特許 6359925 基板処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6359925

(24)【登録日】2018年6月29日

(45)【発行日】2018年7月18日

(54)【発明の名称】基板処理装置

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/304 20060101AFI20180709BHJP

【ＦＩ】

   H01L21/304 648F

   H01L21/304 644A

【請求項の数】9

【全頁数】18

(21)【出願番号】特願2014-190106(P2014-190106)

(22)【出願日】2014年9月18日

(65)【公開番号】特開2016-63074(P2016-63074A)

(43)【公開日】2016年4月25日

【審査請求日】2017年6月26日

【前置審査】

(73)【特許権者】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】110002310

【氏名又は名称】特許業務法人あい特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】岩尾 通矩

【審査官】 柴山 将隆

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００８−１３０８３５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１３−２１１５２５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平０３−０３９８３８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１１−０６１０３４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−０４０７５６（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００８−０３４５９３（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｌ ２１／３０４

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板を保持しながら回転させる基板保持手段と、
前記基板保持手段に保持されている基板に向けて薬液を吐出する薬液ノズルと、
前記基板保持手段に保持されている基板から飛散した処理液を受け止める筒状の処理液捕獲手段と、
前記薬液ノズルに供給される薬液を貯留する薬液タンク内の薬液を循環させる循環経路を形成する循環配管と、
前記薬液タンクから前記循環配管に供給された薬液を前記薬液ノズルに導く供給配管と、
前記薬液ノズルに向かって前記供給配管内を流れる薬液を通過させる開状態と、前記供給配管から前記薬液ノズルへの薬液の供給を停止する閉状態と、に切替可能な供給バルブと、
前記処理液捕獲手段から前記薬液タンクに薬液に導く回収配管と、
前記薬液タンクに向かって前記回収配管内を流れる薬液を通過させる開状態と、前記回収配管から前記薬液タンクへの薬液の供給を停止する閉状態と、に切替可能な回収バルブと、
前記回収バルブよりも下流の位置で前記回収配管に接続された下流端を含み、前記循環配管内の薬液を前記回収配管に導く分岐配管と、
前記回収配管に向かって前記分岐配管内を流れる薬液を通過させる開状態と、前記分岐配管から前記回収配管への薬液の供給を停止する閉状態と、に切替可能であり、前記回収バルブが、前記回収配管から前記薬液タンクへの薬液の供給を停止する前記閉状態のときに、前記回収配管に向かって前記分岐配管内を流れる薬液を通過させる前記開状態に設定される分岐バルブとを含む、基板処理装置。

【請求項2】

前記回収配管の上流端から前記回収バルブまでの前記回収配管の長さは、前記回収バルブから前記回収配管の下流端までの前記回収配管の長さよりも短い、請求項１に記載の基板処理装置。

【請求項3】

前記処理液捕獲手段および回収バルブは、前記基板処理装置の外壁の中に配置されており、
前記薬液タンクは、前記基板処理装置の外壁の外に配置されている、請求項２に記載の基板処理装置。

【請求項4】

前記処理液捕獲手段に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記回収配管内を前記回収バルブに向かって下流に流れる液体を前記回収配管の外に導く排液配管とをさらに含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置。

【請求項5】

前記供給配管における前記供給バルブよりも下流の領域に洗浄液を導く洗浄液配管をさらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置。

【請求項6】

前記供給配管における前記供給バルブよりも下流の領域に吸引力を伝達する吸引配管をさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置。

【請求項7】

複数の前記基板保持手段と、
前記複数の前記基板保持手段にそれぞれ対応する複数の前記薬液ノズルと、
前記複数の前記基板保持手段にそれぞれ対応する複数の前記処理液捕獲手段と、
前記複数の前記薬液ノズルにそれぞれ対応しており、前記循環配管内の薬液を対応する前記薬液ノズルに導く複数の前記供給配管と、
前記複数の前記供給配管にそれぞれ設けられた複数の前記供給バルブと、
前記複数の前記処理液捕獲手段にそれぞれ対応しており、対応する前記処理液捕獲手段から前記薬液タンクに薬液を導く複数の前記回収配管と、
前記複数の前記回収配管にそれぞれ対応しており、前記循環配管内の薬液を対応する前記回収配管に導く複数の前記分岐配管とを含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置。

【請求項8】

前記循環配管内の圧力を計る圧力計と、
前記循環配管内の圧力を変更する圧力調整バルブと、
前記圧力計の検出値に基づいて前記圧力調整バルブの開度を変更する制御装置とをさらに含む、請求項７に記載の基板処理装置。

【請求項9】

薬液が、ＢＨＦ（ＨＦとＮＨ_４ＦとＨ_２Ｏとを含む混合液）である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基板処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、基板を処理する基板処理装置に関する。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ（Field Emission Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが含まれる。

【背景技術】

【0002】

特許文献１には、基板を一枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置が開示されている。前記基板処理装置は、基板を水平に保持して回転させるスピンチャックと、スピンチャックに保持されている基板の上面に向けて薬液を吐出する薬液ノズルと、スピンチャックを取り囲む筒状のカップとを含む。前記基板処理装置は、さらに、薬液ノズルに供給される薬液を貯留する薬液タンクと、薬液タンク内の薬液を循環させる循環経路を形成する循環配管と、カップから薬液タンクに薬液を導く回収配管とを含む。

【0003】

薬液ノズルからの薬液の吐出が停止されているときは、薬液タンク内の薬液が循環経路を循環しており、薬液ノズルへの薬液の供給が停止されている。薬液ノズルからの薬液の吐出が実行されているときは、薬液タンク内の薬液が、薬液ノズルに供給されている。基板に供給された薬液は、カップによって捕獲され、回収配管によって薬液タンクに回収される。薬液ノズルからの薬液の吐出が停止されると、カップから回収配管への薬液の供給も停止される。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特開２０１１−６１０３４号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

半導体ウエハなどの基板の処理では、ＢＨＦ（Buffered Hydrogen Fluoride：ＨＦとＮＨ_４ＦとＨ_２Ｏとを含む混合液）やＴＭＡＨ（Tetramethylammonium Hydroxide：水酸化テトラメチルアンモニウム）などの濃度が変化し易い薬液が用いられることがある。
薬液がＢＨＦである場合、ＢＨＦ中のＮＨ_４Ｆは、ＨＦとＮＨ_３とに解離する。そのため、ＢＨＦ中のＮＨ_４Ｆの濃度は時間の経過に伴って低下し、ＢＨＦ中のＨＦの濃度は時間の経過に伴って上昇する。ＢＨＦが密閉空間に配置されている場合、ＢＨＦ中のアンモニア（ＮＨ_３）の揮発が抑制されるので、前記の解離反応が比較的進みにくい。その一方で、ＢＨＦが開放空間（気体の出入りが可能な空間）に配置されている場合、ＢＨＦ中のアンモニアの揮発が促進されるので、前記の解離反応が促進され易い。つまり、ＢＨＦが開放空間に配置されている場合、ＢＨＦの濃度が比較的変化し易い。

