(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明を実施するための形態】
【0020】
図1において、紙面左右方向は、先後方向(第1方向)であって、紙面左側が先側(第1方向一方側)、紙面右側が後側(第1方向他方側)である。また、紙面上下方向は、左右方向(第1方向に直交する第2方向)であって、紙面上側が左側(第2方向一方側)、紙面下側が右側(第2方向他方側)である。また、紙面紙厚方向は、上下方向(厚み方向、第1方向および第2方向に直交する第3方向)であって、紙面手前側が上側(厚み方向一方側、第3方向一方側)、紙面奥側が下側(厚み方向他方側、第3方向他方側)である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。
【0021】
なお、
図1において、ベース絶縁層6(後述)およびカバー絶縁層8(後述)を省略している。また、
図2においては、ベース絶縁層6を図示し、カバー絶縁層8を省略している。さらに、
図4においては、ベース絶縁層6および第2カバー絶縁層82(後述)を図示し、第1カバー絶縁層81(後述)を省略している。
【0022】
図1および
図5に示すように、回路付サスペンション基板1は、磁気ヘッド90を搭載するスライダ91、および、ピエゾ素子92を実装して、外部基板96および電源99と電気的に接続された状態で、ハードディスクドライブ(図示せず)に搭載される。
【0023】
回路付サスペンション基板1は、先後方向に延びる平帯形状に形成されている。
【0024】
回路付サスペンション基板1は、先端部に配置され、スライダ91およびピエゾ素子92が実装される実装部2と、後端部に配置され、外部基板96、および、電源99に接続される外部接続部3と、実装部2および外部接続部3の間に配置され、先後方向に延びる配線部4とを一体的に備える。
【0025】
また、回路付サスペンション基板1は、金属支持基板5、ベース絶縁層6、導体層7およびカバー絶縁層8を備える。つまり、回路付サスペンション基板1は、積層構造を有しており、具体的には、金属支持基板5、ベース絶縁層6、導体層7およびカバー絶縁層8が、下側から上側に向かって順次積層されて形成されている。
【0026】
金属支持基板5は、平板形状をなし、実装部2に配置されるジンバル部11と、外部接続部3に配置される基板外部接続部12と、配線部4に配置される基板配線部13とを備える。
【0027】
ジンバル部11は、
図3に示すように、金属支持基板5の先端部に配置されている。ジンバル部11の左右方向中央部分には、金属支持基板5を厚み方向に貫通する平面視略矩形状の基板開口部20が形成されている。ジンバル部11は、基板開口部20の左右方向両外側に配置されるアウトリガー部14と、アウトリガー部14の左右方向内側に配置される搭載部15と、アウトリガー部14および搭載部15を連結する搭載部連結部59とを備える。
【0028】
アウトリガー部14は、ジンバル部11の左右両端部であって、先後方向に沿って直線状に延びるように1対として形成されている。
【0029】
搭載部15は、スライダ91(
図4参照)およびピエゾ素子92を搭載するように構成されている。搭載部15は、先後方向に投影したときに、2つのアウトリガー部14の間に位置されるように、配置されている。搭載部15は、左右両外側に向かって開く平面視略H字状に形成されている。すなわち、搭載部15には、左右両端部の先後方向中央部を切り欠く(開口する)1対の切欠部19が形成されている。1対の切欠部19は、金属支持基板5を厚み方向に貫通するように形成されている。搭載部15は、左右方向に長く延びる平面視略矩形状の基板基部16と、基板基部16の先側に間隔を隔てて配置され、左右方向に長く延びる平面視略矩形状の基板ステージ17と、基板基部16および基板ステージ17の左右方向中央部を連結し、先後方向に延びる平面視略矩形状のステージ連結部18とを一体的に備える。
【0030】
基板ステージ17は、基板基部16に比べて、先後方向長さが長く形成されている。そして、基板ステージ17の後端部および先後方向途中部分は、スライダ91を搭載するように構成されるスライダ搭載領域25とされている。
【0031】
搭載部連結部59は、アウトリガー部14の先端部、および、基板基部16の左右両端部を架設するように形成されている。搭載部連結部59は、先側に向かうに従って左右両外側に傾斜する切片状に形成されている。
【0032】
金属支持基板5は、例えば、ステンレス、42アロイ、アルミニウム、銅−ベリリウム、りん青銅などの金属材料から形成され、好ましくは、ステンレスから形成される。金属支持基板5の厚みは、例えば、10μm以上、好ましくは、15μm以上であり、例えば、35μm以下、好ましくは、25μm以下である。
【0033】
ベース絶縁層6は、
図5に示すように、金属支持基板5の上に形成されている。
図2に示すように、ベース絶縁層6は、実装部2に配置されるベース実装部21と、外部接続部3(
図1参照)に配置されるベース外部接続部(図示せず)と、配線部4(
図1参照)に配置されるベース配線部23とを備える。
【0034】
ベース実装部21は、
図2、
