(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明を実施するための形態】
【0026】
以下では、本発明のいくつかの例示的実施形態について、図面を参照して説明する。しかしながら、本発明はこうした例示的実施形態に限定されないことは、当業者に理解されるであろう。
【0027】
図1A〜1Bは、本発明の例示的実施形態による放射線CTシステム100を示す。1つの実施形態では、放射線CTシステム100は、X線CTシステムである。
【0028】
図1A〜1Bに示すように、X線CTシステム100は、主として3つの部分、すなわちスキャンガントリ110と、検出される対象114を支えて位置付けるための支持テーブル116と、操作コンソール130とを含む。スキャンガントリ110は、X線管102を含む。X線管102から発せられたX線106は、コリメータ104を通って、扇形のビームおよび円錐形のビームのような形状のX線ビームを形成し、対象114の関心領域に照射される。対象114の関心領域を通過するX線ビームは、対象114の反対側に配置されたX線検出器112に当てられる。X線検出器112は、伝搬方向(信号のチャネル方向)および扇形のX線ビームの厚さZ方向(列方向)に複数の2次元X線検出ユニットを有する。必要に応じて、コリメータ構成要素(
図1Aおよび1Bには示さず)が、X線検出器112と検査される対象114との間に配置されて、対象114を通過するX線ビームを較正した後に、X線ビームがX線検出器112に衝突する。
【0029】
データ取得システム(DAS)124が、X線検出器112に結合される。データ取得システム124は、X線検出器112のX線検出ユニットのそれぞれによって検出されたデータを収集し、投影データとして使用する。X線管102からのX線放射線は、X線コントローラ122によって制御される。
図1Bには、X線管102とX線コントローラ122との関係を示している。
【0030】
データ取得システム124は、X線コントローラ122によってX線管102に印加される管電圧および管電流に関連するデータを収集する。
図1Bでは、X線コントローラ122とデータ取得システム124との関係を省略している。
【0031】
コリメータ104は、コリメータコントローラ120によって制御される。1つの実施形態では、コリメータ104およびコリメータコントローラ120は、2つの別個の構成要素である。別の実施形態では、コリメータコントローラ120は、コリメータ104内に配置することができる。
図1Bでは、コリメータ104とコリメータコントローラ120との関係を省略している。
【0032】
X線管102、コリメータ104、X線検出器112、データ取得システム124、X線コントローラ122、およびコリメータコントローラ120のような構成要素は、スキャンガントリ110の回転部128に取り付けられる。回転部128は、回転コントローラ126の制御の下で回転する。
図1Bでは、回転部128と回転コントローラ126との関係を示していない。
【0033】
モータのような駆動システムの作用で、支持テーブル116を、そこに乗せた対象114と共に、対象の長手方向軸118に沿ってスキャンガントリ110の開口部108の中に動かすことができ、したがって対象114の関心領域が、コリメータ104から照射されるX線ビームと実質的に垂直になる。
【0034】
操作コンソール130は、コンピュータのような中央処理装置136を有する。中央処理装置136に、制御インタフェース140が接続される。スキャンガントリ110および支持テーブル116は、制御インタフェース140に接続される。中央処理装置136は、制御インタフェース140を介してスキャンガントリ110および支持テーブル116を制御する。
【0035】
スキャンガントリ110中のデータ取得システム124、X線コントローラ122、コリメータコントローラ120、および回転コントローラ126は、制御インタフェース140を介して制御される。
図1Bでは、関連部分と制御インタフェース140との個々の関係を示していない。
【0036】
中央処理装置136にデータ取得バッファ138が接続される。スキャンガントリ110のデータ取得システム124は、データ取得バッファ138に接続される。データ取得システム124によって収集された投影データは、データ取得バッファ138を介して中央処理装置136に入力される。
【0037】
中央処理装置136は、データ取得バッファ138から入力された投影データを使用して、画像再構成を行う。画像再構成を行う際に、フィルタ補正逆投影法、および3次元画像再構成法のような方法を使用することができる。中央処理装置136に、記憶装置142が接続される。記憶装置142は、データ、再構成された画像、およびX線CTシステム100の様々な機能を実行するための手続きを格納するために使用することができる。
【0038】
ディスプレイ装置132および入力装置134が、それぞれ中央処理装置136に接続される。ディスプレイ装置132は、再構成された画像および中央処理装置136から出力された他の情報を表示する。操作者は、入力装置134を介して中央処理装置136に様々な命令およびパラメータを入力することができる。ディスプレイ装置132および入力装置134を介して、操作者は、X線CTシステム100の対話型操作を行うことができる。