【0006】

特許文献１の基板処理装置では、基板に供給された薬液がカップから回収配管に供給される。薬液ノズルからの薬液の吐出が停止されると、回収配管への薬液の供給も停止される。薬液ノズルからの薬液の吐出が再び実行されると、基板に供給された薬液が、回収配管内に残留している薬液と共に、薬液タンクに回収される。
特許文献１の薬液がたとえばＢＨＦである場合、薬液の吐出が停止されている時間が長いと、回収配管内に残留しているＢＨＦ中のＨＦの濃度が解離反応により上昇してしまう。ＨＦの濃度が高くなると、ＨＦを主成分とする結晶が液中に析出することもある。このようなＢＨＦが薬液タンクに回収されると、薬液タンク内のＢＨＦの濃度が変化してしまう。薬液タンク内のＢＨＦの量が回収配管内に残留しているＢＨＦの量よりも十分に大きいので、濃度の変化は小さいものの、このような濃度の変化は基板の処理にとって好ましいものではない。

【0007】

そこで、本発明の目的の一つは、基板から回収された薬液の濃度の変化量を抑えることができる基板処理装置を提供することである。

【課題を解決するための手段】

【0008】

前記目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板を保持しながら回転させる基板保持手段と、前記基板保持手段に保持されている基板に向けて薬液を吐出する薬液ノズルと、前記基板保持手段に保持されている基板から飛散した処理液を受け止める筒状の処理液捕獲手段と、前記薬液ノズルに供給される薬液を貯留する薬液タンク内の薬液を循環させる循環経路を形成する循環配管と、前記薬液タンクから前記循環配管に供給された薬液を前記薬液ノズルに導く供給配管と、前記薬液ノズルに向かって前記供給配管内を流れる薬液を通過させる開状態と、前記供給配管から前記薬液ノズルへの薬液の供給を停止する閉状態と、に切替可能な供給バルブと、前記処理液捕獲手段から前記薬液タンクに薬液に導く回収配管と、前記薬液タンクに向かって前記回収配管内を流れる薬液を通過させる開状態と、前記回収配管から前記薬液タンクへの薬液の供給を停止する閉状態と、に切替可能な回収バルブと、前記回収バルブよりも下流の位置で前記回収配管に接続された下流端を含み、前記循環配管内の薬液を前記回収配管に導く分岐配管と、前記回収配管に向かって前記分岐配管内を流れる薬液を通過させる開状態と、前記分岐配管から前記回収配管への薬液の供給を停止する閉状態と、に切替可能であり、前記回収バルブが、前記回収配管から前記薬液タンクへの薬液の供給を停止する前記閉状態のときに、前記回収配管に向かって前記分岐配管内を流れる薬液を通過させる前記開状態に設定される分岐バルブとを含む、基板処理装置である。

【0009】

この構成によれば、供給バルブが開かれると、薬液タンクから循環配管に送られた薬液が、供給配管を通って薬液ノズルに供給され、基板保持手段に保持されている基板に向けて薬液ノズルから吐出される。基板に供給された薬液は、基板の回転によって基板から飛散した後、処理液捕獲手段に受け止められる。処理液捕獲手段に受け止められた薬液は、回収配管を通って薬液タンクに戻る。そのため、供給バルブが開いている期間は、薬液が薬液タンクに向かって回収配管内を流れる。

【0010】

供給バルブが閉じられると、薬液ノズルへの薬液の供給が停止されるので、処理液捕獲手段から回収配管への薬液の供給も停止される。分岐配管の上流端は、循環配管に接続されている。したがって、供給バルブが閉じられていても、薬液タンクから循環配管に送られた薬液が、分岐配管を通って回収配管に供給される。そのため、供給バルブが閉じられている期間も、薬液が薬液タンクに向かって回収配管内を流れる。

【0011】

このように、本発明では、供給バルブが開いているか否かに拘わらず、薬液が薬液タンクに向かって回収配管内を流れる。そのため、供給バルブが閉じられている期間が長い場合であっても、同じ薬液が回収配管に長時間滞在することを防止できる。したがって、濃度が変化し易い薬液を用いる場合であっても、回収配管内に残留している薬液の濃度が大幅に変化したり、薬液中に結晶が析出したりすることを抑制または防止できる。これにより、濃度が大幅に変化した薬液や析出物を含む薬液が薬液タンクに回収されることを抑制または防止でき、基板の処理品質をさらに安定させることができる。

【0012】

さらに、この構成によれば、回収バルブが閉じられると、回収配管の上流部分（回収配管の上流端から回収バルブまでの回収配管の一部）から回収配管の下流部分（回収バルブから回収配管の下流端までの回収配管の一部）への空気の流れが遮断される。これにより、回収配管の下流部分に残留している薬液が、回収配管の上流部分を漂う空気から遮断される。このように、回収バルブを閉じることによって回収配管の下流部分の密閉度を高めることができるので、回収配管の下流部分に残留している薬液の濃度の変化を抑えることができる。
さらに、この構成によれば、分岐バルブが開かれると、薬液タンクから循環配管に送られた薬液が、分岐バルブを通って分岐配管から回収配管に供給される。その一方で、分岐バルブが閉じられると、循環配管から分岐配管に流入した薬液が、分岐バルブで堰き止められる。分岐配管から回収配管に供給される薬液にはポンプ等の供給圧が加わるので、分岐配管から回収配管に薬液が流れている状態では、処理液捕獲手段から回収配管への薬液の回収が妨げられる可能性がある。したがって、分岐配管内を流れる薬液を分岐バルブで一時的に堰き止めることにより、処理液捕獲手段から回収配管に薬液を確実に回収できる。

【0013】

請求項２に記載の発明は、前記回収配管の上流端から前記回収バルブまでの前記回収配管の長さは、前記回収バルブから前記回収配管の下流端までの前記回収配管の長さよりも短い、請求項１に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、回収配管の上流部分が回収配管の下流部分よりも短い。回収バルブが閉じられると、回収配管の下流部分に残留している薬液が、回収配管の上流部分を漂う空気から遮断される。その一方で、回収配管の上流部分は、処理液捕獲手段から回収配管に流入した空気に晒される。したがって、空気に晒される部分（回収配管の上流部分）を短くすることにより、薬液の濃度変化が発生し易い領域を小さくすることができる。

【0014】

請求項３に記載の発明は、前記処理液捕獲手段および回収バルブは、前記基板処理装置の外壁の中に配置されており、前記薬液タンクは、前記基板処理装置の外壁の外に配置されている、請求項２に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、処理液捕獲手段および回収バルブの両方が、基板処理装置の外壁の中に配置されているので、回収バルブが基板処理装置の外壁の外に配置されている場合と比較して、処理液捕獲手段および回収バルブの間隔を狭めることができる。したがって、回収配管の上流端から回収バルブまでの距離を短くすることができ、空気に晒される部分（回収配管の上流部分）を短くすることができる。その一方で、薬液タンクが基板処理装置の外壁の外に配置されているので、薬液タンクおよび回収バルブの両方が基板処理装置の外壁の中に配置されている場合よりも、薬液タンクおよび回収バルブの間隔を広くすることができる。したがって、回収配管の下流端から回収バルブまでの距離を長くすることができ、密閉される部分（回収配管の下流部分）を長くすることができる。