図4および
図5に示すように、配線支持部26と、ベース基部27と、ベースステージ28と、ベース第1連結部29と、素子端子形成部30と、ベース第2連結部31とを備える。
【0035】
配線支持部26は、基板開口部20の上に配置されている。具体的には、配線支持部26は、基板開口部20を先後方向に横切るように、配置されている。配線支持部26は、後側に向かって開く平面視略V字形状(あるいはY字形状)に形成されている。
【0036】
ベース基部27は、搭載部15の基板基部16の上に配置されている。具体的には、ベース基部27は、基板基部16における上面において、配線支持部26の先端部から左右両外側に延びる平面視略T字形状に形成されている。
【0037】
ベースステージ28は、搭載部15の基板ステージ17の上に配置されている。ベースステージ28は、ベース枠93と、先側台座ベース絶縁層94とを備える。
【0038】
ベース枠93は、基板ステージ17より外形形状が小さい平面視略矩形枠状に形成されている。具体的には、ベース枠93は、基板ステージ17の先端部および左右両端部と、中央部とを露出する平面視略矩形枠状に形成されている。
図2および
図5に示すように、ベース枠93の中央部、および、後端部の左右方向両端部には、ベース絶縁層6を厚み方向に貫通する1つのベース第1開口部24と、2つのベース第2開口部34(
図5において左側のベース第2開口部34のみ図示される)とが形成されている。
【0039】
ベース第1開口部24は、左右方向に延びる平面視略矩形状に形成されている。
【0040】
2つのベース第2開口部34のそれぞれは、平面視略円形状に形成されている。2つのベース第2開口部34は、左右方向に互いに間隔を隔てて対向配置されている。
【0041】
また、ベース枠93において、2つのベース第2開口部34のそれぞれの周縁部は、接地部75(後述)が形成される後側台座ベース絶縁層95とされる。
【0042】
さらに、ベース枠93において、後側台座ベース絶縁層95およびベース第1開口部24の間における部分は、堰導体層49(後述)が形成される堰ベース絶縁層48とされる。
【0043】
先側台座ベース絶縁層94は、ベース第1開口部24の中央部に配置されている。具体的には、先側台座ベース絶縁層94は、ベース第1開口部24の周面から、内側に間隔を隔て配置されている。先側台座ベース絶縁層94は、左右方向に延びる平面視略形状に形成されている。
【0044】
ベース第1連結部29は、搭載部15のステージ連結部18の上に配置されている。具体的には、ベース第1連結部29は、ベース基部27の左右方向中央部の先端部、および、ベースステージ28の左右方向中央部の後端部を連結するように、形成されている。また、ベース基部27は、搭載部15のステージ連結部18の左右両端部を露出するように、先後方向に延びる平面視略矩形状に形成されている。
【0045】
素子端子形成部30は、切欠部19に臨むように配置されている。つまり、素子端子形成部30は、その下面が搭載部15から露出するように形成されている。素子端子形成部30は、後側素子端子形成部32と、先側素子端子形成部33とを備える。
【0046】
後側素子端子形成部32は、ベース基部27の左右両外側部分のそれぞれの先端縁から先側に向かって延びる平面視略矩形状に形成されている。
図3に示すように、後側素子端子形成部32は、切欠部19の後端部に臨んでいる。後側素子端子形成部32の下面は、切欠部19内に露出している。また、後側素子端子形成部32は、ベース基部27に比べて、薄く形成されている。後側素子端子形成部32の先端部には、ベース絶縁層6を厚み方向に貫通するベース第3開口部87が形成されている。ベース第3開口部87は、平面視略矩形状に形成されている。
【0047】
図2に示すように、先側素子端子形成部33は、ベースステージ28の左右両外側部分のそれぞれの後端縁から後側に向かって延びる平面視略矩形状に形成されている。
図3に示すように、先側素子端子形成部33は、切欠部19の先端部に臨んでいる。
図3および
図5に示すように、先側素子端子形成部33の下面は、切欠部19内に露出している。また、先側素子端子形成部33の後端部には、ベース絶縁層6を厚み方向に貫通するベース第4開口部88が形成されている。ベース第4開口部88は、平面視略矩形状に形成されている。
【0048】
ベース第2連結部31は、
図2に示すように、アウトリガー部14の先端部と、搭載部15における基板ステージ17とを連結する切片状に形成されている。
【0049】
図示しないベース外部接続部は、
図1が参照されるように、外部接続部3において、金属支持基板5の基板外部接続部12の上面に配置されている。
【0050】
ベース配線部23は、
図2に示すように、金属支持基板5における基板配線部13の上に配置されている。より具体的には、ベース配線部23は、ベース実装部2における配線支持部26と、図示しない外部接続部3(
図1参照)におけるベース外部接続部(図示せず)とを接続するパターンに形成されている。
【0051】
