１方向に配列された第１開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、第１有機発光膜を備える複数の第１ラインを形成するステップと、第２蒸着アセンブリと前記基板とが離隔された状態で、前記基板が、前記第２蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記第２蒸着アセンブリから発散された第２有機発光物質が、前記基板に蒸着されて、前記第１方向に配列された第２開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜と異なる第２有機発光膜を備える複数の第２ラインを形成するステップと、第３蒸着アセンブリと前記基板とが離隔された状態で、前記基板が、前記第３蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記第３蒸着アセンブリから発散された第３有機発光物質が、前記基板に蒸着されて、前記第１方向に配列された第３開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１及び第２有機発光膜と異なる第３有機発光膜を備える複数の第３ラインを形成するステップと、を含み、前記第１ラインないし第３ラインは、隣接した他のラインの開口において重畳しておらず、前記第１開口と、これに隣接した第２開口との間隔、または前記第１開口と、これに隣接した第３開口との間隔は、前記第２開口と、これに隣接した第３開口との間隔と異なる。

【0033】

前記第１開口と、これに隣接した第２開口との間隔、または前記第１開口と、これに隣接した第３開口との間隔は、前記第２開口と、これに隣接した第３開口との間隔より大きくてもよい。

【0034】

前記第１ラインを形成するステップは、前記第２ラインを形成するステップ、または前記第３ラインを形成するステップより先に行われてもよい。

【0035】

前記第１開口ないし第３開口のうち、少なくとも二つの開口の大きさが相異なってもよい。

【0036】

前記第３開口は、前記第１開口または前記第２開口より大きくてもよい。

【0037】

前記第１ラインを形成するステップないし第３ラインを形成するステップは、前記第１方向に移送される基板に対して連続的に行われてもよい。

【0038】

前記絶縁膜は、第４開口をさらに備え、第４蒸着アセンブリと前記基板とが離隔された状態で、前記基板が、前記第４蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記第４蒸着アセンブリから発散された第４有機発光物質が、前記基板に蒸着されて、前記第１方向に配列された第４開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜ないし第３有機発光膜と異なる第４有機発光膜を備える複数の第４ラインを形成するステップをさらに含んでもよい。

【0039】

前記第１ラインを形成するステップないし第４ラインを形成するステップは、前記第１方向に移送される基板に対して連続的に行われてもよい。

【0040】

本発明のさらに他の実施形態による平板表示装置の製造方法は、第１開口、第２開口及び第３開口を備える絶縁膜が形成された基板を用意するステップと、第１蒸着アセンブリと前記基板とが離隔された状態で、前記基板が、前記第１蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記第１蒸着アセンブリから発散された第１有機発光物質が、前記基板に蒸着されて、第１方向に配列された第１開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、第１有機発光膜を備える複数の第１ラインを形成するステップと、第２蒸着アセンブリと前記基板とが離隔された状態で、前記基板が、前記第２蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記第２蒸着アセンブリから発散された第２有機発光物質が、前記基板に蒸着されて、前記第１方向に配列された第２開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜と異なる第２有機発光膜を備える複数の第２ラインを形成するステップと、第３蒸着アセンブリと前記基板とが離隔された状態で、前記基板が、前記第３蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記第３蒸着アセンブリから発散された第３有機発光物質が、前記基板に蒸着されて、前記第１方向に配列された第３開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１及び第２有機発光膜と異なる第３有機発光膜を備える複数の第３ラインを形成するステップと、を含み、前記第１ラインないし第３ラインは、隣接した他のラインの開口において重畳しておらず、前記第１開口と、これに隣接した第２開口との間隔、前記第１開口と、これに隣接した第３開口との間隔、及び前記第２開口と、これに隣接した第３開口との間隔は、前記第１方向に直角な第２方向に配列された第１開口、第２開口及び第３開口の幅より大きい。

【0041】

前記第１開口ないし第３開口のうち、少なくとも二つの開口の大きさが相異なってもよい。

【0042】

前記第３開口は、前記第１開口または前記第２開口より大きくてもよい。

【0043】

前記第１ラインを形成するステップないし第３ラインを形成するステップは、前記第１方向に移送される基板に対して連続的に行われてもよい。

【0044】

前記絶縁膜は、第４開口をさらに備え、第４蒸着アセンブリと前記基板とが離隔された状態で、前記基板が、前記第４蒸着アセンブリに対して相対的に移動しつつ、前記第４蒸着アセンブリから発散された第４有機発光物質が、前記基板に蒸着されて、前記第１方向に配列された第４開口を覆うように、前記絶縁膜上に形成され、前記第１有機発光膜ないし第３有機発光膜と異なる第４有機発光膜を備える複数の第４ラインを形成するステップをさらに含んでもよい。

【0045】

前記第１ラインを形成するステップないし第４ラインを形成するステップは、前記第１方向に移送される基板に対して連続的に行われてもよい。

【発明の効果】

【0046】

本発明によれば、異なる色相のサブピクセル同士の混色の発生を減らすことができるので、発光効率及び/または色座標の低下を防止することができる。

【0047】

また、連続的な蒸着工程を通じて、有機発光膜のパターニングを行うことができるので、作業速度が非常に向上するだけでなく、蒸着の品質も良好に維持することができる。

【図面の簡単な説明】

【0048】

【図1】有機膜蒸着装置の一例を概略的に示すシステム駆動の平面図である。

【図2】図１の有機膜蒸着装置の蒸着部を概略的に示すシステム構成の側面図である。

【図3】図１の蒸着部の一例を概略的に示す斜視図である。

【図4】図３の蒸着部の概略的な断面図である。

【図5】有機膜蒸着アセンブリの他の例を示す図面である。

【図6】図５の有機膜蒸着アセンブリの概略的な側断面図である。

【図7】図５の有機膜蒸着アセンブリの概略的な平断面図である。

【図8】有機膜蒸着アセンブリのさらに他の例を示す図面である。

【図9】有機膜蒸着アセンブリのさらに他の例を示す図面である。

【図10】パターニングスリットシートに、パターニングスリットが等間隔に形成されている様子を示す図面である。

【図11】図１０のパターニングスリットシートを利用して、基板上に形成された有機膜を示す図面である

【図12】本発明の一実施形態による平板表示装置の部分平面図である。

【図13】図１２のＩ−Ｉ線の断面図である。

【図14】本発明の他の実施形態による平板表示装置の部分平面図である。

【図15】本発明のさらに他の実施形態による平板表示装置の部分平面図である。

【図16】本発明のさらに他の実施形態による平板表示装置の部分平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0049】

以下、添付した図面を参照して、本発明の実施形態について、当業者にとって容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は、色々な異なる形態で具現され、ここで説明する実施形態に限定されない。

【0050】

図１は、本発明の一実施形態に係る平板表示装置を製造することが可能な有機膜蒸着装置を概略的に示すシステム構成の平面図であり、図２は、図１の有機膜蒸着装置の蒸着部を概略的に示すシステム構成の側面図である。

【0051】

図１及び図２を参照すれば、有機膜蒸着装置１は、蒸着部１００、ローディング部２００、アンローディング部３００及び移送部４００（図３）を備える。

【0052】

ローディング部２００は、第１ラック２１２、導入室２１４、第１反転室２１８及びバッファ室２１９を備える。

【0053】

第１ラック２１２には、蒸着が行われる前の基板が複数積載されており、導入室２１４に備えられた導入ロボット（図示せず）は、第１ラック２１２から、基板を取って、第２移送部４２０から移送されてきた移動部４３０に基板を載せる。基板が付着した移動部４３０は、第１反転室２１８に移動する。

【0054】

導入室２１４に隣接して、第１反転室２１８が備えられ、第１反転室２１８に位置した第１反転ロボットが、移動部４３０を反転させて、移動部４３０を蒸着部１００の第１移送部４１０に取り付ける。