【0015】

請求項４に記載の発明は、前記処理液捕獲手段に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記回収配管内を前記回収バルブに向かって下流に流れる液体を前記回収配管の外に導く排液配管とをさらに含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置である。洗浄液は、水を主成分とする液体である。洗浄液は、純水（脱イオン水：Ｄeionized water）であってもよいし、薬液濃度が低い水溶液（たとえば、１０〜１００ｐｐｍ程度の水溶液）であってもよい。前記洗浄液供給手段は、前記基板保持手段に保持されている基板に向けて洗浄液を吐出するノズルと、前記基板保持手段に向けて洗浄液を吐出するノズルと、前記処理液捕獲手段の内面に向けて洗浄液を吐出するノズルとの少なくとも一つを含む。

【0016】

この構成によれば、洗浄液供給手段によって処理液捕獲手段に供給された洗浄液が、処理液捕獲手段から回収配管に流入する。回収バルブが閉じられているとき、回収配管内を回収バルブに向かって下流に流れる洗浄液は、回収バルブに堰き止められる。そのため、この洗浄液は、回収配管から排液配管に排出される。回収配管の上流部分に残留している薬液は、洗浄液と共に排液配管に排出される。これにより、回収配管の上流部分が洗浄される。したがって、濃度が大幅に変化した薬液や析出物を含む薬液が薬液タンクに回収されることを抑制または防止できる。

【0018】

請求項５に記載の発明は、前記供給配管における前記供給バルブよりも下流の領域に洗浄液を導く洗浄液配管をさらに含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置である。洗浄液は、水を主成分とする液体である。
この構成によれば、供給バルブが閉じられているときに、洗浄液配管内の洗浄液が、供給配管の下流部分（供給バルブから供給配管の下流端までの供給配管の一部）に供給される。供給配管の下流部分に残留している薬液は、洗浄液によって薬液ノズルに押し流され、洗浄液と共に薬液ノズルから吐出される。これにより、供給配管の下流部分と薬液ノズルとが洗浄される。そのため、基板の処理を行う際に、濃度が大幅に変化した薬液や析出物を含む薬液が薬液ノズルから吐出されることを抑制または防止できる。

【0019】

請求項６に記載の発明は、前記供給配管における前記供給バルブよりも下流の領域に吸引力を伝達する吸引配管をさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、供給配管の下流部分に残留している液体が、吸引配管に吸引され、供給配管の下流部分から除去される。また、吸引力が、供給配管を介して吸引配管から薬液ノズルに伝達されるので、薬液ノズルに残留している液体も、吸引配管に吸引され、薬液ノズルから除去される。これにより、供給配管の下流部分と薬液ノズルとに残留している液体が、薬液ノズルの吐出口から落下し、基板や基板保持手段等に付着することを抑制または防止できる。また、基板の処理を行う際に、供給配管の下流部分に残留している液体が薬液ノズルから吐出されることを抑制または防止できる。

【0020】

請求項７に記載の発明は、複数の前記基板保持手段と、前記複数の前記基板保持手段にそれぞれ対応する複数の前記薬液ノズルと、前記複数の前記基板保持手段にそれぞれ対応する複数の前記処理液捕獲手段と、前記複数の前記薬液ノズルにそれぞれ対応しており、前記循環配管内の薬液を対応する前記薬液ノズルに導く複数の前記供給配管と、前記複数の前記供給配管にそれぞれ設けられた複数の前記供給バルブと、前記複数の前記処理液捕獲手段にそれぞれ対応しており、対応する前記処理液捕獲手段から前記薬液タンクに薬液を導く複数の前記回収配管と、前記複数の前記回収配管にそれぞれ対応しており、前記循環配管内の薬液を対応する前記回収配管に導く複数の前記分岐配管とを含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板処理装置である。

【0021】

この構成によれば、同じ薬液タンク内の薬液が、循環配管および複数の供給配管を介して、複数の薬液ノズルに供給される。複数の基板保持手段に保持されている複数枚の基板に供給された薬液は、複数の処理液捕獲手段および複数の回収配管を介して、同じ薬液タンクに回収される。循環配管内の薬液は、複数の分岐配管を介して、複数の回収配管に供給される。したがって、濃度が大幅に変化した薬液や析出物を含む薬液が、複数の回収配管から薬液タンクに回収されることを抑制または防止できる。

【0022】

請求項８に記載の発明は、前記循環配管内の圧力を計る圧力計と、前記循環配管内の圧力を変更する圧力調整バルブと、前記圧力計の検出値に基づいて前記圧力調整バルブの開度を変更する制御装置とをさらに含む、請求項７に記載の基板処理装置である。
この構成によれば、複数の供給配管が同じ循環配管に接続されており、複数の供給バルブがそれぞれ複数の供給配管に設けられている。循環配管内の液圧は、複数の供給バルブの状態、つまり、開いているバルブの数やどのバルブが開いているか等に応じて変化する。また、分岐配管に分岐バルブが設けられている場合、分岐バルブの状態も循環配管内の液圧に影響を与える。循環配管内の液圧が変化すると、薬液ノズルから吐出される薬液の吐出流量が変化してしまう。

【0023】

制御装置は、圧力計の検出値に基づいて循環配管内の圧力（実際の圧力）が設定圧よりも低いか否かを判定する。循環配管内の圧力が設定圧よりも低い場合、制御装置は、圧力調整バルブに循環配管内の圧力を増加させる。具体的には、圧力調整バルブが流量調整バルブの場合、制御装置は、圧力調整バルブの開度を減少させて、圧力調整バルブを通過しようとする薬液に加わる抵抗を増加させる。そのため、圧力調整バルブの上流で循環配管内の圧力が上昇する。これにより、循環配管内の圧力と設定圧との差が減少し、吐出流量の変化が抑制または防止される。

【0024】

請求項９に記載の発明は、薬液が、ＢＨＦ（ＨＦとＮＨ_４ＦとＨ_２Ｏとを含む混合液）である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基板処理装置である。