ベース絶縁層6は、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテル樹脂、ニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの合成樹脂から形成され、好ましくは、ポリイミド樹脂から形成される。
【0052】
ベース絶縁層6の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、3μm以上、例えば、25μm以下、好ましくは、15μm以下である。
【0053】
ベース第1開口部24の先後方向長さは、例えば、10μm以上、好ましくは、20μm以上であり、また、例えば、500μm以下、好ましくは、400μm以下であり、左右方向長さは、例えば、50μm以上、好ましくは、100μm以上であり、また、例えば、1000μm以下、好ましくは、800μm以下である。
【0054】
図5に示すように、ベース第2開口部34の直径は、例えば、5μm以上、好ましくは、10μm以上であり、また、例えば、100μm以下、好ましくは、90μm以下である。
【0055】
導体層7は、
図1に示すように、ヘッド側端子71と、ピエゾ側端子72と、外部側端子73と、電源端子42と、配線74と、接地部75と、先側台座導体層46とを備える。
【0056】
ヘッド側端子71は、実装部2に複数(4つ)設けられている。具体的には、
図2および5に示すように、複数のヘッド側端子71は、ベース絶縁層6におけるベース枠93の先端部の上面に配置されている。複数のヘッド側端子71は、左右方向に互いに間隔を隔てて、ベース第1開口部24の先端縁に沿うように、整列配置されている。
【0057】
ピエゾ側端子72は、
図3に示すように、実装部2に複数(4つ)設けられている。複数のピエゾ側端子72は、切欠部19内に配置されている。具体的には、ピエゾ側端子72は、ベース第3開口部87およびベース第4開口部88に充填されるように形成されている。なお、
図5が参照されるように、ピエゾ側端子72の下面は、ベース第3開口部87(
図5において図示されず)の周囲の後側素子端子形成部32の下面、および、ベース第4開口部88の周囲の先側素子端子形成部33の下面と、先後方向および左右方向に面一に形成されている。
【0058】
外部側端子73は、
図1に示すように、外部接続部3に複数(4つ)設けられている。具体的には、複数の外部側端子73は、ベース絶縁層6のベース外部接続部(図示せず)の上面に配置されている。複数の外部側端子73は、先後方向に互いに間隔を隔てて対向配置されている。複数の外部側端子73は、外部基板96に電気的に接続される信号端子である。
【0059】
電源端子42は、外部接続部3に2つ設けられている。具体的には、2つの電源端子42は、ベース絶縁層6のベース外部接続部(図示せず)の上面において、外部側端子73の先後両外側に対向配置されている。電源端子42には、電源99に電気的に接続される。
【0060】
配線74は、
図2に示すように、少なくとも実装部2において、複数(8つ)設けられている。配線74は、信号配線43と、電源配線44と、接地配線45とを備える。
【0061】
信号配線43は、
図1に示すように、外部接続部3、配線部4および実装部2にわたって、複数(4つ)設けられている。複数の信号配線43は、
図5に示すように、ベース絶縁層6の上に配置されている。具体的には、複数の信号配線43は、
図1が参照されるように、外部接続部3におけるベース外部接続部(図示せず)の上面において、信号端子41の右端部から先側に屈曲し、配線部4におけるベース配線部23の上面において、先側に向かって延びるように、形成されている。また、
図2に示すように、複数の信号配線43は、実装部2における配線支持部26の上面において、先後方向に延び、続いて、ベース第1連結部29に沿い、その後、ベースステージ28の上面において、略枠状に配線されている。具体的には、複数の信号配線43は、ベース枠93の後端部の中央部において、左右両外側に屈曲し、続いて、後端部の左右両端部から先端部の左右両端部に向かって延び、次いで、左右方向内側に屈曲した後、外部側端子73の先端部に接続されるように、形成されている。複数の信号配線43は、ベース枠93の後端部および左右両端部において、先側に向かって開く平面視略コ字(略U字)形状をなし、かかる部分の複数の信号配線43は、堰導体層49とされている。信号配線43は、磁気ヘッド3(
図5参照)、および、外部基板96(
図1)間に電気信号を伝達する。
【0062】
電源配線44は、
図1に示すように、外部接続部3、配線部4および実装部2にわたって、2つ設けられている。具体的には、2つの電源配線44は、外部接続部3におけるベース外部接続部(図示せず)の上面において、電源端子42の右端部から先側に屈曲し、ベース配線部23の上面において、複数の信号配線43を左右方向に挟むように、先側に向かって延びている。また、
図2に示すように、2つの電源配線44は、配線部4における配線支持部26の上面において、先側に向かって延び、その後、実装部2におけるベース基部27において左右両外側に屈曲した後、ピエゾ側端子72の後端部に接続されている。電源配線44は、ピエゾ素子92(
図3および
図5参照)に電力を供給する。
【0063】
接地配線45は、
