特許 6395597 ダイシング用粘着テープおよび半導体チップの製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6395597

(24)【登録日】2018年9月7日

(45)【発行日】2018年9月26日

(54)【発明の名称】ダイシング用粘着テープおよび半導体チップの製造方法

(51)【国際特許分類】

   H01L 21/301 20060101AFI20180913BHJP

【ＦＩ】

   H01L21/78 M

【請求項の数】6

【全頁数】18

(21)【出願番号】特願2014-263574(P2014-263574)

(22)【出願日】2014年12月25日

(65)【公開番号】特開2016-122812(P2016-122812A)

(43)【公開日】2016年7月7日

【審査請求日】2017年9月12日

(73)【特許権者】

【識別番号】000005810

【氏名又は名称】マクセルホールディングス株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100104880

【弁理士】

【氏名又は名称】古部 次郎

(72)【発明者】

【氏名】増田 晃良

(72)【発明者】

【氏名】高城 梨夏

【審査官】 内田 正和

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１２−１１９３９５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−１６９５７３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−１５１７６１（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−０６２３７２（ＪＰ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｌ ２１／３０１

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

複数の半導体素子が形成され、それぞれの半導体素子が封止樹脂により封止された素子基板、またはそれぞれの半導体素子上にレンズ材が形成された素子基板を、複数の半導体チップに分割する際に使用されるダイシング用粘着テープであって、
基材と、
前記基材上に積層され、硬化型のシリコーン系粘着剤及び硬化剤を含む粘着剤層と
を備え、
前記素子基板に対して、官能基としてメチル基およびフェニル基の一方または双方を有するシリコーン樹脂からなる前記封止樹脂側または前記レンズ材側から貼り付けられて使用されることを特徴とするダイシング用粘着テープ。

【請求項2】

前記粘着剤層は、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤と、過酸化物からなる開始剤とを含むことを特徴とする請求項１記載のダイシング用粘着テープ。

【請求項3】

前記開始剤の含有量が、前記過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤１００重量部に対して、０．０１重量部〜１５重量部の範囲であることを特徴とする請求項２記載のダイシング用粘着テープ。

【請求項4】

前記粘着剤層は、付加反応型シリコーン系粘着剤と、架橋剤と、触媒とを含むことを特徴とする請求項１記載のダイシング用粘着テープ。

【請求項5】

前記架橋剤の含有量が、前記付加反応型シリコーン系粘着剤１００重量部に対して、０．０５重量部〜１０重量部の範囲であることを特徴とする請求項４記載のダイシング用粘着テープ。

【請求項6】

複数の半導体素子が基板上に形成された素子基板の当該複数の半導体素子をシリコーン樹脂で覆う被覆工程と、
基材と硬化型のシリコーン系粘着剤および硬化剤を含む粘着剤層とを備える粘着テープを、前記素子基板に対して、前記シリコーン樹脂側から貼り付ける貼付工程と、
前記粘着テープが貼り付けられた前記素子基板を、複数の半導体チップに切断する切断工程と、
前記複数の半導体チップから、前記粘着テープを剥がす剥離工程と
を含む半導体チップの製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、素子基板のダイシングに用いられるダイシング用粘着テープ、およびダイシング用粘着テープを使用した半導体チップの製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、ＬＥＤ（light emitting diode）等を有する半導体チップを作製するために使用されるダイシング用粘着テープとして、アクリル系樹脂からなる接着剤層を有する粘着テープが知られている（特許文献１参照）。
また、ダイシング用粘着テープを使用して半導体チップを作製する方法としては、複数の半導体素子が形成された半導体素子基板の基板側に粘着テープを貼り付け、ダイサーにより半導体素子基板を切断する方法が知られている（特許文献２参照）。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0003】

【特許文献1】特開２０１３−３８４０８号公報

【特許文献2】特開２００５−９３５０３号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0004】

ところで、近年、半導体素子基板を切断して半導体チップを作製する場合に、半導体素子基板の基板側ではなく半導体素子を封止する封止樹脂や半導体素子上に設けられるレンズ材が形成される側に粘着テープを貼り付けてダイシングを行う技術が提案されている。
このように、半導体素子基板に対して封止樹脂やレンズ材が形成される側から粘着テープを貼り付けた場合、粘着力が不足して、半導体チップの飛散等が生じる場合があった。