【図面の簡単な説明】

【0025】

【図1】本発明の一実施形態に係る基板処理装置を上から見た模式図である。

【図2】図１に示す処理ユニットの内部を水平に見た模式図である。

【図3】薬液供給システムを示す模式図である。

【図4】薬液ノズルからの薬液の吐出が停止されている吐出待機中から薬液ノズルが薬液を吐出している吐出実行中に移行するときのタイムチャートである。

【図5】吐出待機中における薬液供給システムを示す模式図である。

【図6】吐出実行中における薬液供給システムを示す模式図である。

【発明を実施するための形態】

【0026】

以下では、本発明の実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置１を上から見た模式図である。
基板処理装置１は、半導体ウエハなどの円板状の基板Ｗを一枚ずつ処理する枚葉式の装置である。
基板処理装置１は、基板Ｗを収容する複数のキャリアＣを保持する複数のロードポートＬＰと、複数のロードポートＬＰから搬送された基板Ｗを薬液等の処理液で処理する複数（たとえば１２台）の処理ユニット２と、複数のロードポートＬＰから複数の処理ユニット２に基板Ｗを搬送する搬送ロボットと、基板処理装置１を制御する制御装置３とを含む。搬送ロボットは、ロードポートＬＰと処理ユニット２との間の経路上で基板Ｗを搬送するインデクサロボットＩＲと、インデクサロボットＩＲと処理ユニット２との間の経路上で基板Ｗを搬送するセンターロボットＣＲとを含む。

【0027】

基板処理装置１は、後述する供給バルブ３７等を収容する複数（４台）のバルブボックス６を含む。処理ユニット２およびバルブボックス６は、基板処理装置１の外壁４の中に配置されており、基板処理装置１の外壁４で覆われている。後述する薬液タンク３１等を収容する複数（４台）の貯留ボックス５は、基板処理装置１の外壁４の外に配置されている。貯留ボックス５は、基板処理装置１の側方に配置されていてもよいし、基板処理装置１が設置されるクリーンルームの下（地下）に配置されていてもよい。

【0028】

１２台の処理ユニット２は、平面視においてセンターロボットＣＲを取り囲むように配置された４つの塔を形成している。各塔は、上下に積層された３台の処理ユニット２を含む。４台の貯留ボックス５は、それぞれ、４つの塔に対応している。同様に、４台のバルブボックス６は、それぞれ、４つの塔に対応している。貯留ボックス５内の薬液タンク３１に貯留されている薬液は、この貯留ボックス５に対応するバルブボックス６を介して、この貯留ボックス５に対応する３台の処理ユニット２に供給される。また、同一の塔を構成する３台の処理ユニット２で基板Ｗに供給された薬液は、この塔に対応するバルブボックス６を介して、この塔に対応する貯留ボックス５内の薬液タンク３１に回収される。

【0029】

図２は、処理ユニット２の内部を水平に見た模式図である。
処理ユニット２は、箱型のチャンバー７と、チャンバー７内で基板Ｗを水平に保持しながら基板Ｗの中央部を通る鉛直な回転軸線Ａ１まわりに基板Ｗを回転させるスピンチャック８と、スピンチャック８に保持されている基板Ｗに向けて処理液を吐出する複数の処理液ノズルと、基板Ｗから排出された処理液を受け止める筒状のカップ１９と含む。

【0030】

スピンチャック８は、水平な姿勢で保持された円板状のスピンベース９と、スピンベース９の上方で基板Ｗを水平な姿勢で保持する複数のチャックピン１０と、スピンベース９の中央部から下方に延びるスピン軸１１と、スピン軸１１を回転させることにより基板Ｗおよびスピンベース９を回転軸線Ａ１まわりに回転させるスピンモータ１２とを含む。スピンチャック８は、複数のチャックピン１０を基板Ｗの周端面に接触させる挟持式のチャックに限らず、非デバイス形成面である基板Ｗの裏面（下面）をスピンベース９の上面に吸着させることにより基板Ｗを水平に保持するバキューム式のチャックであってもよい。

【0031】

処理ユニット２は、スピンチャック８に保持されている基板Ｗの上面に向けて薬液を下方に吐出する薬液ノズル１３と、処理位置（図２で実線で示す位置）と退避位置（図２で二点鎖線で示す位置）との間で薬液ノズル１３を移動させるノズル移動ユニット１４と、薬液ノズル１３の退避位置の下方に配置された有底筒状の待機ポット１５とを含む。薬液ノズル１３および待機ポット１５は、チャンバー７内に配置されている。処理位置は、薬液ノズル１３から吐出された薬液が基板Ｗの上面に着液する位置であり、退避位置は、薬液ノズル１３および基板Ｗが平面視で重ならないように薬液ノズル１３が退避した位置である。薬液は、たとえば、ＢＨＦである。

【0032】

処理ユニット２は、スピンチャック８に保持されている基板Ｗの上面に向けてリンス液を下方に吐出するリンス液ノズル１６を含む。リンス液ノズル１６は、チャンバー７内に配置されている。処理ユニット２は、処理位置と退避位置との間でリンス液ノズル１６を移動させるノズル移動ユニットを備えていてもよい。リンス液ノズル１６は、リンス液バルブ１８が介装されたリンス液配管１７に接続されている。リンス液バルブ１８が開かれると、リンス液が、リンス液配管１７からリンス液ノズル１６に供給され、リンス液ノズル１６から吐出される。リンス液は、たとえば、純水（脱イオン水：Ｄeionized water）である。リンス液は、純水に限らず、炭酸水、電解イオン水、水素水、オゾン水、および希釈濃度（たとえば、１０〜１００ｐｐｍ程度）の塩酸水のいずれかであってもよい。

【0033】

カップ１９は、チャンバー７内に配置されている。カップ１９は、回転軸線Ａ１に向かって斜め上に延びる筒状の傾斜部２０と、傾斜部２０の下端部（外端部）から下方に延びる円筒状の案内部２１と、上向きに開いた環状の溝を形成する液受部２２とを含む。傾斜部２０は、基板Ｗおよびスピンベース９よりも大きい内径を有する円環状の上端を含む。傾斜部２０の上端は、カップ１９の上端に相当する。カップ１９の上端は、平面視で基板Ｗおよびスピンベース９を取り囲んでいる。処理液が基板Ｗに供給されるとき、カップ１９の上端は、基板Ｗよりも上方に配置される。基板Ｗから外方に飛散した処理液は、傾斜部２０によって受け止められた後、案内部２１によって液受部２２内に集められる。

【0034】

制御装置３は、コンピュータである。基板Ｗが処理されるときには、制御装置３がスピンチャック８に基板Ｗを回転させる。その後、制御装置３は、薬液の一例であるＢＨＦを回転している基板Ｗの上面に向けて薬液ノズル１３に吐出させる。これにより、ＢＨＦが基板Ｗの上面全域に供給される（薬液供給工程）。基板Ｗの回転によって基板Ｗから外方に飛散したＢＨＦは、液受部２２に集められる。

【0035】

制御装置３は、薬液ノズル１３からのＢＨＦの吐出を停止させた後、リンス液の一例である純水を回転している基板Ｗに向けてリンス液ノズル１６に吐出させる。これにより、純水が基板Ｗの上面全域に供給され、基板Ｗに付着しているＢＨＦが洗い流される（リンス液供給工程）。基板Ｗの回転によって基板Ｗから外方に飛散した純水は、液受部２２に集められる。