図2に示すように、実装部2に2つ設けられている。具体的には、2つの接地配線45は、ベースステージ28および先側素子端子形成部33にわたって配置されている。2つの接地配線45のそれぞれは、ベースステージ28および先側素子端子形成部33において、先後方向に延びる直線状に形成されている。接地配線45の後端部は、ピエゾ側端子72の先端部に接続されている。接地配線45は、ピエゾ素子92を接地する。
【0064】
接地部75は、実装部2に2つ設けられている。具体的には、2つの接地部75のそれぞれは、ベースステージ28の後端部の左右両端部の上に配置されている。詳しくは、2つの接地部75のそれぞれは、
図2および
図5に示すように、平面視において、2つのベース第2開口部34のそれぞれを含む略円形状をなし、ベース第2開口部34の内側面と、ベース第2開口部34から露出する基板ステージ17の上面と、さらには、ベース第2開口部34の周縁部のベースステージ28の上面とにわたって形成されている。すなわち、接地部75は、その中央部が、ベース第2開口部34内に充填されるように形成されている。接地部75の後端部には、接地配線45の先端部が接続されている。また、接地部75は、後側台座導体層を兼ねている。
【0065】
先側台座導体層46は、実装部2に1つ設けられている。先側台座導体層46は、ベース実装部21の上に形成されている。先側台座導体層46は、先側台座ベース絶縁層94の上に配置されている。具体的には、先側台座導体層46は、台座ベース絶縁層94の上面の中央に配置されている。先側台座導体層46は、左右方向に延び、先側台座ベース絶縁層94よりも小さい平面視略矩形状に形成されている。また、先側台座導体層46は、台座ベース絶縁層94の周端部を露出するように形成されている。先側台座導体層46は、2つの接地部75(後側台座導体層)とともに、台座導体層(後述)を構成する。
【0066】
導体層7は、例えば、銅、ニッケル、金、はんだ、またはこれらの合金などの導体材料から形成され、好ましくは、銅から形成されている。
【0067】
導体パターン7の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、3μm以上であり、例えば、20μm以下、好ましくは、12μm以下である。
【0068】
図5に示すように、各配線74の幅W1(厚み方向に対する直交方向の最小寸法の一例)は、例えば、8μm以上、好ましくは、10μm以上であり、例えば、250μm以下、好ましくは、200μm以下である。
【0069】
各接地部75(後側台座導体層)の直径(最大長さ)W2は、例えば、15μm以上、好ましくは、20μm以上であり、また、例えば、200μm以下、好ましくは、180μm以下である。
【0070】
先側台座導体層46の幅W3(先後方向長さ、厚み方向に対する直交方向の最小寸法の一例)は、例えば、15μm以上、好ましくは、20μm以上であり、また、例えば、500μm以下、好ましくは、400μm以下である。
図2に示すように、先側台座導体層46の左右方向長さは、例えば、30μm以上、好ましくは、40μm以上であり、また、例えば、500μm以下、好ましくは、400μm以下である。
【0071】
図5に示すように、各接地部75の直径W2および先側台座導体層46の幅W3は、各配線74(堰導体層49を含む)の幅W1より大きく、具体的には、例えば、1.5倍以上、好ましくは、2倍以上、より好ましくは、50倍以下であり、また、例えば、40倍以下である。
【0072】
カバー絶縁層8は、
図1および
図5が参照されるように、実装部2、外部接続部3および配線部4にわたって、ベース絶縁層6の上に、導体層7を被覆するように、配置されている。カバー絶縁層8は、第1カバー絶縁層81と、第2カバー絶縁層82とを備える。
【0073】
第1カバー絶縁層81は、ベース絶縁層6の外形形状と同様の外形形状に形成されている。第1カバー絶縁層81は、配線74、接地部75および先側台座導体層46の上面および側面を被覆するように、形成されている。また、第1カバー絶縁層81は、ヘッド側端子71、外部側端子73(
図5において図示されず)および電源端子42(
図5において図示されず)の上面を露出するパターンに形成されている。第1カバー絶縁層81は、台座第1カバー絶縁層85と、堰第1カバー絶縁層86とを含む。
【0074】
台座第1カバー絶縁層85は、先側台座導体層46および接地部75(台座導体層))の上面および側面を被覆する。また、台座第1カバー絶縁層85は、先側台座導体層46および接地部75(台座導体層)の上面に対応して、左右方向および先後方向の両方向に広がる平坦部84と、先側台座導体層46および接地部75(台座導体層)の上縁部(側面および上面によって形成され、直角部分を有する稜線部)77に対応する湾曲部83とを有する。台座第1カバー絶縁層85において、平坦部84は、平坦部84の両側に配置される湾曲部83を連結(介在)する。
【0075】
堰第1カバー絶縁層86は、堰導体層49の上面および側面を被覆する。堰第1カバー絶縁層86は、上記した平坦部84を有しない一方、堰導体層49の上縁部77に対応する湾曲部83を有する。
【0076】