【0055】

図１を参照すれば、導入室２１４の導入ロボットは、移動部４３０の上面に基板を載せ、この状態で、移動部４３０は、反転室２１８に移送され、反転室２１８の第１反転ロボットが、基板を反転させることによって、蒸着部１００では、基板が下向きに位置する。

【0056】

アンローディング部３００の構成は、前述したローディング部２００の構成と逆に構成される。すなわち、蒸着部１００を経た基板と移動部４３０とを、第２反転室３２８で第２反転ロボットが反転させて、搬出室３２４に移送し、搬出ロボットが搬出室３２４で基板と移動部４３０とを取り出した後、基板を移動部４３０から分離して、第２ラック３２２に積載する。基板と分離された移動部４３０は、第２移送部４２０を通じて、ローディング部２００に回送される。

【0057】

しかし、本発明は、必ずしもこれに限定されるものではなく、基板が移動部４３０に最初に固定される時から、移動部４３０の下面に基板を固定させて、そのまま蒸着部１００に移送させてもよい。その場合、例えば、第１反転室２１８の第１反転ロボットと、第２反転室３２８の第２反転ロボットは不要である。

【0058】

蒸着部１００は、少なくとも一つの蒸着用チャンバー１０１を備える。図１及び図２に示すように、前記蒸着部１００は、チャンバー１０１を備え、このチャンバー１０１内に、複数の有機膜蒸着アセンブリ１００−１，１００−２，…，１００−ｎが配置される。図１に示した本発明の一実施形態によれば、前記チャンバー１０１内に、第１有機膜蒸着アセンブリ１００−１及び第２有機膜蒸着アセンブリ１００−２を備えて、第ｎ有機膜蒸着アセンブリ１００−ｎのｎ個の有機膜蒸着アセンブリが設置されているが、その数字は、蒸着物質及び蒸着条件によって可変的である。前記チャンバー１０１は、蒸着が行われる間に真空に維持される。

【0059】

一方、図１に示した本発明の一実施形態によれば、前記基板が固定された移動部４３０は、第１移送部４１０により、少なくとも蒸着部１００に、望ましくは、前記ローディング部２００、蒸着部１００及びアンローディング部３００に順次に移動し、前記アンローディング部３００で、基板と分離された移動部４３０は、第２移送部４２０により、ローディング部２００に回送される。

【0060】

前記第１移送部４１０は、前記蒸着部１００を通過する時、前記チャンバー１０１を貫通するように備えられ、前記第２移送部４２０は、基板２が分離された移動部４３０を移送するように備えられる。

【0061】

ここで、前記有機膜蒸着装置１は、第１移送部４１０と第２移送部４２０とが上下に形成されて、第１移送部４１０を通過しつつ蒸着を終えた移動部４３０が、アンローディング部３００で基板２と分離された後、その下部に形成された第２移送部４２０を通じて、ローディング部２００に回送されるように形成されることによって、空間活用の効率が向上する効果が得られる。

【0062】

一方、図１の蒸着部１００は、各有機膜蒸着アセンブリ１００−１，…，１００−ｎの一側に、蒸着源交替部１９０をさらに備える。詳しく図示していないが、蒸着源交替部１９０は、カセット形態に形成され、それぞれの有機膜蒸着アセンブリ１００−１，…，１００−ｎから外部に引き出されるように形成される。したがって、有機膜蒸着アセンブリ１００−１，…，１００−ｎの蒸着源１１０（図３）の交替が容易になる。

【0063】

一方、図１には、ローディング部２００、蒸着部１００、アンローディング部３００及び移送部４００から構成された有機膜蒸着装置を構成するための一連のセットが並んで二つ備えられたものとして示している。この場合、二つの有機膜蒸着装置１の間には、パターニングスリットシート交替部５００がさらに備えられる。すなわち、二つの有機膜蒸着装置１の間に、パターニングスリットシート交替部５００を備え、二つの有機膜蒸着装置１が、パターニングスリットシート交替部５００を共同で使用することによって、それぞれの有機膜蒸着装置１がパターニングスリットシート交替部５００を備えるものに比べて、空間活用の効率性を向上させることができる。

【0064】

図３は、図１の蒸着部を概略的に示す斜視図であり、図４は、図３の蒸着部の概略的な断面図である。

【0065】

まず、図３及び図４を参照すれば、前記有機膜蒸着装置１の蒸着部１００は、一つ以上の有機膜蒸着アセンブリ１００−１と、移送部４００とを備える。

【0066】

以下、全体的な蒸着部１００の構成について説明する。

【0067】

チャンバー１０１は、中空の箱状に形成され、その内部に、一つ以上の有機膜蒸着アセンブリ１００−１と移送部４００とが収容される。これを他の側面で説明すれば、地面に固定されるように、フット１０２が形成され、フット１０２上に、下部ハウジング１０３が形成され、下部ハウジング１０３の上部に、上部ハウジング１０４が形成される。そして、チャンバー１０１は、下部ハウジング１０３及び上部ハウジング１０４を全て内部に収容するように形成される。この時、下部ハウジング１０３とチャンバー１０１の連結部は密封処理されて、チャンバー１０１の内部を外部と完全に遮断させる。このように、下部ハウジング１０３と上部ハウジング１０４とが、地面に固定されたフット１０２上に形成されることによって、チャンバー１０１が収縮/膨張を反復するとしても、下部ハウジング１０３と上部ハウジング１０４は、固定された位置を維持できる。したがって、下部ハウジング１０３と上部ハウジング１０４は、蒸着部１００内で一種の基準フレームの役割を行うことができる。

【0068】

一方、上部ハウジング１０４の内部には、有機膜蒸着アセンブリ１００−１と、移送部４００の第１移送部４１０とが形成され、下部ハウジング１０３の内部には、移送部４００の第２移送部４２０が形成される。そして、移動部４３０が第１移送部４１０と第２移送部４２０との間を循環移動しつつ、連続的に蒸着が行われる。

【0069】

以下、有機膜蒸着アセンブリ１００−１の詳細な構成について説明する。

【0070】

それぞれの有機膜蒸着アセンブリ１００−１は、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、パターニングスリットシート１３０、遮断部材１４０、第１ステージ１５０、第２ステージ１６０、撮影部材１７０及びセンサー１８０を備える。ここで、図３及び図４の全ての構成は、適切な真空度が維持されるチャンバー１０１内に配置されることが望ましい。これは、蒸着物質の直進性を確保するためである。

【0071】

詳しくは、蒸着源１１０から放出された蒸着物質１１５が、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１３０を通過して、基板２に所望のパターンに蒸着されるためには、基本的にチャンバー（図示せず）の内部は、ＦＭＭ(Fine Metal Mask)蒸着法と同様な高真空状態を維持しなければならない。また、パターニングスリットシート１３０の温度は、蒸着源１１０の温度より十分に低くなければならない。なぜならば、パターニングスリットシート１３０の温度が十分に低くてはじめて、温度によるパターニングスリットシート１３０の熱膨張の問題を最小化することができるためである。

【0072】

かかるチャンバー１０１内には、被蒸着体である基板２が配置される。前記基板２は、平板表示装置用基板となるが、複数の平板表示装置を形成できるマザーガラスのような４０インチ以上の大面積の基板が適用される。