【0036】

制御装置３は、リンス液ノズル１６からの純水の吐出を停止させた後、スピンチャック８に基板Ｗを高回転速度で回転させる。これにより、基板Ｗに付着している純水が遠心力によって基板Ｗの周囲に振り切られる。そのため、基板Ｗから純水が除去され、基板Ｗが乾燥する（乾燥工程）。このようにして、各処理ユニット２で基板Ｗが処理される。
図３は、薬液供給システムを示す模式図である。

【0037】

基板処理装置１は、薬液ノズル１３に供給される薬液を貯留する薬液タンク３１と、薬液タンク３１内の薬液を循環させる循環経路Ｐ１を形成する循環配管３５と、薬液タンク３１内の薬液を循環配管３５に送る送液装置３３と、薬液タンク３１から薬液ノズル１３に供給される薬液の温度を調節する温度調節器３２と、薬液タンク３１から薬液ノズル１３に供給される薬液中の異物を除去するフィルター３４とを含む。薬液タンク３１、送液装置３３、温度調節器３２、およびフィルター３４は、貯留ボックス５内に配置されている。

【0038】

循環配管３５の上流端３５ａおよび下流端３５ｂは、薬液タンク３１内と接続されている。循環配管３５は、薬液タンク３１内の薬液を３つの供給配管３６に導く供給部と、３つの供給配管３６が接続された接続部と、接続部を通過した薬液を薬液タンク３１に導く帰還部とを含む。温度調節器３２は、循環配管３５の供給部に介装されている。温度調節器３２は、薬液タンク３１内に配置されていてもよい。温度調節器３２は、室温（たとえば、２０℃〜３０℃）よりも高い温度から室温よりも低い温度まで範囲内の温度で薬液を加熱または冷却する。送液装置３３によって薬液タンク３１から循環配管３５に送られた薬液は、温度調節器３２によって加熱または冷却された後、薬液タンク３１に戻る。送液装置３３は、薬液タンク３１内の薬液を吸い込んで吸い込んだ薬液を吐出するポンプである。送液装置３３は、薬液タンク３１内の気圧を上昇させることにより薬液タンク３１内の薬液を循環配管３５に送る加圧装置であってもよい。

【0039】

基板処理装置１は、循環配管３５内の薬液を薬液ノズル１３に導く供給配管３６と、供給配管３６の内部を開閉する供給バルブ３７と、洗浄液を供給配管３６に供給する洗浄液配管３８と、洗浄液配管３８の内部を開閉する洗浄液バルブ３９と、吸引力を発生する吸引装置４２と、吸引装置４２の吸引力を供給配管３６の内部に伝達する吸引配管４０と、吸引配管４０の内部を開閉する吸引バルブ４１とを含む。供給バルブ３７、洗浄液バルブ３９、および吸引バルブ４１は、バルブボックス６内に配置されている。

【0040】

供給配管３６の上流端３６ａは、循環配管３５に接続されている。供給配管３６の下流端３６ｂは、薬液ノズル１３に接続されている。他の２つの供給配管３６の上流端３６ａも、循環配管３５に接続されている。他の２つの供給配管３６にはそれぞれ供給バルブ３７が設けられている。３つの供給配管３６は、同一の塔を構成する３台の処理ユニット２にそれぞれ対応している。温度調節器３２は、いずれの供給配管３６の上流端３６ａよりも上流の位置で循環配管３５に接続されている。

【0041】

洗浄液配管３８の上流端は、洗浄液供給源に接続されている。洗浄液は、水を主成分とする液体（たとえば、純水）である。洗浄液配管３８の下流端は、供給バルブ３７よりも下流の位置で供給配管３６に接続されている。吸引配管４０の上流端は、吸引装置４２に接続されている。吸引配管４０の下流端は、供給配管３６および洗浄液配管３８の接続位置よりも下流の位置で供給配管３６に接続されている。

【0042】

基板処理装置１は、カップ１９内の薬液を薬液タンク３１に導く回収配管４３と、回収配管４３の内部を開閉する回収バルブ４４と、カップ１９から回収配管４３に流入した液体を回収配管４３から排出する排液配管４５と、排液配管４５の内部を開閉する排液バルブ４６と、循環配管３５内の薬液を回収配管４３に導く分岐配管４７と、分岐配管４７の内部を開閉する分岐バルブ４８とを含む。回収バルブ４４、排液バルブ４６、および分岐バルブ４８は、バルブボックス６内に配置されている。

【0043】

回収配管４３の上流端４３ａは、カップ１９に接続されている。回収配管４３の下流端４３ｂは、薬液タンク３１内と接続されている。他の２つの回収配管４３の上流端４３ａは、別の２つのカップ１９に接続されており、他の２つの回収配管４３の下流端４３ｂは、同一の薬液タンク３１内と接続されている。３つの回収配管４３は、同一の塔を構成する３台の処理ユニット２にそれぞれ対応している。排液配管４５の上流端４５ａは、回収バルブ４４よりも上流の位置で回収配管４３に接続されている。排液配管４５の下流端は、図示しない排液装置に接続されている。

【0044】

分岐配管４７の上流端４７ａは、いずれの供給配管３６よりも下流の位置で循環配管３５に接続されている。分岐配管４７の下流端４７ｂは、回収バルブ４４よりも下流の位置で回収配管４３に接続されている。他の２つの分岐配管４７の上流端４７ａは、いずれの供給配管３６よりも下流の位置で循環配管３５に接続されている。他の２つの分岐配管４７の下流端４７ｂは、回収バルブ４４よりも下流の位置で他の２つの回収配管４３に接続されている。

【0045】

基板処理装置１は、循環配管３５内の圧力を測定する圧力計４９と、循環配管３５内の圧力を調整する圧力調整バルブ５０とを含む。圧力計４９および圧力調整バルブ５０は、バルブボックス６内に配置されている。
圧力計４９は、いずれの供給配管３６の上流端３６ａよりも上流の位置で循環配管３５に接続されている。圧力計４９は、この位置で循環配管３５内の圧力を測定する。圧力調整バルブ５０は、いずれの分岐配管４７の上流端４７ａよりも下流の位置で循環配管３５に接続されている。圧力調整バルブ５０は、たとえば、その内部を通過する液体の流量を変更する流量調整バルブである。圧力計４９および圧力調整バルブ５０は、制御装置３に接続されている。圧力調整バルブ５０の開度は、制御装置３によって変更される。

【0046】

前述のように、複数の供給配管３６が同じ循環配管３５に接続されており、複数の供給バルブ３７がそれぞれ複数の供給配管３６に設けられている。循環配管３５内の液圧は、複数の供給バルブ３７の状態、つまり、開いているバルブの数やどのバルブが開いているか等に応じて変化する。また、分岐配管４７に分岐バルブ４８が設けられているので、分岐バルブ４８の状態も循環配管３５内の液圧に影響を与える。循環配管３５内の液圧が変化すると、薬液ノズル１３から吐出される薬液の吐出流量が変化してしまう。