各堰導体層49の先後両側に位置する2つの上縁部77に対応する2つの湾曲部83は、上端において連続しており、つまり、台座第1カバー絶縁層85のように、平坦部84を連結(介在)していない。また、各堰導体層49の左右両側に位置する2つの上縁部77に対応する2つの湾曲部83は、上端において連続する。堰第1カバー絶縁層86は、上方に湾曲状に出張る突条部65を有する。
【0077】
第2カバー絶縁層82は、
図4および5に示すように、実装部2に設けられている。第2カバー絶縁層82は、第1カバー絶縁層81の上面に配置されている。第2カバー絶縁層82は、台座第2カバー絶縁層36と、堰第2カバー絶縁層37とを備える。
【0078】
台座第2カバー絶縁層36は、台座第1カバー絶縁層85の上面に配置されている。具体的には、台座第2カバー絶縁層36は、台座第1カバー絶縁層85の平坦部84の上面に配置されている。台座第2カバー絶縁層36は、先側台座第2カバー絶縁層38と、後側台座第2カバー絶縁層39とを備える。
【0079】
先側台座第2カバー絶縁層38は、先側台座導体層46に対応するように配置されており、具体的には、厚み方向に投影したときに、先側台座導体層46に含まれ、左右方向に延びる平面視略矩形状に形成されている。また、先側台座第2カバー絶縁層38は、先後方向および厚み方向に沿って切断したときの断面形状が、先後方向に延びる略矩形状に形成されている。また、
図5において図示されないが、先側台座第2カバー絶縁層38は、左右方向および厚み方向に沿って切断したときの断面形状が、左右方向に延びる矩形状に形成されている。
【0080】
後側台座第2カバー絶縁層39は、2つ設けられており、左右方向に投影した投影面において、先側台座第2カバー絶縁層38の後側に配置されている。2つの後側台座第2カバー絶縁層39のそれぞれは、厚み方向に投影したときに、2つの接地部75(後側台座導体層)のそれぞれに含まれる平面視略円形状に形成されている。後側台座第2カバー絶縁層39は、先後方向および厚み方向に切断したときの断面形状が、先後方向に延びる略矩形状に形成されている。なお、
図5において図示されないが、後側台座第2カバー絶縁層39は、左右方向および厚み方向に切断したときの断面形状が、左右方向に延びる矩形状に形成されている。
【0081】
堰第2カバー絶縁層37は、堰第1カバー絶縁層86の上面に配置されている。堰第2カバー絶縁層37は、堰導体層49に対応する平面視形状に形成されている。すなわち、堰第2カバー絶縁層37の外形形状は、先側に向かって開く略U字(コ字)形状に形成されている。また、堰第2カバー絶縁層37は、平面視において、先側台座第2カバー絶縁層38と、後側台座第2カバー絶縁層39との間に介在されている。詳しくは、堰第2カバー絶縁層37は、平面視において、ベース第1開口部24を収容するように、形成されている。より具体的には、堰第2カバー絶縁層37は、平面視において、その内面が、ベース第1開口部24の周面と間隔を隔てるように、形成されている。また、堰第2カバー絶縁層37は、2つの後側台座第2カバー絶縁層39(接地部75)の先側に間隔を隔てて配置されている。
【0082】
また、堰第2カバー絶縁層37は、断面視において、平坦部を有することなく、堰第1カバー絶縁層86の湾曲部83の上面に沿って、湾曲状(具体的には、面略波形状)に形成されている。堰第2カバー絶縁層37は、台座第2カバー絶縁層36に対して、薄く形成されている。
【0083】
カバー絶縁層8は、ベース絶縁層6と同様の合成樹脂から形成され、好ましくは、ポリイミド樹脂から形成される。
【0084】
カバー絶縁層8の寸法は、適宜設定されている。
【0085】
台座第1カバー絶縁層85の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、2μm以上であり、また、例えば、10μm以下、好ましくは、9μm以下である。なお、台座第1カバー絶縁層85の厚みは、台座第1カバー絶縁層85において、先側台座導体層46の上面から、台座第1カバー絶縁層85の上面までの長さT3である。
【0086】
堰第1カバー絶縁層86の厚みは、台座第1カバー絶縁層85の厚みに比べて、薄い。換言すれば、台座第1カバー絶縁層85の厚みは、堰第1カバー絶縁層86の厚みに比べて、厚い。
【0087】
詳しくは、台座第1カバー絶縁層85は、先側台座導体層46および接地部75のそれぞれの側方に位置する部分から上方に盛り上がり、一方の湾曲部83を形成し、その後、先側台座導体層46および接地部75の上において、平坦部84を形成する。その後、他方の湾曲部83を形成して、下方に落ち込む。そのため、平坦部84の形成に基づいて、台座第1カバー絶縁層85の厚みを十分に確保することができる。
【0088】
対して、堰第1カバー絶縁層86は、堰導体層49(信号配線43)のそれぞれの側方に位置する部分から上方に盛り上がり、一方の湾曲部83を形成し、その後、突条部65を形成して(つまり、平坦部84を形成せず)、他方の湾曲部83に連続して、下方に落ち込む。そのため、湾曲部83が形成されないことから、堰第1カバー絶縁層86の厚みは、台座第1カバー絶縁層85の厚みに比べて、薄い。つまり、台座第1カバー絶縁層85の厚みは、堰第1カバー絶縁層86の厚みに比べて、厚い。