【0073】

ここで、基板２が有機膜蒸着アセンブリ１００−１に対して相対的に移動しつつ、蒸着が行われる。

【0074】

前記有機膜蒸着アセンブリ１００−１は、有機膜蒸着アセンブリ１００−１と基板２とが互いに相対的に移動しつつ、蒸着が行われることを一つの特徴とする。言い換えれば、有機膜蒸着アセンブリ１００−１と対向して配置された基板２がＹ軸方向に沿って移動しつつ、連続的に蒸着を行う。すなわち、基板２が図３の矢印Ａ方向に移動しつつ、スキャニング方式で蒸着が行われる。ここで、図３には、基板２がチャンバー（図示せず）内でＹ軸方向に移動しつつ、蒸着が行われるものと示しているが、本発明の思想は、これに制限されず、基板２は固定されており、有機膜蒸着アセンブリ１００−１自体がＹ軸方向に移動しつつ、蒸着を行うことも可能である。

【0075】

したがって、前記有機膜蒸着アセンブリ１００−１では、従来のＦＭＭ方式に比べて、はるかに小さくパターニングスリットシート１３０を形成できる。すなわち、本発明の有機膜蒸着アセンブリ１００−１の場合、基板２がＹ軸方向に沿って移動しつつ、連続的に、すなわち、スキャニング方式で蒸着を行うので、パターニングスリットシート１３０のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さのうち少なくとも一つの方向の長さは、基板２の長さよりはるかに小さく形成される。このように、従来のＦＭＭに比べて、はるかに小さくパターニングスリットシート１３０を形成できるので、本発明のパターニングスリットシート１３０は、その製造が容易である。すなわち、パターニングスリットシート１３０のエッチング作業や、その後の精密引張及び溶接作業、移動及び洗浄作業などの全ての工程で、小さいパターニングスリットシート１３０がＦＭＭの方法に比べて有利である。また、これは、ディスプレイ装置が大型化されるほど、さらに有利になる。

【0076】

このように、有機膜蒸着アセンブリ１００−１と基板２とが互いに相対的に移動しつつ、蒸着が行われるためには、有機膜蒸着アセンブリ１００−１と基板２とが一定の間隔ほど離隔されることが望ましい。これについては、詳細に後述する。

【0077】

一方、チャンバー内で、前記基板２と対向する側には、蒸着物質１１５が収納及び加熱される蒸着源１１０が配置される。前記蒸着源１１０内に収納されている蒸着物質１１５が気化されることによって、基板２に蒸着が行われる。

【0078】

詳しくは、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が満たされるるつぼ１１１と、るつぼ１１１を加熱させて、るつぼ１１１の内部に満たされた蒸着物質１１５を、るつぼ１１１の一側、詳しくは、蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるためのヒータ１１２と、を備える。

【0079】

蒸着源１１０の一側、詳しくは、蒸着源１１０の基板２に向かう側には、蒸着源ノズル部１２０が配置される。ここで、前記有機膜蒸着アセンブリは、共通層とパターン層とを蒸着するにあたって、蒸着源ノズル１２１が異なって形成されることも可能である。すなわち、図示していないが、パターン層を形成するための蒸着源ノズル部には、Ｙ軸方向、すなわち、基板２のスキャン方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される。これによって、Ｘ軸方向には蒸着源ノズル１２１が一つのみ存在するように、蒸着源ノズル１２１を形成することによって、陰影の発生を大きく減少させることができる。一方、共通層を形成するための蒸着源ノズル部には、Ｘ軸方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される。これによって、共通層の厚さの均一度を向上させることができる。

【0080】

一方、蒸着源１１０と基板２との間には、パターニングスリットシート１３０がさらに備えられる。パターニングスリットシート１３０は、窓枠のような形態で形成されるフレーム１３５をさらに備え、パターニングスリットシート１３０には、Ｘ軸方向に沿って、複数個のパターニングスリット１３１が形成される。蒸着源１１０内で気化された蒸着物質１１５は、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１３０を通過して、被蒸着体である基板２に向かう。この時、前記パターニングスリットシート１３０は、従来のＦＭＭ、特にストライプ型のマスクの製造方法と同様な方法であるエッチングを通じて製作される。この時、蒸着源ノズル１２１の総個数より、パターニングスリット１３１の総個数がさらに多く形成されてもよい。

【0081】

ここで、前述した蒸着源１１０（及びこれと結合された蒸着源ノズル部１２０）と、パターニングスリットシート１３０は、互いに一定の間隔ほど離隔されて形成される。

【0082】

前述したように、本発明の一実施形態に係る有機膜蒸着アセンブリ１００−１は、基板２に対して相対的に移動しつつ、蒸着を行い、このように、有機膜蒸着アセンブリ１００−１が基板２に対して相対的に移動するために、パターニングスリットシート１３０は、基板２から一定の間隔ほど離隔されて形成される。

【0083】

詳しくは、従来のＦＭＭ蒸着方法において、基板に陰影が生じないようにするために、基板にマスクを密着させて、蒸着工程を行った。しかし、このように、基板にマスクを密着させる場合、基板とマスクとの接触による不良が発生するという問題点が存在した。また、マスクを基板に対して移動させることができないので、マスクが基板と同じ大きさに形成されなければならない。したがって、ディスプレイ装置が大型化されるにつれて、マスクの大きさも大きくなければならないが、かかる大型のマスクを形成することが容易ではないという問題点が存在した。

【0084】

かかる問題点を解決するために、本発明の一実施形態に係る有機膜蒸着アセンブリ１００−１では、パターニングスリットシート１３０が、被蒸着体である基板２と所定の間隔ほど離隔されて配置される。

【0085】

このように、本発明によって、マスクを基板より小さく形成した後、マスクを基板に対して移動させつつ、蒸着を行うことによって、マスクの製作が容易になる効果が得られる。また、基板とマスクとの接触による不良を防止する効果が得られる。また、工程において、基板とマスクとを密着させる時間が不要であるので、製造速度が向上する効果が得られる。

【0086】

次いで、上部ハウジング１０４内における各構成要素の具体的な配置は、下記の通りである。

【0087】

まず、上部ハウジング１０４の底部には、前述した蒸着源１１０及び蒸着源ノズル部１２０が配置される。そして、蒸着源１１０及び蒸着源ノズル部１２０の両側には、載置部１０４−１が突設され、載置部１０４−１上には、第１ステージ１５０、第２ステージ１６０及び前述したパターニングスリットシート１３０が順次に形成される。

【0088】

ここで、第１ステージ１５０は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に移動可能に形成され、パターニングスリットシート１３０をＸ軸方向及びＹ軸方向に整列する機能を行う。すなわち、第１ステージ１５０は、複数個のアクチュエータを備え、上部ハウジング１０４に対して第１ステージ１５０がＸ軸方向及びＹ軸方向に移動するように形成される。

【0089】

一方、第２ステージ１６０は、Ｚ軸方向に移動可能に形成され、パターニングスリットシート１３０をＺ軸方向に整列する機能を行う。すなわち、第２ステージ１６０は、複数個のアクチュエータを備え、第１ステージ１５０に対して第２ステージ１６０がＺ軸方向に移動するように形成される。

【0090】

一方、第２ステージ１６０上には、パターニングスリットシート１３０が形成される。このように、パターニングスリットシート１３０が、第１ステージ１５０及び第２ステージ１６０上に形成され、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に移動可能に形成されることによって、基板２とパターニングスリットシート１３０との整列、特に、リアルタイム整列を行うことができる。

【0091】

さらに、上部ハウジング１０４、第１ステージ１５０及び第２ステージ１６０は、蒸着源ノズル１２１を通じて排出される蒸着物質が分散されないように、蒸着物質の移動経路をガイドする役割を同時に行う。すなわち、上部ハウジング１０４、第１ステージ１５０及び第２ステージ１６０により、蒸着物質の経路が密閉されて、蒸着物質のＸ軸方向及びＹ軸方向の移動を同時にガイドする。