【0005】

本発明は、複数の半導体素子が形成された素子基板に対して良好な粘着性を有するダイシング用粘着テープ、およびこれを用いた半導体チップの製造方法を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0006】

係る目的のもと、本発明のダイシング用粘着テープは、複数の半導体素子が形成され、それぞれの半導体素子が封止樹脂により封止された素子基板、またはそれぞれの半導体素子上にレンズ材が形成された素子基板を、複数の半導体チップに分割する際に使用されるダイシング用粘着テープであって、基材と、前記基材上に積層され、硬化型のシリコーン系粘着剤及び硬化剤を含む粘着剤層とを備え、前記素子基板に対して、官能基としてメチル基およびフェニル基の一方または双方を有するシリコーン樹脂からなる前記封止樹脂側または前記レンズ材側から貼り付けられて使用されることを特徴とする。
ここで、前記粘着剤層は、過酸化物硬化型シリコーン粘着剤と、過酸化物からなる開始剤とを含むことを特徴とすることができる。さらに、前記開始剤の含有量が、前記過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤１００重量部に対して、０．０１重量部〜１５重量部の範囲であることを特徴とすることができる。さらにまた、前記粘着剤層は、付加反応型シリコーン系粘着剤と、架橋剤と、触媒とを含むことを特徴とすることができる。また、前記架橋剤の含有量が、前記付加反応型シリコーン系粘着剤１００重量部に対して、０．０５重量部〜１０重量部の範囲であることを特徴とすることができる。
さらに本発明を半導体チップの製造方法として捉えると、本発明の半導体チップの製造方法は、複数の半導体素子が基板上に形成された素子基板の当該複数の半導体素子をシリコーン樹脂で覆う被覆工程と、基材と硬化型のシリコーン系粘着剤および硬化剤を含む粘着剤層とを備える粘着テープを、前記素子基板に対して、前記シリコーン樹脂側から貼り付ける貼付工程と、前記粘着テープが貼り付けられた前記素子基板を、複数の半導体チップに切断する切断工程と、前記複数の半導体チップから、前記粘着テープを剥がす剥離工程とを含む。

【発明の効果】

【0007】

本発明によれば、封止樹脂により封止された複数の半導体素子が形成された素子基板に対して良好な粘着性を有するダイシング用粘着テープ、およびこれを用いた半導体チップの製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【0008】

【図1】本実施の形態が適用される粘着テープの構成の一例を示した図である。

【図2】（ａ）〜（ｄ）は、本実施の形態の粘着テープを使用した半導体チップの第１の製造例を示した図である。

【図3】（ａ）〜（ｄ）は、本実施の形態の粘着テープを使用した半導体チップの第２の製造例を示した図である。

【発明を実施するための形態】

【0009】

以下、本発明の実施の形態について説明する。
［粘着テープの構成］
図１は、本実施の形態が適用される粘着テープ１の構成の一例を示した図である。本実施の形態の粘着テープ１は、封止樹脂で封止された複数の半導体素子が形成された半導体素子基板、またはそれぞれの半導体素子上にレンズ材が形成された半導体素子基板のダイシングの用途に使用される。具体的には、本実施の形態の粘着テープ１は、半導体素子基板に対して、シリコーン樹脂からなる封止樹脂側またはシリコーン樹脂からなるレンズ材が形成された側から貼り付けることで、ダイシングに使用される。なお、粘着テープ１の使用方法については、後段にて詳細に説明する。

【0010】

図１に示すように、本実施の形態の粘着テープ１は、基材２と粘着剤層３とが積層された構造を有している。
なお、図示は省略するが、粘着テープ１は、基材２と粘着剤層３との間に必要に応じてアンカーコート層を備えていてもよい。また、基材２の表面（粘着剤層３に対向する面とは反対側の面）に、表面処理が施されていてもよい。さらに、粘着剤層３の表面（基材２に対向する面とは反対側の面）に、剥離ライナーを備えていてもよい。