【0089】
台座第1カバー絶縁層85の厚みは、具体的には、堰第1カバー絶縁層86の厚みに対して、例えば、110%以上、好ましくは、120%以上、より好ましくは、130%以上であり、また、例えば、200%以下である。
【0090】
具体的には、堰第1カバー絶縁層86の厚みは、例えば、0.5μm以上、好ましくは、1μm以上であり、また、例えば、9μm以下、好ましくは、8μm以下である。なお、堰第1カバー絶縁層86の厚みは、堰第1カバー絶縁層86において、堰導体層49の上面から、堰第1カバー絶縁層86の上面までの長さT4である。
【0091】
台座第2カバー絶縁層36の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、2μm以上であり、また、例えば、10μm以下、好ましくは、9μm以下である。
【0092】
堰第2カバー絶縁層37の厚みは、例えば、0.5μm以上、好ましくは、1μm以上であり、また、例えば、9μm以下、好ましくは、8μm以下である。
【0093】
そして、この回路付サスペンション基板1は、台座部55と、堰部56とを備える。
【0094】
台座部55は、スライダ91を支持するように構成されている。具体的には、台座部55は、先側台座57と、後側台座58とを備える。
【0095】
先側台座57は、実装部2のスライダ搭載領域25において1つ設けられている。先側台座57は、先側台座ベース絶縁層94と、先側台座ベース絶縁層94の上面に配置される先側台座導体層46と、先側台座導体層46の上面および側面を被覆する台座第1カバー絶縁層85と、先側台座導体層46に対応し、台座第1カバー絶縁層85の上面に配置される台座第2カバー絶縁層36とを備える。つまり、先側台座57は、先側台座ベース絶縁層94と、先側台座導体層46と、台座第1カバー絶縁層85と、台座第2カバー絶縁層36とが下側から上側に向かって順次積層される積層構造を有する。
【0096】
後側台座58は、実装部2において2つ設けられている。2つの後側台座58は、左右方向に投影した投影面において、先側台座57に対して後側に配置されている。2つの後側台座58は、左右方向に互いに間隔を隔てて対向配置されている。2つの後側台座58は、後側台座ベース絶縁層95と、後側台座ベース絶縁層95の上面に配置される接地部75と、接地部75の上面および側面を被覆する台座第1カバー絶縁層85と、接地部75に対応し、台座第1カバー絶縁層85の上面に配置される台座第2カバー絶縁層36とを備える。後側台座58は、後側台座ベース絶縁層95と、接地部75と、台座第1カバー絶縁層85と、台座第2カバー絶縁層36とが下側から上側に向かって順次積層される積層構造を有する。
【0097】
つまり、台座部55は、ベース絶縁層6に含まれる先側台座ベース絶縁層94および後側台座ベース絶縁層95(台座ベース絶縁層)と、導体層7に含まれ、先側台座ベース絶縁層94および後側台座ベース絶縁層95の上面に配置される先側台座導体層46および接地部75(台座導体層)と、第1カバー絶縁層81に含まれ、先側台座導体層46および接地部75の上面および側面を被覆する台座第1カバー絶縁層85と、第2カバー絶縁層82に含まれ、台座第1カバー絶縁層85の上面に配置される先側台座第2カバー絶縁層38および後側台座第2カバー絶縁層39(台座第2カバー絶縁層36)とを備える。
【0098】
そのため、台座部55の厚みT1は、例えば、10μm以上、好ましくは、15μm以上であり、また、例えば、50μm以下、好ましくは、45μm以下である。
【0099】
堰部56は、接着剤22がスライダ搭載領域25から流出することを防止するように構成されている。堰部56は、スライダ搭載領域25に1つ設けられている。堰部56は、堰ベース絶縁層48と、堰ベース絶縁層48の上面に配置される堰導体層49と、堰導体層49の上面および側面を被覆する堰第1カバー絶縁層86と、堰第1カバー絶縁層86の上面に配置される堰第2カバー絶縁層37とを備える。つまり、堰部56は、堰ベース絶縁層48と、堰導体層49と、堰第1カバー絶縁層86と、堰第2カバー絶縁層37とが下側から上側に向かって順次積層される積層構造を有する。
【0100】
そのため、堰部56の厚みT2は、台座部55の厚みT1に比べて、薄い。換言すれば、台座部55の厚みT1は、堰部56の厚みT2に比べて、厚い。堰部56の厚みT2は、台座部55の厚みT1に対して、例えば、99%以下、好ましくは、98%以下、より好ましくは、95%以下であり、また、60%以上である。具体的には、堰部56の厚みT2は、例えば、0.5μm以上、好ましくは、1μm以上であり、また、例えば、10μm以下、好ましくは、8μm以下である。
【0101】
次に、この回路付サスペンション基板1の製造方法と、その製造方法により得られた回路付サスペンション基板1に、スライダ91、ピエゾ素子92、外部基板96および電源99を接続する方法とについて、
図6A〜
図6Dおよび
図7E〜
図7Gを参照して、順次説明する。
【0102】
この方法では、
図6Aに示すように、まず、金属支持基板5を用意する。
【0103】
次いで、