【0092】

一方、パターニングスリットシート１３０と蒸着源１１０との間には、遮断部材１４０がさらに備えられてもよい。詳しくは、基板２の枠部分には、アノード電極またはカソード電極のパターンが形成され、今後の製品検査用または製品製作時に端子として活用するための領域が存在する。この領域に有機物が成膜される場合、アノード電極またはカソード電極が自体の役割を行うことが困難になる。したがって、かかる基板２の枠部分は、有機物などが成膜されてはならない非成膜領域とならなければならない。しかし、前述したように、本発明の薄膜蒸着装置では、基板２が薄膜蒸着装置に対して移動しつつ、スキャニング方式で蒸着が行われるので、基板２の非成膜領域への有機物の蒸着を防止することが容易でなかった。詳しく図示していないが、遮断部材１４０は、隣接した二つのプレートで構成される。

【0093】

基板２が有機膜蒸着アセンブリ１００−１を通過しない時には、遮断部材１４０が蒸着源１１０を遮断することによって、蒸着源１１０から発散された蒸着物質１１５が、パターニングスリットシート１３０に付かないようにする。この状態で、基板２が有機膜蒸着アセンブリ１００−１に進入し始めれば、蒸着源１１０を遮断していた前方の遮断部材１４０が基板２の移動と共に移動しつつ、蒸着物質の移動経路が開放され、蒸着源１１０から発散された蒸着物質１１５が、パターニングスリットシート１３０を通過して、基板２に蒸着される。一方、基板２の全体が有機膜蒸着アセンブリ１００−１を通過すれば、後方の遮断部材１４０が基板２の移動と共に移動しつつ、蒸着物質の移動経路を再び閉鎖して、蒸着源１１０を遮断することによって、蒸着源１１０から発散された蒸着物質１１５が、パターニングスリットシート１３０に付かないようにする。

【0094】

図３及び図４を参照すれば、移送部４００は、第１移送部４１０、第２移送部４２０及び移動部４３０を備える。

【0095】

第１移送部４１０は、有機膜蒸着アセンブリ１００−１により、基板２上に有機膜が蒸着されるように、キャリア４３１及びこれと結合された静電チャック４３２を備える移動部４３０と、移動部４３０に付着されている基板２とをインラインに移送する役割を行う。かかる第１移送部４１０は、コイル４１１、ガイド部４１２、上面磁気浮上ベアリング、側面磁気浮上ベアリング及びギャップセンサーを備える。

【0096】

第２移送部４２０は、蒸着部１００を通過しつつ、一回の蒸着が完了した後、アンローディング部３００で基板２が分離された移動部４３０を、ローディング部２００に回送させる役割を行う。かかる第２移送部４２０は、コイル４２１、ローラーガイド４２２及びチャージングトラック４２３を備える。

【0097】

移動部４３０は、第１移送部４１０及び第２移送部４２０に沿って移送されるキャリア４３１と、キャリア４３１の一面上に結合され、基板２が付着される静電チャック４３２とを備える。

【0098】

以下、移送部４００の各構成要素についてさらに詳細に説明する。

【0099】

まず、移動部４３０のキャリア４３１について詳細に説明する。

【0100】

キャリア４３１は、本体部４３１ａ、ＬＭＳ(Linear motor system)マグネット４３１ｂ、ＣＰＳ(Contactless power supply)モジュール４３１ｃ、電源部４３１ｄ及びガイド溝を備える。

【0101】

本体部４３１ａは、キャリア４３１の基底部を構成し、鉄のような磁性体で形成される。かかるキャリア４３１の本体部４３１ａと、磁気浮上ベアリングとの斥力によって、キャリア４３１がガイド部４１２に対して一定の間隔ほど離隔された状態を維持する。

【0102】

本体部４３１ａの両側面には、ガイド溝が形成され、かかるガイド溝内には、ガイド部４１２のガイド突起が収容される。

【0103】

本体部４３１ａの進行方向の中心線に沿って、磁気レール４３１ｂが形成される。本体部４３１ａの磁気レール４３１ｂと、後述するコイル４１１とが結合して、リニアモータを構成でき、かかるリニアモータにより、キャリア４３１がＡ方向に移動される。

【0104】

本体部４３１ａにおいて、磁気レール４３１ｂの一側には、ＣＰＳモジュール４３１ｃ及び電源部４３１ｄがそれぞれ形成される。電源部４３１ｄは、静電チャック４３２が基板２をチャッキングし、これを維持するように、電源を提供するための一種の充電用バッテリーであり、ＣＰＳモジュール４３１ｃは、電源部４３１ｄを充電するための無線充電モジュールである。第２移送部４２０に形成されたチャージングトラック４２３は、インバータ（図示せず）と連結されて、キャリア４３１が第２移送部４２０内で移送される時、チャージングトラック４２３とＣＰＳモジュール４３１ｃとの間に磁場が形成されて、ＣＰＳモジュール４３１ｃに電力を供給する。そして、ＣＰＳモジュール４３１ｃに供給された電力は、電源部４３１ｄを充電する。

【0105】

一方、静電チャック４３２は、セラミックで形成された本体の内部に、電源が印加される電極が埋め込まれたものであって、この電極に高電圧が印加されることによって、本体の表面に基板２を付着させる。

【0106】

次いで、移動部４３０の駆動について詳細に説明する。

【0107】

本体部４３１ａの磁気レール４３１ｂとコイル４１１とが結合して、駆動部を構成する。ここで、駆動部は、リニアモータであってもよい。リニアモータは、従来のスライドガイドシステムに比べて、摩擦係数が小さく、位置誤差がほとんど発生せず、位置決定度が非常に高い装置である。前述したように、リニアモータは、コイル４１１と磁気レール４３１ｂとで構成され、磁気レール４３１ｂは、キャリア４３１上に一列に配置され、コイル４１１は、磁気レール４３１ｂと対向するように、チャンバー１０１内の一側に複数個が一定の間隔に配置される。このように、移動物体であるキャリア４３１に、コイル４１１でない磁気レール４３１ｂが配置されるので、キャリア４３１に電源を印加しなくても、キャリア４３１の駆動が可能になる。ここで、コイル４１１は、ＡＴＭ(atmosphere)ボックス内に形成されて、大気状態に設置され、磁気レール４３１ｂは、キャリア４３１に付着されて、真空チャンバー１０１内で、キャリア４３１が走行することができる。

【0108】

次いで、第１移送部４１０及び移動部４３０について詳細に説明する。

【0109】

図４を参照すれば、第１移送部４１０は、基板２を固定している静電チャック４３２と、これを移送するキャリア４３１とを移動させる役割を行う。ここで、第１移送部４１０は、コイル４１１、ガイド部４１２、上面磁気浮上ベアリング、側面磁気浮上ベアリング及びギャップセンサーを備える。

【0110】

コイル４１１とガイド部４１２は、それぞれ上部ハウジング１０４の内部面に形成され、そのうち、コイル４１１は、上部ハウジング１０４の上側の内部面に形成され、ガイド部４１２は、上部ハウジング１０４の両側の内部面に形成される。

【0111】

ガイド部４１２は、キャリア４３１が一方向に移動するようにガイドする役割を行う。この時、ガイド部４１２は、蒸着部１００を貫通するように形成される。

【0112】

側面磁気浮上ベアリングは、キャリア４３１の両側面に対応するように、ガイド部４１２内にそれぞれ配置される。側面磁気浮上ベアリングは、キャリア４３１とガイド部４１２との間隔を発生させて、キャリア４３１が移動する時にガイド部４１２と接触せず、非接触方式でガイド部４１２に沿って移動させる役割を行う。すなわち、左側の側面磁気浮上ベアリングと、磁性体であるキャリア４３１との間に発生する斥力、及び右側の側面磁気浮上ベアリングと、磁性体であるキャリア４３１との間に発生する斥力が互いに平衡をなしつつ、キャリア４３１とガイド部４１２との間隔を発生させると共に、その間隔を一定に維持する。