【0011】

＜基材＞
本実施の形態の粘着テープ１に用いる基材２の材料は、特に限定されるものではなく、例えば金属製、プラスチック製等を用いることができる。具体的には、基材２として、例えば、ステンレススチール、軟質アルミニウム等の金属箔や、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、二軸延伸ポリプロピレン、ポリイミド、アラミド、ポリシクロオレフィン、フッ素系樹脂等の樹脂フィルムを用いることができる。また、用途に応じて基材２には、例えば、アルミニウム箔と樹脂フィルムとをラミネートした複合フィルム、アルミナ、二酸化ケイ素等の金属酸化物薄膜を樹脂フィルムの表面に形成した複合フィルム、およびこれらの複合フィルムをさらに樹脂フィルムとラミネートした複合フィルム等を用いてもよい。
この中でも、基材２としては、ポリエチレンテレフタレートを主成分とする材料を用いることが好ましい。

【0012】

＜粘着剤層＞
本実施の形態の粘着剤層３は、硬化型のシリコーン系粘着剤と、このシリコーン系粘着剤を硬化させるための硬化剤とを含んで構成されている。また、粘着剤層３は、必要に応じて、着色剤等を含んでいてもよい。
粘着剤層３の厚さは、５μｍ〜５０μｍの範囲が好ましく、２０μｍ〜４０μｍの範囲がより好ましい。粘着剤層３の厚さが５μｍ未満の場合には、粘着剤層３に含まれるシリコーン系粘着剤が薄くなるため、粘着テープ１の粘着力が低下しやすい。一方、粘着剤層３の厚さが５０μｍよりも厚い場合には、粘着剤層３の凝集破壊が発生しやすくなり、このような粘着テープ１を用いた場合には、粘着テープ１を剥がした際に、粘着剤が被着物に付着したまま残る糊残りが生じやすくなる。

【0013】

ここで、本実施の形態の粘着剤層３では、硬化型のシリコーン系粘着剤として、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤または付加反応型シリコーン系粘着剤を用いることができる。
以下、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤を用いる場合を粘着剤層３の第１形態、付加反応型シリコーン系粘着剤を用いる場合を粘着剤層３の第２形態として、順に説明する。

【0014】

〔第１形態〕
第１形態の粘着剤層３は、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤と、過酸化物から構成される開始剤（硬化剤）とを含んで構成される。

【0015】

（過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤）
過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤は、例えば、ポリジメチルシロキサン等のオルガノポリシロキサンとオルガノポリシロキサン共重合体レジンとのオルガノポリシロキサン混合物を主剤とした粘着剤である。
過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、信越化学工業株式会社製のＫＲ−１００、ＫＲ−１０１−１０、ＫＲ−１３０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製のＹＲ３３４０、ＹＲ３２８６、ＰＳＡ６１０−ＳＭ、ＸＲ３７−Ｂ６７２２、東レ・ダウコーニング株式会社製のＳＨ４２８０等を用いることができる。

【0016】

（添加剤（改質剤））
過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤は、添加剤として改質剤を含んでもよい。過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤に用いる添加剤（改質剤）としては、例えばポリジメチルシロキサン等のオルガノポリシロキサンとオルガノポリシロキサン共重合体レジン、オルガノポリシロキサン混合物が用いられる。このような添加剤（改質剤）としては、特に限定されるものではないが、例えば、東レ・ダウコーニング株式会社製のＳＤ−７２９２、ＢＹ１５−７０１Ａ、ＳＤ−７２２６、ＳＥ−１８８６Ａ／Ｂ、信越化学工業株式会社製のＸ−９２−１２８、Ｘ−４１−３００３等を用いることができる。

【0017】

この他、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤に対して、ポリジメチルシロキサン等のオルガノポリシロキサンとオルガノポリシロキサン共重合体レジンおよびオルガノポリシロキサン混合物を併せ持つ、付加反応型シリコーン系粘着剤を混合しても、上記の添加剤（改質剤）を用いる場合と同様の改質効果を得ることができる。付加反応型シリコーン系粘着剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、信越化学工業株式会社製のＫＲ−３７００、ＫＲ−３７０１、Ｘ−４０−３２３７−１、Ｘ−４０−３２４０、Ｘ−４０−３２９１−１、Ｘ−４０−３２２９、Ｘ−４０−３２７０、Ｘ−４０−３３０６、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製のＴＳＲ１５１２、ＴＳＲ１５１６、ＸＲ３７−Ｂ９２０４、東レ・ダウコーニング株式会社製のＳＤ４５８０、ＳＤ４５８４、ＳＤ４５８５、ＳＤ４５８６、ＳＤ４５８７、ＳＤ４５６０、ＳＤ４５７０、ＳＤ４６００ＰＦＣ、ＳＤ４５９３、ＤＣ７６５１ＡＤＨＥＳＩＶＥ等を用いることができる。