【0047】

制御装置３は、循環配管３５内の圧力（実際の圧力）と設定圧との差が減少するように、圧力計４９の検出値に基づいて圧力調整バルブ５０の開度を増加または減少させる。具体的には、制御装置３は、圧力計４９の検出値に基づいて循環配管３５内の圧力が設定圧よりも低いか否かを判定する。循環配管３５内の圧力が設定圧よりも低い場合、制御装置３は、圧力調整バルブ５０の開度を減少させて、圧力調整バルブ５０を通過しようとする薬液に加わる抵抗を増加させる。そのため、圧力調整バルブ５０の上流で循環配管３５内の圧力が上昇する。これにより、循環配管３５内の圧力と設定圧との差が減少し、吐出流量の変化が抑制または防止される。

【0048】

図４は、薬液ノズル１３からの薬液の吐出が停止されている吐出待機中から薬液ノズル１３が薬液を吐出している吐出実行中に移行するときのタイムチャートである。図５は、吐出待機中における薬液供給システムを示す模式図である。図６は、吐出実行中における薬液供給システムを示す模式図である。
図５および図６では、開いているバルブを黒色で示しており、閉じているバルブを白色で示している。図５および図６における太線は、配管内に薬液が存在していることを示している。また、図４では、同時期に実行される動作が、同時刻に実行されるように描いてある。たとえば、時刻Ｔ１において、排液バルブ４６の開状態から閉状態への切替と、分岐バルブ４８の開状態から閉状態への切替とが実行されるように描いてある。しかしながら、この２つの切替は、厳密に同じ時刻に実行されなくてもよい。他の動作についても同様である。

【0049】

以下では、図３および図４を参照する。図５および図６については適宜参照する。
薬液ノズル１３からの薬液の吐出が停止されている吐出待機中から薬液ノズル１３が薬液を吐出している吐出実行中に移行するときは、薬液ノズル１３が処理位置に位置している状態で、供給バルブ３７が開かれる（図４の時刻Ｔ１）。これにより、図６に示すように、循環配管３５内の薬液が、供給配管３６および供給バルブ３７を通って薬液ノズル１３に供給される。そのため、薬液の一例であるＢＨＦが、回転している基板Ｗの上面に向けて薬液ノズル１３から吐出される（前述の薬液供給工程）。また、時刻Ｔ１〜時刻Ｔ２の期間は、分岐バルブ４８が閉じられているので、循環配管３５から分岐配管４７に流入した薬液は、分岐バルブ４８で堰き止められる。したがって、吐出実行中は、分岐配管４７から回収配管４３への薬液の供給が停止されている。

【0050】

薬液ノズル１３から吐出された薬液は、回転している基板Ｗの上面に着液した後、基板Ｗから外方に振り切られる。基板Ｗから排出された薬液は、カップ１９によって受け止められた後、回収配管４３に排出される。時刻Ｔ１〜時刻Ｔ２の期間は、排液バルブ４６が閉じられているので、図６に示すように、回収配管４３から排液配管４５に流入した薬液は、排液バルブ４６で堰き止められる。その一方で、この期間は、回収バルブ４４が開かれているので、図６に示すように、回収配管４３内の薬液は、回収配管４３および回収バルブ４４を通って薬液タンク３１に回収される。そのため、吐出実行中は、回収配管４３の上流端４３ａから回収配管４３の下流端４３ｂまでの領域が薬液で満たされる。

【0051】

薬液の吐出が開始されてから所定時間が経過すると、供給バルブ３７が閉じられる（図４の時刻Ｔ２）。そのため、図５に示すように、循環配管３５から供給配管３６に流入した薬液が供給バルブ３７で堰き止められる。また、供給バルブ３７が閉じられると、回収バルブ４４が閉じられ、排液バルブ４６および分岐バルブ４８が開かれる。したがって、循環配管３５から分岐配管４７に流入した薬液は、分岐バルブ４８を通って回収配管４３に流入する。回収配管４３に流入した薬液は、分岐配管４７および回収配管４３の接続位置から下流に流れ、薬液タンク３１に戻る。また、回収バルブ４４が閉じられているので、図５に示すように、排液配管４５の方に回収配管４３内を逆流する薬液は、回収バルブ４４で堰き止められる。そのため、吐出待機中は、回収配管４３の下流部分（回収バルブ４４から回収配管４３の下流端４３ｂまでの回収配管４３の一部）が薬液で満たされる。

【0052】

薬液の吐出が停止された後は、リンス液バルブ１８が開かれる（図４の時刻Ｔ６）。これにより、リンス液の一例である純水が、回転している基板Ｗの上面に向けてリンス液ノズル１６から吐出される（前述のリンス液供給工程）。基板Ｗに供給された純水は、カップ１９によって受け止められた後、回収配管４３に排出される。このとき、回収バルブ４４が閉じられているので、回収配管４３に流入した純水は、回収バルブ４４に堰き止められる。その一方で、排液バルブ４６が開かれているので、回収配管４３から排液配管４５に流入した純水は、排液バルブ４６を通って排液配管４５から排出される。これにより、回収配管４３の上流部分（回収配管４３の上流端４３ａから回収バルブ４４までの回収配管４３の一部）に残留している薬液が純水で洗い流される。

【0053】

また、供給バルブ３７が閉じられると、それに応じて、吸引バルブ４１が開かれる（図４の時刻Ｔ２）。これにより、吸引装置４２の吸引力が吸引配管４０を介して供給配管３６に伝達される。そのため、供給バルブ３７から薬液ノズル１３までの領域に残留している薬液が、吸引配管４０を介して吸引装置４２に吸引される。供給配管３６および薬液ノズル１３に残留している薬液の排出が開始されてから所定時間が経過すると、ノズル移動ユニット１４が薬液ノズル１３を処理位置から退避位置に移動させる（図４の時刻Ｔ３）。これにより、薬液ノズル１３が待機ポット１５の上方に配置される。

【0054】

薬液ノズル１３が待機ポット１５の上方に配置されると、洗浄液バルブ３９が開かれる（図４の時刻Ｔ３）。これにより、洗浄液の一例である純水が、洗浄液配管３８および供給配管３６を通って薬液ノズル１３に供給され、待機ポット１５の開口部に向けて薬液ノズル１３から吐出される。そのため、供給バルブ３７から薬液ノズル１３までの領域に残留している薬液が、純水で洗い流される。薬液ノズル１３から吐出された液体（純水および薬液の少なくとも一方を含む液体）は、待機ポット１５によって受け止められる。また、時刻Ｔ３〜時刻Ｔ４の期間は、吸引バルブ４１が開かれているので、供給配管３６内の純水が、吸引配管４０を介して吸引装置４２に吸引される。これにより、吸引配管４０内に残留している薬液が純水で洗い流される。