【0039】
図2は、本発明の例示的実施形態による放射線検出器を示す。
図2に示すように、X線検出器112は、一列に配置された複数のプレート検出器要素を含む。好ましくは、複数のプレート検出器要素は、3から7つの検出器要素を含むことができる。
図3は、本発明の他の2つの例示的実施形態による放射線検出器を示す。
図3の左部分に示すように、X線検出器112は、一列に配置された6つのプレート検出器要素を含む。
図3の右部分に示すように、X線検出器112は、一列に配置された5つのプレート検出器要素を含む。
図4は、本発明の別の2つの例示的実施形態による放射線検出器を示す。
図4の左部分に示すように、X線検出器112は、一列に配置された4つのプレート検出器要素を含む。
図4の右部分に示すように、X線検出器112は、一列に配置された3つのプレート検出器要素を含む。
【0040】
X線検出器112を構成している複数のプレート検出器要素中の隣接する検出器要素は、
図2〜4に示すように、同じ傾斜角度または異なる傾斜角度を有する。複数のプレート検出器要素は、同じ長さまたは異なる長さを有することができ、同じ幅または異なる幅を有することができる。簡単にするために、
図2〜4に示す検出器要素は、同じ幅および同じ長さを有し、いかなる2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度も同じである。
【0041】
図5Aおよび5Bは、本発明の例示的実施形態によるコリメータ104のコリメータゲーティング装置501を示す。
図5Aに示すように、コリメータ104は平面構造を有し、X線の通過を遮るためのゲーティング装置501を含む。ゲーティング装置501は、X線を通すための1つまたは複数のスリット502が設けられる。複数のスリットは、スリットの長手方向に平行に並べられ、異なる平均幅を有して、異なる検出要件を満たす。駆動ユニット(図示せず)の作用の下で、ゲーティング装置501は図に示すようにZ方向に沿って前後に移動することができ、したがって、コリメータコントローラ120は、対象の検出の必要性に従って、対応するスリット502を選択して、検出を実行することができる。
【0042】
図5Bは、コリメータ104の1つのスリット502を示す。
図5に示すように、スリット502の中心Oに、3次元座標系XYZを確立することができ、X線管102の焦点Fからスリットの中心Oまでの接続線は、コリメータの平面(図に示すXOZ平面)に垂直である。スリットの長手方向に沿ったスリット502の2つの対向エッジのプロファイルは、X線管102、コリメータ104、およびX線検出器112の間の位置関係、スリットを通過するX線によるX線検出器112上の投影の望ましい幅、ならびにX線検出器112の構造と関連する。
【0043】
簡単にするために、以下では、X線検出器112が、一列に配置された5つの同一の検出器要素を含み、いかなる2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度も等しい場合を例にとって、スリットの長手方向に沿ったコリメータスリット502のエッジのプロファイルと、X線管102、コリメータ104、およびX線検出器112の間の位置関係との間の関係、スリット502を通過するX線によるX線検出器112上の投影の望ましい幅、ならびにX線検出器112の構造を示し、ここでは隣接する検出器要素間の傾斜角度はαである。
【0044】
図6および7は、5つのプレート検出器要素D1〜D5を含むX線検出器112、X線管102の焦点F、およびコリメータ104の間の位置関係を示す。
図6および7に示すように、スリット502の長手方向のエッジのプロファイルは、スリットを通過するX線が、X線検出器112上に矩形の投影エリアを形成するようになっている。X線が複数のスリットのうちの最大平均幅を有するスリットを通過することによるX線検出器112上の矩形の投影は、OZ軸に沿ったX線検出器の幅以下の、OZ軸に沿った幅を有し、X線が複数のスリットのうちの最大の長さを有するスリットを通過することによるX線検出器112上の矩形の投影は、OX軸に沿った複数の検出器要素の全長L以下の、OX軸に沿った長さを有する。
図7に示すように、X線管の焦点Fとコリメータスリットの中心Oとを通る直線は、X線検出器112の中央の検出器要素D3に垂直であって、X線管の焦点FからX線検出器112までの垂直距離はHであり、X線管の焦点FからX線検出器112の第2の検出器要素D2の中心までの距離はH’である。
【0045】
図8に示すように、X線管102から選択されたコリメータスリット502を通って検出器要素D2の中心に投影されるX線ビームは、X線管102の焦点FからX線検出器112までの垂直距離(すなわち、X線管102の焦点Fと検出器要素D3の中心との間の直線距離)に対してオフセット角βを有し、ここでは各検出器要素が長さLを有し、X線が選択されたコリメータスリット502を通過することによってX線検出器112に形成される投影は、幅Dを有する。5つの検出器要素の任意の2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度はαであるので、検出器要素D3の平面に対する検出器要素D2の傾斜角度はαであり、検出器要素D3の平面に対する検出器要素D1の傾斜角度は2αであり、検出器要素D3の平面に対する検出器要素D1に隣接するさらなる検出器要素(ある場合)の傾斜角度は3αであり、以下同様である。