【0113】

一方、上面磁気浮上ベアリングは、キャリア４３１の上部に位置するように、ガイド部４１２内にそれぞれ配置される。上面磁気浮上ベアリングは、キャリア４３１がガイド部４１２に接触せず、それらと一定の間隔を維持しつつ、ガイド部４１２に沿って移動させる役割を行う。すなわち、上面磁気浮上ベアリングと、磁性体であるキャリア４３１との間に発生する斥力及び重力が互いに平衡をなしつつ、キャリア４３１とガイド部４１２との間隔を発生させると共に、その間隔を一定に維持する。

【0114】

ガイド部４１２は、ギャップセンサーをさらに備える。ギャップセンサーは、キャリア４３１とガイド部４１２との間隔を測定する。また、側面磁気浮上ベアリングの一側にも、ギャップセンサーが配置される。側面磁気浮上ベアリングに配置されたギャップセンサーは、キャリア４３１の側面と側面磁気浮上ベアリングとの間隔を測定する。

【0115】

ギャップセンサーにより測定された値によって、磁気浮上ベアリングの磁力が変更されて、キャリア４３１とガイド部４１２との間隔がリアルタイムで調節される。すなわち、磁気浮上ベアリングとギャップセンサーとを利用したフィードバック制御により、キャリア４３１の精密移動が可能である。

【0116】

次いで、第２移送部４２０及び移動部４３０について詳細に説明する。

【0117】

再び図４を参照すれば、第２移送部４２０は、アンローディング部３００で基板が分離された後の静電チャック４３２と、これを移送するキャリア４３１とを、再びローディング部２００に移動させる役割を行う。ここで、第２移送部４２０は、コイル４２１、ローラーガイド４２２及びチャージングトラック４２３を備える。

【0118】

詳しくは、コイル４２１、ローラーガイド４２２及びチャージングトラック４２３は、それぞれ下部ハウジング１０３の内部面に形成され、そのうち、コイル４２１とチャージングトラック４２３は、下部ハウジング１０３の上側の内部面に形成され、ローラーガイド４２２は、下部ハウジング１０３の両側の内部面に形成される。ここで、コイル４２１は、第１移送部４１０のコイル４１１と同様に、ＡＴＭボックス内に形成される。

【0119】

一方、キャリア４３１の本体部４３１ａの磁気レール４３１ｂとコイル４２１とが結合して、駆動部を構成でき、ここで、駆動部は、リニアモータであってもよい。かかるリニアモータによって、キャリア４３１は、図３のＡ方向の逆方向に沿って移動する。

【0120】

一方、ローラーガイド４２２は、キャリア４３１が一方向に移動するようにガイドする役割を行う。この時、ローラーガイド４２２は、蒸着部１００を貫通して形成される。

【0121】

結果として、第２移送部４２０は、基板に有機物を蒸着するステップではなく、空いているキャリア４３１を回送するステップであるので、第１移送部４１０に比べて、位置精度が大きく要求されない。したがって、高い位置精度が要求される第１移送部４１０には、磁気浮上を適用して、位置精度を確保し、相対的に低い位置精度が要求される第２移送部４２０には、従来のローラー方式を適用して、製造コストを低減し、有機膜蒸着装置の構成を簡潔にする。図示していないが、第２移送部４２０にも、第１移送部４１０と同様に、磁気浮上を適用することも可能である。

【0122】

一方、有機膜蒸着装置１の有機膜蒸着アセンブリ１００−１は、整列のためのカメラ１７０及びセンサーをさらに備える。詳しくは、カメラ１７０は、パターニングスリットシート１３０のフレーム１３５に形成された第１マーク（図示せず）と、基板２に形成された第２マーク（図示せず）とをリアルタイムで整列する。ここで、カメラ１７０は、蒸着中である真空チャンバー１０１内で、円滑な視野確保ができるように備えられる。このために、カメラ１７０は、カメラ収容部１７１内に形成されて、大気状態に設置される。

【0123】

一方、本発明では、基板２とパターニングスリットシート１３０とが一定の間隔ほど離隔されているところ、一つのカメラ１７０を利用して、異なる位置にある基板２までの距離と、パターニングスリットシート１３０までの距離とを共に測定しなければならない。このために、本発明の一実施形態による有機膜蒸着装置１の有機膜蒸着アセンブリ１００−１は、センサーを備える。ここで、センサーは、共焦点センサーであってもよい。共焦点センサーは、高速で回転するスキャニングミラーを利用して、レーザービームにより測定対象をスキャニングし、レーザービームにより発光された蛍光または反射光線を利用して、測定対象までの距離を測定する。共焦点センサーは、相異なる媒質間の境界面を感知して、距離を測定する。

【0124】

このように、カメラ１７０及びセンサーを備え、リアルタイムで基板２とパターニングスリットシート１３０との間隔を測定することができるので、リアルタイムで基板２とパターニングスリットシート１３０とを整列することができ、パターンの位置精度がさらに向上する効果が得られる。

【0125】

図５は、本発明の他の実施形態による有機膜蒸着アセンブリを概略的に示す斜視図であり、図６は、図５の有機膜蒸着アセンブリの概略的な側断面図であり、図７は、図５の有機膜蒸着アセンブリの概略的な平断面図である。

【0126】

図５ないし図７を参照すれば、本発明の一実施形態に係る有機膜蒸着アセンブリは、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、遮断板アセンブリ１３４及びパターニングスリットシート１３０を備える。

【0127】

ここで、蒸着源１１０は、その内部に蒸着物質１１５が満たされるるつぼ１１１と、るつぼ１１１を加熱させて、その内部に満たされた蒸着物質１１５を、蒸着源ノズル部１２０側に蒸発させるためのヒータ１１２と、を備える。一方、蒸着源１１０の一側には、蒸着源ノズル部１２０が配置され、蒸着源ノズル部１２０には、Ｘ軸方向に沿って、複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される。

【0128】

一方、蒸着源ノズル部１２０の一側には、遮断板アセンブリ１３４が備えられる。前記遮断板アセンブリ１３４は、複数枚の遮断板１３３と、遮断板１３３の外側に備えられる遮断板フレーム１３２とを備える。前記複数枚の遮断板１３３は、Ｘ軸方向に沿って、互いに並んで配置される。ここで、前記複数枚の遮断板１３３は、等間隔に形成される。また、それぞれの遮断板１３３は、図面で見た時、ＹＺ平面に沿って延びており、望ましくは、長方形に備えられる。このように配置された複数枚の遮断板１３３は、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１３０との空間を、複数個の蒸着空間Ｓに区画する。すなわち、前記有機膜蒸着アセンブリは、前記遮断板１３３によって、図７に示すように、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１別に蒸着空間Ｓが分離される。このように、遮断板１３３が、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１３０との空間を、複数個の蒸着空間Ｓに区画することによって、一つの蒸着源ノズル１２１から排出される蒸着物質は、他の蒸着源ノズル１２１から排出された蒸着物質と混合されず、パターニングスリット１３１を通過して、基板２に蒸着される。すなわち、前記遮断板１３３は、各蒸着源ノズル１２１を通じて排出される蒸着物質が分散されず、Ｚ軸方向に直進するように、蒸着物質の移動経路をガイドする役割を行う。

【0129】

このように、遮断板１３３を備え、蒸着物質の直進性を確保することによって、基板に形成される陰影の大きさを大幅に減らすことができ、したがって、有機膜蒸着アセンブリと基板２とを一定の間隔ほど離隔させることができる。

【0130】

一方、蒸着源１１０と基板２との間には、パターニングスリットシート１３０がさらに備えられる。パターニングスリットシート１３０は、前述した通りであるので、詳細な説明は省略する。