【0055】

洗浄液の供給が開始されてから所定時間が経過すると、洗浄液バルブ３９が閉じられる（図４の時刻Ｔ４）。その後、吸引バルブ４１が閉じられる（図４の時刻Ｔ５）。洗浄液バルブ３９が閉じられることにより、薬液ノズル１３、供給配管３６、および吸引配管４０への純水の供給が停止される。また、洗浄液バルブ３９が閉じられた後に、吸引バルブ４１が閉じられるので、供給バルブ３７から薬液ノズル１３までの領域に残留している純水が、吸引配管４０を介して吸引装置４２に吸引される。同様に、洗浄液バルブ３９から洗浄液配管３８の下流端までの領域に残留している洗浄液が、吸引配管４０を介して吸引装置４２に吸引される。これにより、これらの領域に残留している純水が排出される。

【0056】

以上のように本実施形態では、供給バルブ３７が開かれると、薬液タンク３１から循環配管３５に送られた薬液が、供給配管３６を通って薬液ノズル１３に供給され、スピンチャック８に保持されている基板Ｗに向けて薬液ノズル１３から吐出される。基板Ｗに供給された薬液は、基板Ｗの回転によって基板Ｗから飛散した後、カップ１９に受け止められる。カップ１９に受け止められた薬液は、回収配管４３を通って薬液タンク３１に戻る。そのため、供給バルブ３７が開いている期間は、薬液が薬液タンク３１に向かって回収配管４３内を流れる。

【0057】

供給バルブ３７が閉じられると、薬液ノズル１３への薬液の供給が停止されるので、カップ１９から回収配管４３への薬液の供給も停止される。分岐配管４７の上流端４７ａは、循環配管３５に接続されている。したがって、供給バルブ３７が閉じられていても、薬液タンク３１から循環配管３５に送られた薬液が、分岐配管４７を通って回収配管４３に供給される。そのため、供給バルブ３７が閉じられている期間も、薬液が薬液タンク３１に向かって回収配管４３内を流れる。

【0058】

このように、本実施形態では、供給バルブ３７が開いているか否かに拘わらず、薬液が薬液タンク３１に向かって回収配管４３内を流れる。そのため、供給バルブ３７が閉じられている期間が長い場合であっても、同じ薬液が回収配管４３に長時間滞在することを防止できる。したがって、濃度が変化し易い薬液を用いる場合であっても、回収配管４３内に残留している薬液の濃度が大幅に変化したり、薬液中に結晶が析出したりすることを抑制または防止できる。これにより、濃度が大幅に変化した薬液や析出物を含む薬液が薬液タンク３１に回収されることを抑制または防止でき、基板Ｗの処理品質をさらに安定させることができる。

【0059】

また本実施形態では、回収バルブ４４が閉じられると、回収配管４３の上流部分（回収配管４３の上流端４３ａから回収バルブ４４までの回収配管４３の一部）から回収配管４３の下流部分（回収バルブ４４から回収配管４３の下流端４３ｂまでの回収配管４３の一部）への空気の流れが遮断される。これにより、回収配管４３の下流部分に残留している薬液が、回収配管４３の上流部分を漂う空気から遮断される。このように、回収バルブ４４を閉じることによって回収配管４３の下流部分の密閉度を高めることができるので、回収配管４３の下流部分に残留している薬液の濃度の変化を抑えることができる。

【0060】

また本実施形態では、回収配管４３の上流部分が回収配管４３の下流部分よりも短い。回収バルブ４４が閉じられると、回収配管４３の下流部分に残留している薬液が、回収配管４３の上流部分を漂う空気から遮断される。その一方で、回収配管４３の上流部分は、カップ１９から回収配管４３に流入した空気に晒される。したがって、空気に晒される部分（回収配管４３の上流部分）を短くすることにより、薬液の濃度変化が発生し易い領域を小さくすることができる。

【0061】

また本実施形態では、カップ１９および回収バルブ４４の両方が、基板処理装置１の外壁４の中に配置されているので、回収バルブ４４が基板処理装置１の外壁４の外に配置されている場合と比較して、カップ１９および回収バルブ４４の間隔を狭めることができる。したがって、回収配管４３の上流端４３ａから回収バルブ４４までの距離を短くすることができ、空気に晒される部分（回収配管４３の上流部分）を短くすることができる。その一方で、薬液タンク３１が基板処理装置１の外壁４の外に配置されているので、薬液タンク３１および回収バルブ４４の両方が基板処理装置１の外壁４の中に配置されている場合よりも、薬液タンク３１および回収バルブ４４の間隔を広くすることができる。したがって、回収配管４３の下流端４３ｂから回収バルブ４４までの距離を長くすることができ、密閉される部分（回収配管４３の下流部分）を長くすることができる。

【0062】

また本実施形態では、洗浄液の一例である純水が、基板Ｗを介してリンス液ノズル１６からカップ１９に供給される。リンス液ノズル１６によってカップ１９に供給された純水は、カップ１９から回収配管４３に流入する。回収バルブ４４が閉じられており、排液バルブ４６が開いているとき、回収配管４３内を回収バルブ４４に向かって下流に流れる純水は、回収バルブ４４に堰き止められる。そのため、この純水は、回収配管４３から排液配管４５に排出される。回収配管４３の上流部分に残留している薬液は、純水と共に排液配管４５に排出される。これにより、回収配管４３の上流部分が洗浄される。したがって、濃度が大幅に変化した薬液や析出物を含む薬液が薬液タンク３１に回収されることを抑制または防止できる。

【0063】

また本実施形態では、分岐バルブ４８が開かれると、薬液タンク３１から循環配管３５に送られた薬液が、分岐バルブ４８を通って分岐配管４７から回収配管４３に供給される。その一方で、分岐バルブ４８が閉じられると、循環配管３５から分岐配管４７に流入した薬液が、分岐バルブ４８で堰き止められる。分岐配管４７から回収配管４３に供給される薬液には送液装置３３の供給圧が加わるので、分岐配管４７から回収配管４３に薬液が流れている状態では、カップ１９から回収配管４３への薬液の回収が妨げられる可能性がある。したがって、分岐配管４７内を流れる薬液を分岐バルブ４８で一時的に堰き止めることにより、カップ１９から回収配管４３に薬液を確実に回収できる。

【0064】

また本実施形態では、供給バルブ３７が閉じられているときに、洗浄液の一例である純水が、洗浄液配管３８から供給配管３６の下流部分（供給バルブ３７から供給配管３６の下流端３６ｂまでの供給配管３６の一部）に供給される。供給配管３６の下流部分に残留している薬液は、純水によって薬液ノズル１３に押し流され、純水と共に薬液ノズル１３から吐出される。これにより、供給配管３６の下流部分と薬液ノズル１３とが洗浄される。そのため、基板Ｗの処理を行う際に、濃度が大幅に変化した薬液や析出物を含む薬液が薬液ノズル１３から吐出されることを抑制または防止できる。