【0046】
図9に示すように、X線管の焦点Fからコリメータスリット502までの垂直距離、すなわち、X線管の焦点Fからコリメータスリットの中心Oまでの距離は、hである。スリット面のOX軸上におけるX線管の焦点Fから発せられるオフセット角βを有するX線ビームの座標はX(β)であり、オフセット角βを有するX線ビームの直線に沿ったX線管の焦点Fからスリットまでの距離はh’であり、上記h’は、垂直距離hと次の関係を有する:h’=h/cos(β)。したがって、次の式を得ることができる:
【0048】
ここで、X線ビームのオフセット角βが反時計方向であるとき、式(1)は正の値であり、X線ビームのオフセット角βが時計方向であるとき、式(1)は負の値である。
【0049】
図10に示すように、コリメータスリットの中心Oに3次元座標システムXYZを確立すると、コリメータスリットの長手方向のエッジ間を通過するX線ビームは、コリメータ平面XOZにおいて座標(x,z)を有する。オフセット角βを有するX線ビームと2次元平面XOZとの交点O’は、座標(X(β),0)を有する。したがって、交点O’を通り、軸OZに平行な直線は、スリットの2つの長手方向のエッジと、それぞれその座標が(X(β),+z)および(X(β),−z)である2つの交点P1およびP2を有する。スリットの長手方向のエッジ上の交点P1およびP2は、軸OXに対して対称的に分配されるので、すなわち1つの検出器要素に対応するスリット曲線1および2は、軸OXに対して対称的に分配され、別の検出器要素に対応するスリット曲線3および4は、軸OXに対して対称的に分配される。したがって、スリットの長手方向のエッジ上の交点P1およびP2の座標は、一様に(X(β),P(β))と表すことができ、ここでパラメータP(β)は2次元平面XOZのスリットの長手方向のエッジのプロファイル分布を表すことができる。
【0050】
図11は、X線検出器112に投影されるオフセット角βを有するX線ビームの平面と、オフセット角0を有するX線ビームの垂直平面との位置関係を示す。スリットのエッジ間のX線のみをX線検出器112に投影することができるので、オフセット角βを有するX線ビームは、X線の三角形、すなわちΔFB1B2を形成する。
図11で得られたX線の三角形ΔFB1B2が、X線管の焦点Fを回転軸として反時計方向に角度β回転するとき、
図12に示すように複数のX線の三角形が得られる。
【0051】
図12に示すように、X線の三角形ΔFO’P2は、次の条件:O’F=h’およびO’P2=z=P(β)を満たし、X線の三角形ΔFB0B2は、次の条件:FB0=H’およびB0B2=D/2を満たす。ここでDは、選択されたコリメータスリット502を通過するX線によるX線検出器112上の投影の幅である。X線の三角形ΔFO’P2は、ΔFB0B2と相似であるので、次の式を得ることができる:O’P2/B0B2=FO’/FB0、すなわちz/h’=(D/2)/H’。変換により、次の式を得ることができる:
【0053】
いかなる2つの隣接する検出要素間にも傾斜角度αがあるので、X線検出器112が5つの検出器要素を含む場合、X線ビームのオフセット角βは、3つの範囲に分けることができる。
図13に示すように、第3の検出器要素の中心と、第3および第2検出器要素の接合部との間のエリアに投影されるX線ビームのオフセット角の範囲を、β範囲1と設定し、第2の検出器要素に投影されるX線ビームのオフセット角の範囲を、β範囲2と設定し、第1の検出器要素に投影されるX線ビームのオフセット角の範囲を、β範囲3と設定する。
【0054】
図14は、X線ビームのオフセット角βが範囲1内である環境を示す。
図14に示すように、得られたX線の三角形ΔFB0B2は、次の条件を満たす:FB0=H、B0B2=L/2、およびtan(β)=B0B2/FB0=(L/2)/H、ここでLは個々の検出器要素の長さである。したがって、範囲1におけるオフセット角βの範囲は、
【0057】
図15は、オフセット角βを有するX線ビームにより構成されるX線の三角形ΔFB0Bを示す。このようなX線の三角形を使用すると、オフセット角βを有するX線ビームの、焦点Fから検出器要素D3までの距離は、次のように計算することができる:
【0061】
図16は、X線ビームのオフセット角βが範囲2内である環境を示す。
図16に示すように、C2は、検出器要素D2のエッジ点であり、Cは、オフセット角βが範囲2内であるX線ビームによって形成される検出器要素D2上の投影点である。点C2に投影されるX線ビームにより、X線の三角形ΔFB0’C2を構成することができ、ここでB0’C2線は、B0B2線に平行である。検出器要素D3とD2との間に傾斜角度αがあるので、B0B2線の延長線とB2C2線との角度はαであり、B0’C2線とB2C2またはCC2線との角度もまたαである。点B2を通り、B0’C2線(およびB0B2線)に垂直な直線L1を用いて、B0’C2=L/2+cos(α)×L、およびFB0’=H−sin(α)×Lを求めることができる。ここでLは個々の検出器要素n長さである。したがって、範囲2におけるX線ビームのオフセット角βの範囲は:
【0064】
図17は、X線ビームのオフセット角βが範囲2内であり、点Cが第2の検出器要素上のオフセット角βを有するX線ビームの投影点であり、焦点Fから第2の検出器要素までの距離がH’である環境を示す。
図17に示すように、得られたX線の三角形ΔFB0’’Cでは、次の条件を満たす:FB0’’=H’×cos(β)、B0’’C=H’×sin(β)、およびFC=H’。B2C線の長さがL’であると仮定すると、点B2を通り、B0B2線およびB0’’Cに垂直な線L2を使用して、次の式を得ることができる:
FB0’’=FB0−B0’’B0=H−sin(α)×L’、すなわち、H’×cos(β)=H−sin(α)×L’、および
B0’’C=L/2+cos(α)×L’、すなわち、H’×sin(β)=L/2+cos(α)×L’
上記の2つの式に基づくと、オフセット角βを有するX線ビームの焦点Fから検出器要素2までの距離H’は、次のようであることを確認することができる:
【0068】
図18および19は、X線ビームのオフセット角βが範囲3内である環境を示す。範囲1および2に使用したものと同様の方法を採用することによって、範囲3におけるX線ビームのオフセット角βの範囲は、
【0070】
のように求めることができる。さらに、中間式
【0072】
を使用して、オフセット角βを有するX線ビームの、焦点Fから検出器要素1までの距離H’を求めることができる:
【0076】
図20に示すように、コリメータスリット502のスリットの長手方向の2つの対向エッジは、軸OXに対して対称的に分布されるので、3次元の座標系XYZをスリットの中心Oに確立すると、1つの検出器要素に対応するスリット曲線1および2は、軸OXに対して対称的に分布され、別の検出器要素に対応するスリット曲線3および4は、軸OXに対して対称的に分布され、すなわち:
(1)平面XOZにおけるスリット曲線1上の点の分布は、次の式を満たす:
【0079】
(2)平面XOZにおけるスリット曲線2上の点の分布は、次の式を満たす:
【0082】
(3)平面XOZにおけるスリット曲線3上の点の分布は、次の式を満たす:
【0085】
および
(4)平面XOZにおけるスリット曲線4上の点の分布は、次の式を満たす:
【0088】
したがって、X線検出器112が5つの同一の検出器要素を含み、いかなる2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度も等しい場合に、3次元座標系XYZをコリメータスリット502の中心に確立すると、2次元平面XOZにおいてスリットの長手方向に沿った2つの対向エッジの分布は、次の式により求めることができる:
【0102】
本発明の例示的実施形態について、X線検出器112が5つの同一の検出器要素を含み、いかなる2つの隣接する検出器要素も等しい傾斜角度を有する例を使用して上述したが、本発明はこの特定の実施形態に限定されないことを、当業者には理解されるであろう。
【0103】
図2は、X線検出器112が7つの同一の検出器要素を含み、いかなる2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度も等しい環境を示す。
図2に示すように、7つの検出器要素は、4つの検出器セグメントに分けられ、検出器セグメント1に対応する検出器セグメントの中心、選択されたコリメータスリット502の中心、およびX線管の焦点Fは、検出器セグメント1に対応する検出器要素および選択されたコリメータスリット502に垂直な直線にある。各検出器要素の長さがL、選択されたコリメータスリット502を通過するX線によるX線検出器112上の投影の幅がD、X線管の焦点からX線検出器112までの垂直距離がH、X線管の焦点から選択されたコリメータスリット502までの垂直距離がh、任意の2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度がα、X線管の焦点Fを通り、コリメータスリット面に垂直な平面に対するX線ビームのオフセット角がβ、X線管の焦点FからX線検出器112上のその投影点までの、オフセット角βを有するX線ビームの距離がH’であると仮定すると、
図5に示すように、コリメータスリット502の中心に3次元座標系XYZを確立すると、2次元の平面XOZにおいてスリットの長手方向のコリメータスリット502の2つの対向エッジの分布は、次の式により求めることができる:
【0107】
のとき、すなわち、X線検出器112上のX線ビームの投影が、
図2に示すように検出器セグメント1に位置しているとき、
【0111】
のとき、すなわち、X線検出器112上のX線ビームの投影が、
図2に示すように検出器セグメント2に位置しているとき、
【0115】
のとき、すなわち、X線検出器112上のX線ビームの投影が、
図2に示すように検出器セグメント3に位置しているとき、
【0119】