【0018】

（開始剤）
過酸化物からなる開始剤としては、有機過酸化物が用いられる。開始剤として用いられる有機過酸化物としては、特に限定されるものではないが、例えば、ベンゾイールペルオキシド、ジクミルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサン、１，１´−ジ−ｔ−ブチルペルオキシ−３，３，５−トリメチレンシクロヘキサン、１，３−ジ−（ｔ−ブチルペルオキシ）−ジイソプロピルベンゼン等が挙げられ、市販品としては、例えば、日油株式会社製のナイパーＫ４０等が挙げられる。

【0019】

（含有量）
ここで、第１形態の粘着剤層３における開始剤（有機過酸化物）の含有量は、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤１００質量部に対して、０．０１重量部〜１５重量部の範囲が好ましく、０．０５重量部〜１０重量部の範囲がより好ましく、０．０５重量部〜３．５重量部の範囲がさらに好ましい。また、第１形態の粘着剤層３における添加剤（改質剤）の含有量は、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤１００重量部に対して、０重量部〜５０重量部の範囲が好ましく、０重量部〜３０重量部の範囲がより好ましい。
過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤に対する開始剤および改質剤の含有量を上述した範囲とすることで、粘着剤層３の粘着力および保持力を、ダイシング用の粘着テープ１として好ましい範囲とすることができる。

【0020】

一方、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤に対する開始剤の含有量が過度に小さい場合には、粘着剤層３において過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤が十分に硬化されずに、所望の粘着力を得られない場合がある。また、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤が十分に硬化しなかった場合には、粘着剤層３において凝集破壊が生じやすくなる。この結果、粘着テープ１を半導体素子基板のダイシングに使用した後、得られた半導体チップから粘着テープ１を剥がした際に、糊残りが生じやすくなる。

【0021】

過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤に対する開始剤の含有量が過度に大きい場合には、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤の硬化反応が進行しすぎるため、粘着剤層３が硬くなり、粘着テープ１の粘着力が低下しやすくなる。そして、この粘着テープ１をダイシングに使用した場合には、半導体素子基板を切断する際に、切断片である半導体チップが粘着テープ１から剥がれて飛散しやすくなる。

【0022】

〔第２形態〕
続いて、第２形態の粘着剤層３は、シリコーン系粘着剤として付加反応型シリコーン系粘着剤を含むとともに、硬化剤として、架橋剤および触媒を含んで構成される。また、第２形態の粘着剤層３には、付加反応型シリコーン系粘着剤の急激な付加反応の進行を抑制するための反応制御材を含んで構成してもよい。

【0023】

（付加反応型シリコーン系粘着剤）
付加反応型シリコーン系粘着剤は、１分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合アルケニル基を含有するポリジメチルシロキサン等のオルガノポリシロキサンを主剤とした粘着剤である。なお、付加反応型シリコーン系粘着剤に含まれるオルガノポリシロキサンの分子構造としては、例えば、直鎖状、一部分枝を有する直鎖状、分枝鎖状、網状が例示される。
また、付加反応型シリコーン系粘着剤に含まれるオルガノポリシロキサンが含有するアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基が例示され、特に、ビニル基であることが好ましい。

【0024】

付加反応型シリコーン系粘着剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、信越化学工業株式会社製のＫＲ３７００、ＫＲ３７０１、Ｘ−４０−３２３７−１、Ｘ−４０−３２４０、Ｘ−４０−３２９１−１、Ｘ−４０−３２２９、Ｘ−４０−３２７０、Ｘ−４０−３３０６、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製のＴＳＲ１５１２、ＴＳＲ１５１６、ＸＲ３７−Ｂ９２０４、東レ・ダウコーニング株式会社製のＳＤ４５８０、ＳＤ４５８４、ＳＤ４５８５、ＳＤ４５８６、ＳＤ４５８７、ＳＤ４５６０、ＳＤ４５７０、ＳＤ４６００ＰＦＣ、ＳＤ４５９３、ＤＣ７６５１ＡＤＨＥＳＩＶＥ等があげられる。