【0131】

図８は、前記有機膜蒸着アセンブリのさらに他の実施形態を概略的に示す斜視図である。

【0132】

図８に示した実施形態に係る有機膜蒸着アセンブリは、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、第１遮断板アセンブリ１３４、第２遮断板アセンブリ１３８及びパターニングスリットシート１３０を備える。ここで、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０、第１遮断板アセンブリ１３４及びパターニングスリットシート１３０の詳細な構成は、前述した図５による実施形態と同様であるので、詳細な説明は省略する。本実施形態では、第１遮断板アセンブリ１３４の一側に、第２遮断板アセンブリ１３８が備えられるという点で、前述した実施形態と異なる。

【0133】

詳しくは、前記第２遮断板アセンブリ１３８は、複数枚の第２遮断板１３６と、第２遮断板１３６の外側に備えられる第２遮断板フレーム１３７とを備える。前記複数枚の第２遮断板１３６は、Ｘ軸方向に沿って、互いに並んで備えられる。そして、前記複数枚の第２遮断板１３６は、等間隔に形成される。また、それぞれの第２遮断板１３６は、図面で見た時、ＹＺ平面と平行に、すなわち、Ｘ軸方向に垂直に形成される。

【0134】

このように配置された複数枚の第１遮断板１３３及び第２遮断板１３６は、蒸着源ノズル部１２０とパターニングスリットシート１３０との空間を区画する役割を行う。すなわち、前記第１遮断板１３３及び第２遮断板１３６によって、蒸着物質が噴射されるそれぞれの蒸着源ノズル１２１別に、蒸着空間が分離されることを一つの特徴とする。

【0135】

ここで、それぞれの第２遮断板１３６は、それぞれの第１遮断板１３３と一対一に対応して配置される。言い換えれば、それぞれの第２遮断板１３６は、それぞれの第１遮断板１３３と整列されて、互いに並んで配置される。すなわち、互いに対応する第１遮断板１３３と第２遮断板１３６は、同じ平面上に位置する。第１遮断板１３３の長さと、第２遮断板１３６のＸ軸方向の幅とが同一であるものと図示しているが、本発明の思想は、これに制限されない。すなわち、パターニングスリット１３１との精密な整列が要求される第２遮断板１３６は、相対的に薄く形成される一方、精密な整列が要求されない第１遮断板１３３は、相対的に厚く形成されて、その製造が容易にすることも可能である。

【0136】

図９は、前記有機膜蒸着アセンブリのさらに他の実施形態を概略的に示す斜視図である。

【0137】

図９を参照すれば、本発明のさらに他の実施形態に係る有機膜蒸着アセンブリは、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１３０を備える。ここで、蒸着源１１０、蒸着源ノズル部１２０及びパターニングスリットシート１３０の詳細な構成は、前述した図５による実施形態と同様であるので、詳細な説明は省略する。本実施形態では、蒸着源１１０及び蒸着源ノズル部１２０は、パターニングスリットシート１３０に、連結部材１３９により結合される。

【0138】

図１０は、前述したような有機膜蒸着装置において、パターニングスリットシートに、パターニングスリットが等間隔に形成されている様子を示す図面であり、図１１は、図１０のパターニングスリットシートを利用して、基板上に形成された有機膜を概略的に示す図面である。

【0139】

図１０及び図１１には、パターニングスリット１３１が等間隔に配置されたパターニングスリットシート１３０が示されている。すなわち、図１０において、Ｉ_１＝Ｉ_２＝Ｉ_３＝Ｉ_４の関係が成立する。

【0140】

この場合、蒸着空間Ｓの中心線Ｃを通過する蒸着物質の入射角度は、基板２にほぼ垂直になる。したがって、パターニングスリット１３１ａを通過した蒸着物質により形成される有機膜Ｐ_１は、その陰影の大きさが最小になり、右側の陰影ＳＲ_１と左側の陰影ＳＬ_１とが対称的に形成される。

【0141】

しかし、蒸着空間Ｓの中心線Ｃから遠く配置されたパターニングスリットを通過する蒸着物質の臨界入射角度θは、次第に大きくなって、最も外側のパターニングスリット１３１ｅを通過する蒸着物質の臨界入射角度θは、約５５°となる。したがって、蒸着物質がパターニングスリット１３１ｅに対して傾いて入射し、パターニングスリット１３１ｅを通過した蒸着物質により形成された有機膜Ｐ_５は、その陰影の大きさが最大となり、特に、左側の陰影ＳＬ_５が、右側の陰影ＳＲ_５よりさらに長く形成される。

【0142】

すなわち、蒸着物質の臨界入射角度θが大きくなるにつれて、陰影の大きさも大きくなり、特に、蒸着空間Ｓの中心線Ｃから遠い方の陰影の大きさが大きくなる。そして、蒸着物質の臨界入射角度θは、蒸着空間Ｓの中心線Ｃから、パターニングスリットまでの距離が遠いほど、大きくなる。したがって、蒸着空間Ｓの中心線Ｃから、パターニングスリットまでの距離が遠い有機膜であるほど、陰影の大きさが大きくなり、特に、有機膜の両端部の陰影のうち、蒸着空間Ｓの中心線Ｃから遠い方の陰影の大きさがさらに大きくなる。

【0143】

すなわち、図１１を参照すれば、蒸着空間Ｓの中心線Ｃを基準として、左側に形成された有機膜は、左側の斜辺が、右側の斜辺よりさらに長く形成され、蒸着空間Ｓの中心線Ｃを基準として、右側に形成された有機膜は、右側の斜辺が、左側の斜辺よりさらに長く形成される。

【0144】

また、蒸着空間Ｓの中心線Ｃを基準として、左側に形成された有機膜は、左側に形成された有機膜であるほど、左側の斜辺がさらに長く形成され、蒸着空間Ｓの中心線Ｃを基準として、右側に形成された有機膜は、右側に形成された有機膜であるほど、右側の斜辺がさらに長く形成される。そして、結果として、蒸着空間Ｓ内に形成された有機膜は、蒸着空間Ｓの中心線を基準として対称的に形成される。

【0145】

これをさらに詳細に説明すれば、下記の通りである。

【0146】

パターニングスリット１３１ｂを通過する蒸着物質は、θ_ｂの臨界入射角でパターニングスリット１３１ｂを通過し、この場合、パターニングスリット１３１ｂを通過した蒸着物質により形成された有機膜Ｐ_２の左側の陰影は、ＳＬ_２の大きさに形成される。同様に、パターニングスリット１３１ｃを通過する蒸着物質は、θ_ｃの臨界入射角でパターニングスリット１３１ｃを通過し、この場合、パターニングスリット１３１ｃを通過した蒸着物質により形成された有機膜Ｐ_３の左側の陰影は、ＳＬ_３の大きさに形成される。同様に、パターニングスリット１３１ｄを通過する蒸着物質は、θ_ｄの臨界入射角でパターニングスリット１３１ｄを通過し、この場合、パターニングスリット１３１ｄを通過した蒸着物質により形成された有機膜Ｐ_４の左側の陰影は、ＳＬ_４の大きさに形成される。最後に、パターニングスリット１３１ｅを通過する蒸着物質は、θ_ｅの臨界入射角でパターニングスリット１３１ｅを通過し、この場合、パターニングスリット１３１ｅを通過した蒸着物質により形成された有機膜Ｐ_５の左側の陰影は、ＳＬ_５の大きさに形成される。

【0147】

ここで、θ_ｂ＜θ_ｃ＜θ_ｄ＜θ_ｅの関係が成立するので、それぞれのパターニングスリットを通過した有機膜の陰影の大きさの間には、ＳＬ_１＜ＳＬ_２＜ＳＬ_３＜ＳＬ_４＜ＳＬ_５の関係が成立する。