のとき、すなわち、X線検出器112上のX線ビームの投影が、
図2に示すように検出器セグメント4に位置しているとき、
【0121】
図3の左部分は、X線検出器112が6つの同一の検出器要素を含み、いかなる2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度も等しい環境を示す。
図3に示すように、6つの検出器要素は、4つの検出器セグメントに分けられ、検出器セグメント1に対応する検出器セグメントの中心、選択されたコリメータスリット502の中心、およびX線管の焦点は、検出器セグメント1に対応する検出器要素および選択されたコリメータスリット502に垂直な直線にある。各検出器要素の長さがL、選択されたコリメータスリット502を通過するX線によるX線検出器112上の投影の幅がD、X線管の焦点からX線検出器112までの垂直距離がH、X線管の焦点から選択されたコリメータスリット502までの垂直距離がh、任意の2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度がα、X線管の焦点Fを通り、コリメータスリット面に垂直な平面に対するX線ビームのオフセット角がβ、X線管の焦点FからX線検出器上のその投影点までの、オフセット角βを有するX線ビームの距離がH’であると仮定すると、
図5に示すように、コリメータスリット502の中心に3次元座標系XYZを確立すると、2次元の平面XOZにおいて
図3の左に示す検出器セグメント1〜3に対応する、スリットの長手方向に沿ったコリメータスリット502の2つの対向エッジの部分の分布は、次の式により求めることができる:
【0125】
のとき、すなわち、X線検出器112上のX線ビームの投影が、
図3の左に示すように検出器セグメント1に位置しているとき、
【0129】
のとき、すなわち、X線検出器112上のX線ビームの投影が、
図3の左に示すように検出器セグメント2に位置しているとき、
【0133】
のとき、すなわち、X線検出器112上のX線ビームの投影が、
図3の左に示すように検出器セグメント3に位置しているとき、
【0135】
同様に、2次元平面XOZにおいて
図3の左に示す、検出器セグメント4に対応するコリメータスリット502の2つの対向エッジの部分の分布は、次の式により求めることができる:
【0141】
図4の左部分は、X線検出器112が4つの同一の検出器要素を含み、いかなる2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度も等しい環境を示す。
図4に示すように、4つの検出器要素は、3つの検出器セグメントに分けられ、検出器セグメント1に対応する検出器セグメントの中心、選択されたコリメータスリット502の中心、およびX線管の焦点は、検出器セグメント1に対応する検出器要素および選択されたコリメータスリット502に垂直な直線にある。各検出器要素の長さがL、選択されたコリメータスリット502を通過するX線によるX線検出器112上の投影の幅がD、X線管の焦点からX線検出器112までの垂直距離がH、X線管の焦点から選択されたコリメータスリット502までの垂直距離がh、任意の2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度がα、X線管の焦点Fを通り、コリメータスリット面に垂直な平面に対するX線ビームのオフセット角がβ、X線管の焦点FからX線検出器上のその投影点までの、オフセット角βを有するX線ビームの距離がHであると仮定すると、
図5に示すように、コリメータスリット502の中心に3次元座標系XYZを確立すると、2次元の平面XOZにおいて
図4の左に示す検出器セグメント1〜2に対応する、スリットの長手方向に沿ったコリメータスリット502の2つの対向エッジの部分の分布は、次の式により求めることができる:
【0145】
のとき、すなわち、X線検出器112上のX線ビームの投影が、
図4の左に示すように検出器セグメント1に位置しているとき、
【0149】
のとき、すなわち、X線検出器112上のX線ビームの投影が、
図4の左に示すように検出器セグメント2に位置しているとき、
【0151】
同様に、2次元平面XOZにおいて
図4の左に示す検出器セグメント3に対応するコリメータスリット502の2つの対向エッジの部分の分布は、次の式により求めることができる:
【0157】
図4の右部分は、X線検出器112が3つの同一の検出器要素を含み、いかなる2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度も等しい環境を示す。
図4に示すように、3つの検出器要素は、2つの検出器セグメントに分けられ、検出器セグメント1に対応する検出器セグメントの中心、選択されたコリメータスリット502の中心、およびX線管の焦点は、検出器セグメント1に対応する検出器要素および選択されたコリメータスリット502に垂直な直線にある。各検出器要素の長さがL、選択されたコリメータスリット502を通過するX線によるX線検出器112上の投影の幅がD、X線管の焦点からX線検出器112までの垂直距離がH、X線管の焦点から選択されたコリメータスリット502までの垂直距離がh、任意の2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度がα、X線管の焦点Fを通り、コリメータスリット面に垂直な垂直平面に対するX線ビームのオフセット角がβ、X線管の焦点FからそのX線検出器上の投影点までの、オフセット角βを有するX線ビームの距離がH’であると仮定すると、