【0025】

（添加剤（改質剤））
付加反応型シリコーン系粘着剤は、添加剤として改質剤を含んでもよい。付加反応型シリコーン系粘着剤に用いる添加剤（改質剤）としては、例えばポリジメチルシロキサン等のオルガノポリシロキサンとオルガノポリシロキサン共重合体レジン、オルガノポリシロキサン混合物が用いられる。このような添加剤（改質剤）としては、特に限定されるものではないが、例えば、東レ・ダウコーニング株式会社製のＳＤ−７２９２、ＢＹ１５−７０１Ａ、ＳＤ７２２６、ＳＥ１８８６Ａ/Ｂ、信越化学工業株式会社製のＸ−９２−１２８、Ｘ−４１−３００３等を用いることができる。

【0026】

この他、付加反応型シリコーン系粘着剤に対して、ポリジメチルシロキサン等のオルガノポリシロキサンとオルガノポリシロキサン共重合体レジンおよびオルガノポリシロキサン混合物を併せ持つ、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤を混合しても、上記の添加剤（改質剤）を用いる場合と同様の改質効果を得ることができる。過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、信越化学工業株式会社製のＫＲ−１００、ＫＲ−１０１−１０、ＫＲ−１３０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製のＹＲ３３４０、ＹＲ３２８６、ＰＳＡ６１０−ＳＭ、ＸＲ３７−Ｂ６７２２、東レ・ダウコーニング株式会社製のＳＨ４２８０等を用いることができる。

【0027】

（架橋剤）
付加反応型シリコーン系粘着剤の反応には、架橋剤として、１分子中に少なくとも２個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンが使用される。
架橋剤として使用されるオルガノポリシロキサンの分子構造としては、例えば、直鎖状、一部分枝を有する直鎖状、分枝鎖状、環状、網状が例示される。
付加反応型シリコーン系粘着剤の反応に使用される架橋剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、信越化学株式会社製のＸ−９２−１２２、東レ・ダウコーニング株式会社製のＢＹ２４−７４１等が挙げられる。

【0028】

（触媒）
付加反応型シリコーン系粘着剤の反応には、付加反応型シリコーン系粘着剤と架橋剤との付加反応（ヒドロシリル化）による硬化を促進させるための触媒が使用される。
触媒としては、白金系触媒、ロジウム系触媒、パラジウム系触媒等の周知のヒドロシリル化反応用触媒が使用される。これらの触媒のうち、特に、白金微粉末、白金黒、白金担持シリカ微粉末、白金担持活性炭、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金のオレフィン錯体、白金のアルケニルシロキサン錯体等の白金系触媒は、反応速度が良好であることから好ましい。
付加反応型シリコーン系粘着剤の反応に使用される触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、信越化学工業株式会社製のＣＡＴ−ＰＬ−５０Ｔ、東レ・ダウコーニング株式会社製のＳＲＸ−２１２Ｃａｔ、ＮＣ−２５等が挙げられる。

【0029】

（反応制御剤）
第２形態の粘着剤層３において必要に応じて用いられる反応制御剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、信越化学工業株式会社製のＣＡＴ−ＰＬＲ−２や、東レ・ダウコーニング株式会社製のＢＹ２４−８０８等が挙げられる。

【0030】

（含有量）
ここで、第２形態の粘着剤層３における架橋剤の含有量は、付加反応型シリコーン系粘着剤１００重量部に対して、０．０５重量部〜１０重量部の範囲が好ましく、０．１重量部〜７重量部の範囲がより好ましく、０．１重量部〜２重量部の範囲がさらに好ましい。
また、第２形態の粘着剤層３における添加剤（改質剤）の含有量は、付加反応型シリコーン系粘着剤１００重量部に対して、０重量部〜５０重量部の範囲が好ましく、０重量部〜３０重量部の範囲がより好ましい。
付加反応型シリコーン系粘着剤に対する架橋剤および改質剤の含有量を上述した範囲とすることで、粘着剤層３の粘着力および保持力を、ダイシング用の粘着テープ１として好ましい範囲とすることができる。

【0031】

一方、付加反応型シリコーン系粘着剤に対する架橋剤の含有量が過度に小さい場合には、粘着剤層３において架橋反応が十分に進行せずに、所望の粘着力を得られない場合がある。また、付加反応型シリコーン系粘着剤の架橋反応が十分に進行しなかった場合には、粘着剤層３において凝集破壊が生じやすくなる。この結果、粘着テープ１を半導体素子基板のダイシングに使用した後、得られた半導体チップから粘着テープ１を剥がした際に、糊残りが生じやすくなる。