図6Bに示すように、ベース絶縁層6を、金属支持基板5の上に、形成する。具体的には、ベース絶縁層6を、上記した先側台座ベース絶縁層94および後側台座ベース絶縁層95(台座ベース絶縁層)と堰ベース絶縁層48とを含むベース実装部21、ベース外部接続部(図示せず)およびベース配線部23(
図2参照)を含むパターンに形成する。なお、後側素子端子形成部32および先側素子端子形成部33を、後で形成されるベース第2開口部87およびベース第3開口部88(
図3および
図7G参照)に対応する薄肉部40を有するように、形成する。
【0104】
具体的には、感光性の合成樹脂を含むワニスを、金属支持基板5の上に塗布して乾燥させて、ベース皮膜を形成する。その後、ベース皮膜を、図示しないフォトマスクを介して階調露光した後、ベース皮膜を現像し、必要により加熱硬化させる。
【0105】
次いで、
図6Cに示すように、導体層7を、ベース絶縁層6の上に形成する。具体的には、ヘッド側端子71と、ピエゾ側端子72と、外部側端子73(
図1参照)と、電源端子42(
図1参照)と、配線74と、接地部75と、先側台座導体層46とを備えるように、形成する。なお、ピエゾ側端子72を、薄肉部40の上面に形成する。また、接地部75を、接地部75の中央部がベース第2開口部34に充填されて、金属支持基板5の搭載部15の上面に接触し、接地部75の周縁部が、ベース第2開口部34の周縁部のベースステージ28の上面に配置されるように、形成する。
【0106】
導体層7を、例えば、アディティブ法またはサブトラクティブ法によって、上記したパターンに形成する。
【0107】
次いで、
図6Dに示すように、第1カバー絶縁層81を、台座第1カバー絶縁層85と、堰第1カバー絶縁層86とを有する上記したパターンに形成する。
【0108】
第1カバー絶縁層81を形成するには、例えば、感光性の合成樹脂を含むワニスを、金属支持基板5、ベース絶縁層6および導体層7の上に塗布して乾燥させて、カバー皮膜を形成する。この際、カバー皮膜は、台座第1カバー絶縁層85に対応する部分においては、湾曲部83および平坦部84を有する一方、堰第1カバー絶縁層86に対応する部分においては、湾曲部83を有するが、平坦部84を有しない。
【0109】
その後、カバー皮膜を、図示しないフォトマスクを介して露光した後、カバー皮膜を現像し、必要により加熱硬化させる。
【0110】
なお、第1カバー絶縁層81の形成は、上記の方法に制限されず、例えば、上記した合成樹脂から上記したパターンに第1カバー絶縁層81を用意し、これを、公知の接着剤層を介して、ベース絶縁層6および導体層7に貼着することもできる。
【0111】
次いで、
図7Eに示すように、第2カバー絶縁層82を、第1カバー絶縁層81の上に形成する。具体的には、第2カバー絶縁層82を、第1カバー絶縁層81の上面に、台座第2カバー絶縁層36および堰第2カバー絶縁層37を備える上記したパターンに形成する。
【0112】
第2カバー絶縁層82を、第1カバー絶縁層81と同様の方法によって形成する。
【0113】
これにより、台座部55と、堰部56とを形成する。
【0114】
次いで、
図7Fに示すように、金属支持基板5を外形加工する。これによって、実装部2、外部接続部3および配線部4を備える金属支持基板5を形成する。
【0115】
次いで、
図7Gに示すように、ベース絶縁層6における薄肉部40が除去されるように、素子端子形成部30の下端部を除去する。これにより、ピエゾ側端子72の下面をベース第3開口部88およびベース第2開口部87から露出させる。
【0116】
その後、
図7Gの仮想線で示すように、接着剤22を、ベース第1開口部24内に、配置する。なお、接着剤22を、先側台座57を埋設(被覆)するように、配置する。
【0117】
接着剤22は、スライダ91を固定するために配置される。接着剤22は、液状または半固形状であって、流動性の接着剤から調製される。あるいは、接着剤22を、加熱によって流動性を有する固形状の接着剤から調製することもできる。
【0118】
また、導電性接合剤41を、ヘッド側端子71、外部側端子73および電源端子42(
図1参照)の上面と、ピエゾ側端子72の下面とに、配置する。導電性接合剤41は、例えば、低融点のはんだ、または、導電性接着剤などの導電性材料から調製される。
【0119】
その後、
図4および
図5の仮想線で示すように、スライダ91を、スライダ搭載領域25に配置して、接着剤22によって、スライダ搭載領域25に固定する。スライダ91は、先後方向および左右方向に延びる略箱形状に形成されている。
【0120】
具体的には、スライダ91の下面を台座部55の上面(具体的には、第2カバー絶縁層82の上面)に載置する。この際、台座部55の上面に位置する接着剤22は、スライダ91の下面に押圧されて、台座部55の外側に押しのけられる。台座部55の上面は、スライダ91の下面と接触する。一方、堰部56の上面は、スライダ91の下面と上下方向に間隔を隔てられている。
【0121】
また、スライダ91に搭載される磁気ヘッド90を、導電性接合剤41を介して、ヘッド側端子71と電気的に接続する。
【0122】
また、
図3および