【0065】

また本実施形態では、供給配管３６の下流部分に残留している液体が、吸引配管４０に吸引され、供給配管３６の下流部分から除去される。また、吸引力が、供給配管３６を介して吸引配管４０から薬液ノズル１３に伝達されるので、薬液ノズル１３に残留している液体も、吸引配管４０に吸引され、薬液ノズル１３から除去される。これにより、供給配管３６の下流部分と薬液ノズル１３とに残留している液体が、薬液ノズル１３の吐出口から落下し、基板Ｗやスピンチャック８等に付着することを抑制または防止できる。

【0066】

また本実施形態では、同じ薬液タンク３１内の薬液が、循環配管３５および複数の供給配管３６を介して、複数の薬液ノズル１３に供給される。複数のスピンチャック８に保持されている複数枚の基板Ｗに供給された薬液は、複数のカップ１９および複数の回収配管４３を介して、同じ薬液タンク３１に回収される。循環配管３５内の薬液は、複数の分岐配管４７を介して、複数の回収配管４３に供給される。したがって、濃度が大幅に変化した薬液や析出物を含む薬液が、複数の回収配管４３から薬液タンク３１に回収されることを抑制または防止できる。

【0067】

また本実施形態では、温度調節された薬液が常に回収配管４３内を流れるので、回収配管４３の温度が、基板Ｗから回収された薬液とほぼ同じ温度に維持される。そのため、回収配管４３内での薬液の温度の変化量を低減できる。これにより、薬液タンク３１内の薬液と薬液タンク３１に回収される薬液との温度差を低減できる。したがって、薬液タンク３１内の薬液の温度の変化量を低減できる。また薬液によっては、温度が低下することにより析出物が発生する場合がある。しかし、本実施形態では回収配管４３の温度低下が抑制されるため、薬液からの析出物の発生を防止できる。

【0068】

本発明の実施形態の説明は以上であるが、本発明は、前述の実施形態の内容に限定されるものではなく、本発明の範囲内において種々の変更が可能である。
たとえば、前述の実施形態では、回収配管４３の上流部分が、回収配管４３の下流部分よりも短い場合について説明したが、回収配管４３の上流部分の長さは、回収配管４３の下流部分の長さと等しくてもよいし長くてもよい。

【0069】

前述の実施形態では、回収バルブ４４等を収容するバルブボックス６が、基板処理装置１の外壁４の中に配置されており、薬液タンク３１等を収容する貯留ボックス５が、基板処理装置１の外壁４の外に配置されている場合について説明した。しかし、バルブボックス６は、基板処理装置１の外壁４の外に配置されていてもよい。貯留ボックス５は、基板処理装置１の外壁４の中に配置されていてもよい。

【0070】

前述の実施形態では、スピンチャック８に保持されている基板Ｗに向けてリンス液ノズル１６から吐出されたリンス液で回収配管４３の上流部分を洗浄する場合について説明したが、チャンバー７の内部を洗浄するときに用いられた純水で回収配管４３の上流部分を洗浄してもよい。この場合、回転しているスピンベース９の上面に向けて洗浄液ノズルから吐出された純水が、カップ１９を介して回収配管４３の上流部分に供給されてもよいし、カップ１９の内面に向けて洗浄液ノズルから吐出された純水が、回収配管４３の上流部分に供給されてもよい。

【0071】

前述の実施形態では、排液配管４５が回収配管４３に接続されている場合について説明したが、複数の液受部２２がカップ１９に設けられており、基板Ｗから飛散した処理液を処理液の種類に応じて別々の液受部２２に集める場合には、排液配管４５が回収配管４３に接続されていなくてもよい。
前述の実施形態では、洗浄液配管３８が供給配管３６に接続されている場合について説明したが、洗浄液配管３８が省略されてもよい。また、分岐バルブ４８が分岐配管４７に介装されている場合について説明したが、分岐バルブ４８が省略されてもよい。つまり、循環配管３５内の薬液が、常時、分岐配管４７を介して回収配管４３に供給されてもよい。

【0072】

前述の実施形態では、一つの薬液タンク３１内の薬液が、複数の処理ユニット２に供給される場合について説明したが、一つの薬液タンク３１内の薬液は、一台の処理ユニット２だけに供給されてもよい。この場合、圧力計４９および圧力調整バルブ５０は無くてもよい。
前述の実施形態では、供給バルブ３７が供給配管３６に介装され、洗浄液バルブ３９が洗浄液配管３８に介装されている場合について説明したが、供給バルブ３７および洗浄液バルブ３９の代わりに、三方弁を供給配管３６および洗浄液配管３８の接続位置に配置してもよい。同様に、互いに接続された２つの配管に介装された２つのバルブの代わりに、三方弁を当該２つの配管の接続位置に配置してもよい。たとえば、回収バルブ４４および排液バルブ４６の代わりに、三方弁を回収配管４３および排液配管４５の接続位置に配置してもよい。

【0073】

前述の実施形態では、３つの回収配管４３の下流端４３ｂが、同一の薬液タンク３１に接続されている場合について説明したが、１つの回収配管４３の下流端４３ｂが薬液タンク３１に接続され、残り２つの回収配管４３の下流端４３ｂが、前記１つの回収配管４３に接続されてもよい。つまり、３つの回収配管４３は、それぞれ独立して同一の薬液タンク３１に接続されていてもよいし、薬液タンク３１よりも上流の位置で集合していてもよい。

【0074】

前述の実施形態では、図４に示すように、時刻Ｔ２〜時刻Ｔ５まで吸引バルブ４１が開いている場合について説明したが、薬液ノズル１３が退避位置に到達する前に吸引バルブ４１を一時的に閉じて、時刻Ｔ４において洗浄液バルブ３９を閉じる前に、吸引バルブ４１を再び開いてもよい。
前述の実施形態では、ＢＨＦが薬液ノズル１３に供給される場合について説明したが、ＴＭＡＨなどの他の薬液が薬液ノズル１３に供給されてもよい。

【0075】

基板処理装置１が、円板状の基板を処理する装置である場合について説明したが、基板処理装置１は、多角形の基板を処理する装置であってもよい。
前述の全ての実施形態のうちの二つ以上が組み合わされてもよい。

【符号の説明】

【0076】

１ ：基板処理装置
２ ：処理ユニット
３ ：制御装置
４ ：外壁
８ ：スピンチャック（基板保持手段）
１３ ：薬液ノズル
１６ ：リンス液ノズル（洗浄液供給手段）
１９ ：カップ（処理液捕獲手段）
３１ ：薬液タンク
３２ ：温度調節器
３３ ：送液装置
３４ ：フィルター
３５ ：循環配管
３６ ：供給配管
３７ ：供給バルブ
３８ ：洗浄液配管
３９ ：洗浄液バルブ
４０ ：吸引配管
４１ ：吸引バルブ
４２ ：吸引装置
４３ ：回収配管
４４ ：回収バルブ
４５ ：排液配管
４６ ：排液バルブ
４７ ：分岐配管
４８ ：分岐バルブ
４９ ：圧力計
５０ ：圧力調整バルブ
Ｐ１ ：循環経路
Ｗ ：基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】