【0032】

さらに、付加反応型シリコーン系粘着剤に対する架橋剤の含有量が過度に大きい場合には、付加反応型シリコーン系粘着剤の架橋反応が進行しすぎるため、粘着剤層３が硬くなり、粘着テープ１の粘着力が低下しやすくなる。そして、この粘着テープ１をダイシングに使用した場合には、半導体素子基板を切断する際に、切断片である半導体チップが粘着テープ１から剥がれて飛散しやすくなる。

【0033】

また、第２形態の粘着剤層３における触媒の含有量は、特に限定されるものではないが、例えば、付加反応型シリコーン系粘着剤１００重量部に対して、０．０１重量部〜５重量部程度とすることができる。

【0034】

＜アンカーコート層＞
上述したように、本実施の形態の粘着テープ１では、粘着テープ１の製造条件や製造後の粘着テープ１の使用条件等に応じて、基材２と粘着剤層３との間に、基材の種類に合わせたアンカーコート層を設けたり、コロナ処理等の表面処理を施したりしてもよい。これにより、基材２と粘着剤層３との密着力を改善させることが可能になる。

【0035】

＜表面処理＞
基材２の表面（粘着剤層３に対向する面とは反対側の面）には、剥離性改良処理等の表面処理が施されていてもよい。基材２の表面処理に用いられる処理剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、長鎖アルキルビニルモノマー重合物、フッ化アルキルビニルモノマー重合物、ポリビニルアルコールカルバメート、アミノアルキド系樹脂等の非シリコーン系の剥離処理剤等を用いることができる。このような非シリコーン系の剥離処理剤としては、例えば、一方社油脂工業株式会社製のピーロイル１０５０、ピーロイル１２００等が挙げられる。

【0036】

＜剥離ライナー＞
また、粘着剤層３の表面（基材２に対向する面とは反対側の面）には、必要に応じて剥離ライナーを設けてもよい。剥離ライナーとしては、紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート等のフィルムに、粘着剤層３に含まれるシリコーン系粘着剤との離型性を高めるための剥離処理を施したものを用いることができる。剥離ライナーの剥離処理に用いる材料としては、特に限定されないが、例えば、フロロシリコーン、長鎖アルキルビニルモノマー重合物、アミノアルキド系樹脂等の材料を用いることができる。

【0037】

＜粘着テープの厚さ＞
以上説明したような構成を有する粘着テープ１の全体としての厚さは、２０μｍ〜２００μｍの範囲が好ましい。
粘着テープ１の厚さが２０μｍよりも薄い場合には、粘着テープ１を半導体素子基板のダイシングに用いた場合に、形成された半導体チップを粘着テープ１から剥がし取ることが困難になる場合がある。
また、粘着テープ１の厚さが２００μｍよりも厚い場合には、粘着テープ１を半導体素子基板の封止樹脂側から貼り付ける際に、粘着テープ１が封止樹脂の凹凸に追従しにくくなる。この結果、粘着テープ１と封止樹脂との接着面積が小さくなり、ダイシングの際に半導体チップが飛散しやすくなるおそれがある。

【0038】

［粘着テープの製造方法］
続いて、本実施の形態の粘着テープ１の製造方法について説明する。
なお、上述した第１形態の過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤を含む粘着剤層３を有する粘着テープ１と、第２形態の付加反応型シリコーン系粘着剤を含む粘着剤層３を有する粘着テープ１とでは、同様の製造方法により製造することができる。

【0039】

粘着テープ１を製造する際には、まず、トルエンや酢酸エチル等の汎用の有機溶剤に、硬化型のシリコーン系粘着剤および硬化剤を溶解させ、粘着剤溶液を得る。続いて、この粘着剤溶液を、必要に応じて表面処理やアンカーコート層の形成を行った基材２の表面に、コンマコータ等を用いて所定の厚さになるように塗布する。
そして、粘着剤溶液が塗布された基材２を、６０℃〜１６０℃の温度で、数分〜数十分程度加熱することで、粘着剤溶液を硬化させ、粘着剤層３を形成する。
以上の工程により、図１に示したように、基材２の上に粘着剤層３が積層された粘着テープ１を得ることができる。