【0148】

図１２は、前述したような有機膜蒸着装置を利用して製造された本発明の一実施形態による平板表示装置の平面を示したものであり、図１３は、図１２のＩ−Ｉの断面を示したものである。図１２では、説明の便宜上、図１３に示した断面のうち、第１開口２４１ないし第３開口２４３、及び第１ライン２６１ないし第３ライン２６３のみを示した。

【0149】

図１２及び図１３を参照すれば、前記平板表示装置は、ベース基板２１上に形成される。前記ベース基板２１は、透明な素材、例えば、ガラス材、プラスチック材、または金属材で形成される。

【0150】

前記ベース基板２１上には、複数のピクセルＰが形成されるが、各ピクセルＰは、異なる色を発光する複数のサブピクセルを含む。図１２及び図１３による本発明の一実施形態によれば、各ピクセルＰは、第１サブピクセルＳＰ１、第２サブピクセルＳＰ２及び第３サブピクセルＳＰ３を含む。前記第１サブピクセルＳＰ１、第２サブピクセルＳＰ２及び第３サブピクセルＳＰ３は、それぞれ赤色、緑色及び青色を発光するサブピクセルである。しかし、本発明は、必ずしもこれに限定されるものではなく、前記第１サブピクセルＳＰ１、第２サブピクセルＳＰ２及び第３サブピクセルＳＰ３は、ホワイトを具現できる様々な色相の組み合わせであってもよい。

【0151】

各サブピクセルには、図１３に示すように、駆動回路部２２が位置する。各駆動回路部２２は、少なくとも一つの薄膜トランジスタと、少なくとも一つのキャパシタとを備える。

【0152】

第１絶縁膜２３は、前記駆動回路部２２を覆う。そして、第１絶縁膜２３上には、各駆動回路部２２と電気的に連結された複数のピクセル電極２５１が形成される。前記各ピクセル電極２５１は、各サブピクセル別に独立して位置する。

【0153】

前記第１絶縁膜２３上には、第２絶縁膜２４が形成される。前記第２絶縁膜２４は、ピクセル電極２５１を覆うように形成された後、第１開口２４１ないし第３開口２４３を形成することによって、ピクセル電極２５１の一定の部分を露出させる。

【0154】

前記第１開口２４１、第２開口２４２及び第３開口２４３は、それぞれ第１サブピクセルＳＰ１、第２サブピクセルＳＰ２及び第３サブピクセルＳＰ３に対応して位置する。

【0155】

前記第２絶縁膜２４上には、前記第１開口２４１、第２開口２４２及び第３開口２４３を覆うように、複数の第１ライン２６１、第２ライン２６２及び第３ライン２６３が形成される。

【0156】

前記第１ライン２６１は、第１有機発光膜を備え、例えば、赤色の有機発光膜を備える。

【0157】

前記第２ライン２６２は、第２有機発光膜を備え、例えば、緑色の有機発光膜を備える。

【0158】

前記第３ライン２６３は、第３有機発光膜を備え、例えば、青色の有機発光膜を備える。

【0159】

そして、前記第１ライン２６１、第２ライン２６２及び第３ライン２６３を覆うように、対向電極２５２が形成される。前記対向電極２５２は、全てのピクセルＰに共通して形成された共通電極であってもよい。

【0160】

前記ピクセル電極２５１は、透明電極または反射型電極として形成されるが、透明電極として使われる時には、ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)，ＩＺＯ(Indium Zinc Oxide)，ＺｎＯ(Zinc Oxide)またはＩｎ_２０_３(Indium Oxide)で形成され、反射型電極として使われる時には、Ａｇ，Ｍｇ，Ａｌ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ａｕ，Ｎｉ，Ｎｄ，Ｉｒ，Ｃｒ及びそれらの化合物などで反射層を形成した後、その上にＩＴＯ，ＩＺＯ，ＺｎＯまたはＩｎ_２０_３で透明電極を形成する。かかるピクセル電極２５１は、スパッタリング法などにより成膜された後、フォトリソグラフィ法などによりパターニングされる。

【0161】

一方、前記対向電極２５２も、透明電極または反射型電極として形成されるが、透明電極として使われる時には、この対向電極２５２がカソード電極として使われるので、仕事関数の低い金属、すなわち、Ｌｉ，Ｃａ，ＬｉＦ／Ｃａ，ＬｉＦ／Ａｌ，Ａｌ，Ａｇ，Ｍｇ及びそれらの化合物を薄膜として形成した後、その上にＩＴＯ，ＩＺＯ，ＺｎＯまたはＩｎ_２０_３などで補助電極層やバス電極ラインを形成する。そして、反射型電極として使われる時には、前記Ｌｉ，Ｃａ，ＬｉＦ／Ｃａ，ＬｉＦ／Ａｌ，Ａｌ，Ａｇ，Ｍｇ及びそれらの化合物を厚く全面蒸着して形成する。この時、前記対向電極２５２も、前述した有機膜蒸着装置を利用して蒸着される。

【0162】

ピクセル電極２５１と対向電極２５２との間には、前記第１ライン２６１、第２ライン２６２及び第３ライン２６３以外に、機能性有機膜がさらに位置してもよい。

【0163】

前記機能性有機膜は、ホール注入層(Hole Injection Layer: HIL)、ホール輸送層(Hole Transport Layer: HTL)、電子輸送層(Electron Transport Layer: ETL)及び電子注入層(Electron Injection Layer: EIL)が単一あるいは複合の構造で積層されて形成される。

【0164】

前記第１ライン２６１、第２ライン２６２及び第３ライン２６３は、前述した有機膜蒸着装置を利用して、連続的に蒸着される。

【0165】

すなわち、第１開口２４１、第２開口２４２及び第３開口２４３を備える第２絶縁膜２４が形成された基板２が、図２に示すように、複数の有機膜蒸着アセンブリ１００−１，１００−２，…，１００−ｎが配置された蒸着部１００を通過しつつ、前記第１ライン２６１、第２ライン２６２、第３ライン２６３及び機能性有機膜を備える有機膜が成膜される。

【0166】

前記有機膜の成膜は、図３の矢印Ａ方向にスキャニングされつつ、連続的に行われるので、図１２に示すように、スキャニング方向である前記Ａ方向と同じ方向である第１方向Ｄ１に、第１ライン２６１、第２ライン２６２及び第３ライン２６３が延びる。

【0167】

この時、第１ライン２６１、第２ライン２６２及び第３ライン２６３のうち、前記第１方向Ｄ１に垂直な第２方向Ｄ２に、互いに隣接して位置する第１ライン２６１と第２ライン２６２は、図１２及び図１３に示すように、一部が互いに重畳される。これは、パターニングスリットシート１３０と基板２とが一定の間隔ほど離隔されてスキャニングされるので、図１１に示すように、成膜される有機膜が一定程度の陰影を有するためである。

【0168】

前記第１ライン２６１、第２ライン２６２及び第３ライン２６３を、前述したような蒸着方式により成膜する場合には、有機膜に形成される陰影は必然的であり、これによって、図１２及び図１３に示すように、第２方向Ｄ２に互いに隣接して位置する第１ライン２６１と第２ライン２６２は、一部が互いに重畳され、第２方向Ｄ２に互いに隣接して位置する第２ライン２６２と第３ライン２６３は、一部が互いに重畳され、第２方向Ｄ２に互いに隣接して位置する第３ライン２６３と第１ライン２６１は、一部が互いに重畳される。

【0169】

この時、前記第１ライン２６１と第２ライン２６２の重畳、前記第２ライン２６２と第３ライン２６３の重畳、及び／または前記第３ライン２６３と第１ライン２６１の重畳は、前記第２絶縁膜２４上で行われる。