図5に示すように、コリメータスリット502の中心に3次元座標系XYZを確立すると、2次元の平面XOZにおいてスリットの長手方向に沿ったコリメータスリット502の2つの対向エッジの分布は、次の式により求めることができる:
【0161】
のとき、すなわち、X線検出器112上のX線ビームの投影が、
図4の右部分に示すように検出器セグメント1に位置しているとき、
【0165】
のとき、すなわち、X線検出器112上のX線ビームの投影が、
図4の右部分に示すように検出器セグメント2に位置しているとき、
【0167】
したがって、2次元平面XOZにおいて、スリットの長手方向に沿った、選択されたコリメータスリット502の2つの対向エッジの分布は、次の因子により統合的に求められる:X線管102の焦点Fと選択されたコリメータスリット502との垂直距離、X線管102の焦点FとX線検出器112との垂直距離、X線検出器112の任意の2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度、X線検出器112の角検出器要素の長さ、選択されたコリメータスリット502を通過するX線によるX線検出器112上の投影の幅、および選択されたコリメータスリット502に垂直で、X線管の焦点Fを通る平面に対する、選択されたコリメータスリットの長手方向の中心線上の様々な点からX線管の焦点Fまでの接続線のオフセット角。これに対応して、2次元平面XOZにおける選択されたコリメータスリット502の2つの長手方向のエッジの分布に基づき、長手方向の選択されたコリメータスリット502の幅の分布を求めることができる。
【0168】
この分野では伝統的に、X線検出器112に投影されるX線ビームの幅D、X線管102の焦点FとX線検出器112との垂直距離H、X線管102の焦点Fとコリメータスリット502との垂直距離hに基づいて、コリメータスリットプロファイルの次の一般的な公式を使用して、2次元平面XOZにおけるコリメータスリット502の2つの長手方向のエッジの分布を計算する:
【0170】
このような式は、X線検出器112の様々な検出器要素の特定の寸法およびそれらの間の位置関係を考慮に入れないので、そのスリットの長手方向の2つのエッジが上記の式を満たすコリメータによりX線検出器112に投影されるX線ビームは、
図21に示すように、波状の、曲がった投影分布を形成する。理想的な、最短直線ライン(beeline)の投影分布と比較すると、曲がった実際の投影分布は、複数のオーバシュートエリアおよびショートシュートエリアを含む。オーバシュートにより対象は余分な放射線照射を受けることになり、ショートシュートは検出エラーを招くことになる。
【0171】
本発明によるコリメータでは、2次元平面XOZにおけるスリットの長手方向に沿った各スリット502の2つの対向エッジの分布は、従来のパラメータだけでなく、X線検出器112の個々の検出器要素間の構造的および位置的関係も考慮に入れる。したがって、装置設置のずれを考慮することなく、このようなコリメータによりX線検出器112に投影されるX線ビームの実際の投影分布は、理想的な、矩形の投影分布に完全に等しいものとなる。設置のずれが存在しても、それは、
図22に示すように、X線検出器112の両端部に少量のショートシュートエリアおよびオーバシュートエリアを生じるにすぎない。
図22は、X線検出器112が7つの検出器要素を含み、設置のずれが存在する環境を示す。
【0172】
図23は、本発明の例示的実施形態によるコリメータスリットの長手方向のエッジの分布を測定するための方法のフローチャート2300を示す。コリメータは、平面ゲーティング装置を含む。ゲーティング装置は、1つまたは複数のスリットを設けられる。複数のスリットは、
図5Aに示すように、スリットの長手方向に平行に並べられ、異なる平均幅を有して、異なる検出要件を満たす。
【0173】
図23に示すように、ステップ2302では、そのスリットの長手方向のエッジプロファイルを測定するコリメータと協働して使用されるX線検出器の構造が測定される。X線検出器は、一列に配置された複数のプレート検出器要素を含むことができ、2つの隣接する検出器要素間には傾斜角度が存在する。検出器要素の数は、3〜7であることが好ましい。X線検出器を形成する複数のX線検出器要素は、同じ幅もしくは異なる幅、および同じ長さもしくは異なる長さを有することがある。2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度は、同じものである、または異なるものであることがある。
図7に示すように、最大平均幅を有するコリメータスリットを通過するX線によるX線検出器上の投影の幅は、X線検出器の幅以下であり、最大長を有するスリットを通過するX線によるX線検出器上の投影の長さは、X線検出器の長さ以下である。
【0174】