【0040】

［粘着テープの使用方法］
上述したように、本実施の形態の粘着テープ１は、半導体素子基板のダイシングに用いられる。ここで、半導体素子基板とは、樹脂等の基板上に、ＬＥＤ（Light emitting diode）等の半導体素子が複数形成されたものをいう。なお、このような半導体素子基板では、通常、半導体素子を温度や湿度等の外部環境の変化から保護するために、半導体素子を覆うように封止樹脂が設けられる。また、このような半導体素子基板では、ＬＥＤ等の半導体素子から出射された光を効果的に取り出すために、それぞれの半導体素子上にレンズ材を設ける場合がある。

【0041】

半導体素子基板を切断して複数の半導体チップを得るための方法としては、例えば以下のような方法が従来、知られている。
まず、半導体素子基板の基板側からダイシング用の粘着テープを貼り付けるとともに、ダイサー等により半導体素子基板を、粘着テープを貼り付けた側とは反対側である半導体素子が形成される側から切断する。そして、切断により形成されたそれぞれの半導体チップを粘着テープから剥がし取ることで、複数の半導体チップを得る。

【0042】

しかし、このように半導体素子基板の基板側からダイシング用の粘着テープを貼り付けて、半導体素子基板の切断を行った場合、切断面（半導体チップの基板側面）に欠落が生じる所謂ダレが発生したり、切断面が粗くなったりする等の課題がある。
そこで、近年では、このような課題を解決するために、半導体素子基板に対して、基板側ではなく、半導体素子が形成される側、すなわち半導体素子を封止する封止樹脂やレンズ材が形成される側からダイシング用の粘着テープを貼り付けて、半導体素子基板を切断する方法が提案されている。

【0043】

ここで、従来、半導体素子基板を切断するために使用されるダイシング用の粘着テープとしては、例えばアクリル樹脂から構成される粘着剤層を有するものが使用されている。
しかし、このような従来の粘着テープを、半導体素子基板の半導体素子が形成される側（封止樹脂側、レンズ材側）から貼り付けて半導体素子基板のダイシングを行うと、例えば、封止樹脂と粘着テープとの粘着力やレンズ材と粘着テープとの粘着力が不十分な場合には、ダイシング時に半導体チップが飛散する等の問題が生じるおそれがある。

【0044】

従来、半導体素子用の封止樹脂としては、電気特性や耐熱性に優れるエポキシ樹脂が利用されているが、エポキシ樹脂は、短波長のＬＥＤや高出力のＬＥＤに使用した場合に変色しやすい等の問題がある。
したがって、ＬＥＤ等の半導体素子用の封止樹脂としては、近年では、シリコーン樹脂を用いる場合が多い。

【0045】

半導体素子用の封止樹脂として用いられるシリコーン樹脂としては、官能基としてメチル基およびフェニル基の双方または一方を含有するシリコーン樹脂、すなわち、官能基としてメチル基を含有するシリコーン樹脂、メチル基とフェニル基との双方を含有するシリコーン樹脂、およびフェニル基を含有するシリコーン樹脂が挙げられる。官能基としてメチル基およびフェニル基の双方または一方を含有するシリコーン樹脂は、波長４００ｎｍ〜８００ｎｍの光に対する光透過率が８８％以上、屈折率が１．４１以上とともに高い。このため、ＬＥＤ等の半導体素子用の封止樹脂として用いた場合、半導体素子から出射された光を効率的にパッケージの外部に取り出すことができ、光取り出し効率が向上する。
これらのシリコーン樹脂の中でも、官能基としてフェニル基を含有するシリコーン樹脂を用いることで、メチル基のみを含有するシリコーン樹脂を用いる場合と比較して、より半導体素子からの光の取り出し効率が向上する。

【0046】

メチル基を含有するシリコーン樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、信越化学工業株式会社製のＫＥＲ−２３００、ＫＥＲ−２４６０、ＫＥＲ-２５００Ｎ、ＫＥＲ−２６００、ＫＥＲ−２７００、ＫＥＲ−２９００、Ｘ−３２−２５２８、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製のＩＶＳ４３１２、ＩＶＳ４３１２、ＸＥ１４−Ｃ２０４２、ＩＶＳ４５４２、ＩＶＳ４５４６、ＩＶＳ４６２２、ＩＶＳ４６３２、ＩＶＳ４７４２、ＩＶＳ４７５２、ＩＶＳＧ３４４５、ＩＶＳＧ０８１０、ＩＶＳＧ５７７８、ＸＥ１３−Ｃ２４７９、ＩＶＳＭ４５００、東レ・ダウコーニング株式会社製のＯＥ−６３５１、ＯＥ−６３３６、ＯＥ−６３０１等があげられる。