図5に示すように、ピエゾ素子92を、切欠部19内に配置して、ピエゾ素子92の電極を、導電性接合剤41を介して、ピエゾ側端子72と電気的に接続する。
【0123】
さらに、
図1の仮想線で示すように、外部基板96を、回路付サスペンション基板1の外部接続部3に配置して、外部基板96の端子を、外部側端子73と電気的に接続する。
【0124】
また、電源99を、回路付サスペンション基板1の外部接続部3に配置して、電源99の端子を、電源端子42と電気的に接続する。
【0125】
そして、この回路付サスペンション基板1では、
図5に示すように、台座部55の厚みT1が、堰部56の厚みT2に比べて、厚い。そのため、スライダ搭載領域25において、台座部55にスライダ91を接触させても、スライダ91と堰部56との接触を防止して、堰部56の損傷を防止することができる。
【0126】
一方、堰部56によって、接着剤22(
図7G参照)がスライダ搭載領域25から流出することを防止して、かかる接着剤22によって、スライダ91をスライダ搭載領域25に確実に固定することができる。
【0127】
具体的には、
図4が参照されるように、接着剤22(
図7G参照)が、堰部56を超えて、堰部56の後側および左右両外側に流出することを防止することができる。
【0128】
また、この回路付サスペンション基板1では、先側台座導体層46および接地部75(台座導体層)の厚み方向に対する直交方向の最小寸法は、堰導体層49の厚み方向に対する直交方向の最小寸法より、大きい。具体的には、
図5に示すように、先側台座導体層46の幅W3および接地部75(後側台座導体層)の直径W2は、堰導体層49(信号配線43)の幅W1より、大きい。
【0129】
そのため、
図5に示すように、台座第1カバー絶縁層85には、平坦部84が形成される一方、堰第1カバー絶縁層86には、平坦部84が形成されない。
【0130】
その結果、台座第1カバー絶縁層85の厚みを、堰第1カバー絶縁層86の厚みより、厚くすることができる。具体的には、座第1カバー絶縁層85における先側台座導体層46の上面から、台座第1カバー絶縁層85の上面までの長さT3を、堰第1カバー絶縁層86における堰導体層49の上面から、堰第1カバー絶縁層86の上面までの長さT4に対して、長くすることができる。
【0131】
そのため、台座部55の厚みT1を、堰部56の厚みT2に比べて、確実に厚くすることができる。
【0132】
また、この回路付サスペンション基板1では、堰導体層49の最小寸法、具体的には、幅W1は、配線74の厚み方向に対する直交方向の最小寸法、具体的には、幅W1と、同一である。そのため、配線74を含む堰導体層49を被覆する堰第1カバー絶縁層86の厚みを、先側台座導体層46および接地部75(台座導体層)を被覆する台座第1カバー絶縁層85の厚みに比べて、確実に薄くすることができる。そのため、堰部56の厚みT2より厚い厚みT1を有する台座部55により支持されるスライダ91が、堰部56と接触することを確実に防止することができる。
【0133】
また、信号配線43の最小寸法が、配線74の幅W1と同一寸法であるので、導体層7を容易に設計することができる。
【0134】
また、この回路付サスペンション基板1では、堰導体層49は、配線74であるので、台座部55より薄い堰部56における配線74の損傷を防止して、配線74の接続信頼性を向上させることができる。
【0135】
なお、上記した一実施形態では、台座部55に、先側台座ベース絶縁層94および後側台座ベース絶縁層95(台座ベース絶縁層)と、先側台座導体層46および接地部75(台座導体層)と、先側台座導体層46および接地部75の上面を被覆する台座第1カバー絶縁層85と、台座第1カバー絶縁層85の上面に配置される先側台座第2カバー絶縁層38および後側台座第2カバー絶縁層39(台座第2カバー絶縁層36)とを備えている。しかし、台座部55の層構成は、上記に限定されない。例えば、図示しないが、台座部55が、先側台座ベース絶縁層94および後側台座ベース絶縁層95(台座ベース絶縁層)を備えず、先側台座導体層46および接地部75(台座導体層)と、台座第1カバー絶縁層85と、先側台座第2カバー絶縁層38および後側台座第2カバー絶縁層39(台座第2カバー絶縁層36)を備えることもできる。
【0136】
また、上記した一実施形態では、堰部56に、堰ベース絶縁層48と、堰導体層49と、堰第1カバー絶縁層86と、堰第2カバー絶縁層37とを備えている。しかし、堰部56の層構成は、上記に限定されない。例えば、図示しないが、堰部56が、堰ベース絶縁層48を備えず、堰導体層49と、堰第1カバー絶縁層86と、堰第2カバー絶縁層37とを備えることもできる。
【0137】
また、上記した一実施形態では、堰導体層49の厚み方向に対する直交方向の最小寸法の一例を、配線74の幅W1としているが、例えば、図示しないが、堰導体層49を、堰導体層49の周囲の配線74の幅W1に比べて、広く、かつ、先側台座導体層46の幅W3および接地部75の直径W2よりも狭く(小さく)設定することもできる。
【0138】
また、上記した一実施形態では、堰導体層49を配線74から形成しているが、例えば、堰導体層49を配線74以外の導体部材から形成することもできる。