説明図を簡単にするために、X線検出器が複数の同一の検出器要素を含み、いかなる2つの隣接する要素間の傾斜角度も等しい環境を例として使用して、本発明の例示的実施形態による方法2300を説明する。
【0175】
X線検出器の構造を測定するステップは、X線検出器の検出器要素の長さL、およびその長手方向のエッジプロファイルを測定するコリメータスリットを通過するX線によるX線検出器上の投影の望ましい幅Dを測定するステップと、任意の2つの隣接する検出器要素間の傾斜角度αを測定するステップとを含む。
【0176】
ステップ2304において、そのスリットの長手方向のエッジプロファイルを測定するコリメータ、X線検出器、およびX線管の間の位置関係、ならびにその長手方向のエッジプロファイルを測定するコリメータスリットを通過するX線による放射線検出器上の望ましい投影幅に関して測定を行う。測定は、X線管の焦点Fとそのスリットの長手方向のエッジプロファイルを測定するコリメータとの垂直距離hを測定することと、X線管の焦点FとX線検出器との垂直距離Hを測定することと、
図5に示すように、そのスリットの長手方向のエッジプロファイルを測定するコリメータのスリットの中心に3次元座標系XYZを確立することとを含む。X線管の焦点Fからその長手方向のエッジプロファイルを測定するコリメータスリットの中心Oまでの接続線は、コリメータスリットの平面に垂直であり、上記接続線の延長線は、
図7に示すように、X線検出器の1つの検出器要素に垂直である。
【0177】
ステップ2304はさらに、X線検出器のどの検出器要素が3次元座標系における軸OYに垂直であるかを判断することを含む。3、5、および7つの検出器要素など、奇数の検出器要素を含むX線検出器については、中央の検出器要素が軸OYに垂直であると判断することができる。4および6つの検出器要素など、偶数の検出器要素を含むX線検出器については、
図2〜4に示すように、中央の左または中央の右の検出器要素が軸OYに垂直であると判断することができる。
【0178】
ステップ2306では、その長手方向のエッジプロファイルを2次元平面XOZにおいて測定するコリメータの2つの対向する長手方向のエッジの分布を、以下に基づいて、すなわち、X線管の焦点Fとそのスリットの長手方向のエッジプロファイルを測定するコリメータとの垂直距離h、X線管102の焦点FとX線検出器との垂直距離H、X線検出器の各検出器要素の長さLその長手方向のエッジプロファイルを測定するコリメータを通過するX線によるX線検出器上の投影の望ましい幅D、X線検出器の隣接する検出器要素間の傾斜角度に基づいて、測定することができる。
【0179】
ステップ2306は、2次元平面YOZに対するOX軸上の様々な点のオフセット角βを測定することと、測定されたオフセット角に基づいてOX軸上の様々な点を通る、X線管の焦点からX線検出器までの距離H’を計算することと、少なくともオフセット角βおよび測定されたH’に従って、測定する必要のあるコリメータスリットの2つの対向する長手方向のエッジのプロファイルを測定することとを含む。
【0180】
具体的には、
図3の右部分に示すように、X線検出器が5つの検出器要素を含み、2つの隣接する検出器要素が、等しい傾斜角度を有する場合、5つの検出器要素は、3つの検出器セグメント1、2、および3に分けられる。
図13に示すように、検出器セグメント1、2、および3の右半分に対応するオフセット角βは、検出器要素ごとに3つの異なる値範囲、すなわちβ範囲1、β範囲2、およびβ範囲3を有し、ここで:
(1)β範囲1については、
【0186】
図14〜19に示すように、オフセット角βの値範囲を測定した後、OX軸上の様々な点を通る、X線管の焦点からX線検出器までの距離H’を、次の式に従って求めることができる:
(1)
【0198】
検出器セグメント1、2、および3の左部分に対応するオフセット角βは、2次元平面対称YOZに関連して検出器セグメント1、2、および3の右部分に対応するオフセット角βと対称を成すので、検出器セグメント1、2、および3の左部分に対応するオフセット角βの値範囲および対応するH’は、同様に求めることができる。
【0199】
その後、オフセット角βおよびH’に基づく次の式に従って、コリメータスリットの2つの長手方向の対向エッジのプロファイルを求めることができる:
【0201】
図4の右部分に示すように、X線検出器が3つの同一の検出器要素を含み、2つの隣接する検出器要素が等しい傾斜角度を有する場合、3つの検出器要素は、検出器セグメント1および2に分けられる。同様に、検出器セグメント1および2の右半分に対応するオフセット角βは、検出器要素ごとに2つの異なる値範囲、すなわちβ範囲1およびβ範囲2を有し、ここで:
(1)β範囲1については、
【0205】
オフセット角βの値範囲を測定した後、OX軸上の様々な点を通る、X線管の焦点からX線検出器までの距離H’を、次の式に従って求めることができる:
(1)
【0213】
検出器セグメント1および2の左部分に対応するオフセット角βは、2次元平面対称YOZに関連して検出器セグメント1および2の右部分に対応するオフセット角βと対称を成すので、検出器セグメント1および2の左部分に対応するオフセット角βの値範囲および対応するH’は、同様に求めることができる。