【0170】

そして、前記第１ライン２６１ないし第３ライン２６３は、それぞれ隣接した他のラインの開口と重畳されない。すなわち、前記第１ライン２６１は、隣接した第２ライン２６２及び第３ライン２６３が覆う開口である第２開口２４２及び第３開口２４３と重畳されない。前記第２ライン２６２は、隣接した第１ライン２６１及び第３ライン２６３が覆う開口である第１開口２４１及び第３開口２４３と重畳されない。前記第３ライン２６３は、隣接した第２ライン２６２及び第１ライン２６１が覆う開口である第２開口２４２及び第１開口２４１と重畳されない。

【0171】

これによって、本発明は、前記第１サブピクセルＳＰ１、第２サブピクセルＳＰ２及び第３サブピクセルＳＰ３で、異なる色相の混色が発生しない。

【0172】

このために、前記第１ライン２６１に沿って位置する第１開口２４１を中心として、この第１開口２４１と第２方向Ｄ２に隣接した第２開口２４２との間隔、または第１開口と第３開口２４３との間隔が、第２開口２４２と第３開口２４３との間隔と異なるように、例えば、さらに大きくする。

【0173】

すなわち、前記第１開口２４１と、この第１開口２４１と第２方向Ｄ２に隣接した第２開口２４２との間隔を第１ギャップＧ１とし、前記第２開口２４２と、この第２開口２４２と第２方向Ｄ２に隣接した第３開口２４３との間隔を第２ギャップＧ２とし、前記第１開口２４１と、この第１開口２４１と第２方向Ｄ２の逆方向に隣接した第３開口２４３との間隔を第３ギャップＧ３とする時、前記第１ギャップＧ１または第３ギャップＧ３は、前記第２ギャップＧ２と異なるように、例えば、さらに大きくする。

【0174】

この時、図１３に示すように、第１ライン２６１ないし第３ライン２６３のうち、第１ライン２６１が最初に蒸着され、第２ライン２６２及び第３ライン２６３の順序で蒸着される。

【0175】

このように、第１ライン２６１が最初に蒸着されるので、第１ライン２６１が蒸着される時、第１ライン２６１の第２方向Ｄ２へのエッジで陰影現象が最も大きく発生する。かかる陰影現象は、隣接した第２開口２４２及び/または第３開口２４３での混色を発生させるので、本発明は、かかる混色の発生を防止するために、前記第１ギャップＧ１または第３ギャップＧ３を、前記第２ギャップＧ２よりさらに大きくする。

【0176】

通常、青色のサブピクセルで混色が発生する場合、青色のサブピクセルの輝度は、５０％以下に低下する。

【0177】

前記のような本発明において、青色の第３サブピクセルＳＰ３の発光効率を向上させるために、第３開口２４３の幅Ｗ３を、第１開口２４１の幅Ｗ１または第２開口２４２の幅Ｗ２より広くする。

【0178】

図１４は、本発明のさらに他の実施形態による平板表示装置の一部平面図である。図１２及び図１３による実施形態に加えて、前記第２絶縁膜に、第４開口２４４がさらに形成され、この第４開口２４４を覆うように、第１方向Ｄ１に沿って、第４有機発光膜を備える複数の第４ライン２６４がさらに形成される。

【0179】

この第４ライン２６４により、第４サブピクセルＳＰ４が形成され、したがって、各ピクセルＰは、第１サブピクセルＳＰ１ないし第４サブピクセルＳＰ４により構成される。前記第４サブピクセルＳＰ４は、ホワイトを発光するものであってもよい。

【0180】

このように、四つのサブピクセルにより、ピクセルが具現される場合にも、前述したように、最初に蒸着される第１ライン２６１が覆う第１開口２４１を中心として、隣接した開口とのギャップを、他のギャップより大きくして、混色を防止する。すなわち、第１ギャップＧ１または第３ギャップＧ３を、前記第２ギャップＧ２よりさらに大きくする。

【0181】

もちろん、各サブピクセルに蒸着される発光物質の発光効率を考慮して、第１開口２４１ないし第４開口２４４の幅Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４を異なって設定する。

【0182】

図１２ないし図１４による実施形態において、前記第１ギャップＧ１または第３ギャップＧ３を、前記第２ギャップＧ２よりさらに大きくしたが、本発明は、必ずしもこれに限定されるものではなく、第１ギャップＧ１ないし第４ギャップＧ４が、全て異なる大きさを有することによって、蒸着時の陰影現象による混色を最大限防止できる。かかる第１ギャップＧ１ないし第４ギャップＧ４の大きさは、各ラインの蒸着順序、ラインの幅、全体ピクセルのサイズなどを考慮して、多様に決定される。

【0183】

図１５は、本発明のさらに他の実施形態による平板表示装置の一部平面図である。図１５による実施形態は、前記第１ギャップＧ１ないし第３ギャップＧ３が、第１開口２４１の第２方向Ｄ２の幅Ｗ１、第２開口２４２の第２方向Ｄ２の幅Ｗ２、及び第３開口２４３の第２方向Ｄ２の幅Ｗ３より大きくする。

【0184】

これによって、第１ライン２６１ないし第３ライン２６３は、互いに重畳されず、たとえ重畳されるとしても、隣接した開口まで侵犯して混色が発生することを防止できる。

【0185】

かかる実施形態においても、青色の第３サブピクセルＳＰ３の発光効率を向上させるために、第３開口２４３の幅Ｗ３を、第１開口２４１の幅Ｗ１または第２開口２４２の幅Ｗ２より広くする。

【0186】

図１６は、本発明のさらに他の実施形態による平板表示装置の一部平面図である。図１５による実施形態に加えて、前記第２絶縁膜に、第４開口２４４がさらに形成され、この第４開口２４４を覆うように、第１方向Ｄ１に沿って、第４有機発光膜を備える複数の第４ライン２６４がさらに形成される。

【0187】

この第４ライン２６４により、第４サブピクセルＳＰ４が形成され、したがって、各ピクセルＰは、第１サブピクセルＳＰ１ないし第４サブピクセルＳＰ４により構成される。前記第４サブピクセルＳＰ４は、ホワイトを発光するものであってもよい。

【0188】

このように、四つのサブピクセルにより、ピクセルが具現される場合にも、前述したように、前記第１ギャップＧ１ないし第４ギャップＧ４が、第１開口２４１の第２方向Ｄ２の幅Ｗ１、第２開口２４２の第２方向Ｄ２の幅Ｗ２、第３開口２４３の第２方向Ｄ２の幅Ｗ３、及び第４開口２４４の第２方向Ｄ２の幅Ｗ４より大きくする。

【0189】

もちろん、各サブピクセルに蒸着される発光物質の発光効率を考慮して、第１開口２４１ないし第４開口２４４の幅Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３，Ｗ４を異なって設定する。

【0190】

本発明は、図面に示した実施形態を参照して説明されたが、これは、例示的なものに過ぎず、当業者ならば、それらから多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想により決まらなければならない。

【産業上の利用可能性】

【0191】

本発明は、例えば、平板表示装置関連の技術分野に適用可能である。

【符号の説明】

【0192】

２ 基板
２１ ベース基板
２２ 駆動回路部
２３ 第１絶縁膜
２４ 第２絶縁膜
２４１ 第１開口
２４２ 第２開口
２４３ 第３開口
２５１ ピクセル電極
２５２ 対向電極
２６１ 第１ライン
２６２ 第２ライン
２６３ 第３ライン
ＳＰ１ 第１サブピクセル
ＳＰ２ 第２サブピクセル
ＳＰ３ 第３サブピクセル
ＳＰ４ 第４サブピクセル
Ｐ ピクセル

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】

【図9】

【図10】

【図11】

【図12】

【図13】

【図14】

【図15】

【図16】