【0214】
その後、オフセット角βおよびH’に基づく次の式に従って、コリメータスリットの2つの長手方向の対向エッジのプロファイルを求めることができる:
【0216】
図2に示すように、X線検出器が7つの同一の検出器要素を含み、2つの隣接する検出器要素が等しい傾斜角度を有する場合、7つの検出器要素は、4つの検出器セグメント1、2、3、および4に分けられる。同様に、検出器セグメント1、2、3、および4の右半分に対応するオフセット角βは、検出器要素ごとに4つの異なる値範囲、すなわちβ範囲1、β範囲2、β範囲3、およびβ範囲4を有し、ここで:
(1)β範囲1については、
【0224】
オフセット角βの値範囲を測定した後、OX軸上の様々な点を通る、X線管の焦点からX線検出器までの距離H’を、次の式に従って求めることができる:
(1)
【0240】
検出器セグメント1、2、3、および4の左部分に対応するオフセット角βは、2次元平面対称YOZに関連して検出器セグメント1、2、3、および4の右部分に対応するオフセット角βと対称を成すので、検出器セグメント1、2、3、および4の左部分に対応するオフセット角βの値範囲および対応するH’は、同様に求めることができる。
【0241】
その後、オフセット角βおよびH’に基づく次の式に従って、コリメータスリットの2つの長手方向の対向エッジのプロファイルを求めることができる:
【0243】
図4の左部分に示すように、X線検出器が4つの同一の検出器要素を含み、2つの隣接する検出器要素が等しい傾斜角度を有する場合、4つの検出器要素は、検出器セグメント1、2、および3に分けられる。同様に、検出器セグメント1、2、および3の右半分に対応するオフセット角βは、検出器要素ごとに3つの異なる値範囲、すなわちβ範囲1、β範囲2、およびβ範囲3を有し、ここで:
(1)β範囲1については、
【0249】
オフセット角βの値範囲を測定した後、OX軸上の様々な点を通る、X線管の焦点からX線検出器までの距離H’を、次の式に従って求めることができる:
(1)
【0261】
検出器セグメント1および2の左部分に対応するオフセット角βは、2次元平面対称YOZに関連して検出器セグメント1および2の右部分に対応するオフセット角βと対称を成すので、検出器セグメント1および2の左部分に対応するオフセット角βの値範囲および対応するH’は、同様に求めることができる。
【0262】
その後、オフセット角βおよびH’に基づく次の式に従って、コリメータスリットの2つの長手方向の対向エッジのプロファイルを求めることができる:
【0264】
図3の左部分に示すように、X線検出器が6つの同一の検出器要素を含み、2つの隣接する検出器要素が等しい傾斜角度を有する場合、6つの検出器要素は、4つの検出器セグメント1、2、3、および4に分けられる。同様に、検出器セグメント1、2、3、および4の右半分に対応するオフセット角βは、検出器要素ごとに4つの異なる値範囲、すなわちβ範囲1、β範囲2、β範囲3、およびβ範囲4を有し、ここで:
(1)β範囲1については、
【0272】
オフセット角βの値範囲を測定した後、OX軸上の様々な点を通る、X線管の焦点からX線検出器までの距離H’を、次の式に従って求めることができる:
(1)
【0288】
検出器セグメント1、2、および3の左部分に対応するオフセット角βは、2次元平面対称YOZに関連して検出器セグメント1、2、および3の右部分に対応するオフセット角βと対称を成すので、検出器セグメント1、2、および3の左部分に対応するオフセット角βの値範囲および対応するH’は、同様に求めることができる。
【0289】
その後、オフセット角βおよびH’に基づく次の式に従って、コリメータスリットの2つの長手方向の対向エッジのプロファイルを求めることができる:
【0291】
方法2300によりコリメータのスリットプロファイルを測定することにより、このようなコリメータを通過した後にX線検出器に投影されるX線ビームの実際の分布は、装置設置のずれがないとき、投影の理想的な、矩形分布に完全に等しいものとなる。さらに、設置のずれが存在しても、それは、
図22に示すように、X線検出器の両端部に少量のショートシュートエリアおよびオーバシュートエリアがあるにすぎない。
図22は、X線検出器が7つの検出器要素を含み、設置のずれが存在する環境を示す。
【0292】
特定の実施形態を参照して本発明を説明したが、本発明はこうした特定の実施形態に限定されないことを理解されたい。当業者には理解されるように、本発明に対して様々な変更形態、代替形態、変形形態などを作成することができる。例えば、上記の実施形態において、1つのステップまたは構成要素を、複数のステップもしくは構成要素に分割することができ、または逆に、上記の実施形態における複数のステップもしくは構成要素を、1つのステップもしくは1つの構成要素において理解することができる。このような変形物はすべて、これらが本発明の趣旨から逸脱しない限り、保護の範囲内であるとする。また、本明細書および特許請求の範囲で使用する用語は限定的ではなく、説明的なものである。さらに、実際の必要に従って、1つの特定の実施形態で説明した特徴の全部または一部を、別の実施形態に組み入れることができる。