【0047】

メチル基とフェニル基との双方を含有するシリコーン樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、信越化学工業株式会社製ＫＥＲ−６０７５、ＫＥＲ-６１５０、ＫＥＲ−６０２０等があげられる。

【0048】

フェニル基を含有するシリコーン樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、信越化学工業株式会社製のＫＥＲ−６１１０、ＫＥＲ-６０００、ＫＥＲ−６２００、ＡＳＰ−１１１１、ＡＳＰ−１０６０、ＡＳＰ−１１２０、ＡＳＰ−１０５０Ｐ、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製のＸＥ１４−Ｃ２５０８、東レ・ダウコーニング株式会社製のＯＥ−６５２０、ＯＥ−６５５０、ＯＥ−６６３１、ＯＥ−６６３６、ＯＥ−６６３５、ＯＥ−６６３０等があげられる。

【0049】

また、上述したように、半導体素子基板では、半導体素子から出射される光の取り出し効率を向上させる等の目的で、それぞれの半導体素子上に、上述したシリコーン樹脂からなるレンズ材を設ける場合がある。半導体素子上にレンズ材を設ける方法としては、例えば、上述したシリコーン樹脂からなりそれぞれの半導体素子を覆う封止樹脂をレンズ形状に成形したり、上述したシリコーン樹脂からなるレンズ材をそれぞれの半導体素子を封止する封止樹脂上にさらに取り付けたりする等が挙げられる。

【0050】

ところで、シリコーン樹脂は、例えばエポキシ樹脂等と比較して離型性が高い性質を有している。したがって、封止樹脂としてシリコーン樹脂を使用した半導体素子基板やシリコーン樹脂からなるレンズ材を形成した半導体素子基板に対して、例えばアクリル樹脂系の粘着テープを封止樹脂またはレンズ材を形成した側から貼り付けた場合には、封止樹脂またはレンズ材であるシリコーン樹脂と粘着テープとの接着力が小さくなりやすい。この結果、半導体素子基板の切断時に、上述した半導体チップの飛散等の問題がより生じやすくなる。

【0051】

これに対し、本実施の形態の粘着テープ１は、上述したように、粘着剤層３が硬化型のシリコーン系粘着剤および硬化剤を含んで構成されることで、半導体素子基板のダイシングを行う場合に封止樹脂またはレンズ材を形成した側から貼り付けて使用した場合であっても、半導体素子基板の封止樹脂との接着力を良好に保つことができる。そして、従来の粘着テープと比較して、半導体素子基板のダイシングを行う場合に、半導体チップの飛散等の発生を抑制することができる。

【0052】

以下、本実施の形態の粘着テープ１の使用方法、および本実施の形態の粘着テープ１を使用した半導体チップの製造方法について、詳細に説明する。
ここでは、まず、複数の半導体素子をまとめて封止樹脂で封止した半導体素子基板を分割して半導体チップを製造する第１の製造例について説明する。図２（ａ）〜（ｄ）は、本実施の形態の粘着テープを使用した半導体チップの第１の製造例を示した図である。

【0053】

本実施の形態では、まず、例えば樹脂材料等からなる基板１０１上に、複数の半導体素子１０２を積載し、半導体素子基板１００を作成する。なお、半導体素子１０２は、例えばＬＥＤ素子であって、図示は省略するが、例えば通電により発光する発光層等を含む複数の半導体層が積層されて構成され、上部には電極が形成されている。
次に、半導体素子基板１００の基板１０１上に形成された複数の半導体素子１０２を、シリコーン樹脂からなる封止樹脂１０３でまとめて封止する（封止工程）。なお、この例では、複数の半導体素子１０２を封止樹脂１０３によりまとめて封止しているが、個々の半導体素子１０２を、封止樹脂１０３により個別に封止してもよい。なお、この例では、封止工程が、半導体素子１０２をシリコーン樹脂で覆う被覆工程に対応する。

【0054】

続いて、図２（ａ）に示すように、粘着テープ１の粘着剤層３が半導体素子基板１００の封止樹脂１０３と対向するように、粘着テープ１と半導体素子基板１００とを貼り合わせる（貼付工程）。
次いで、図２（ｂ）、（ｃ）に示すように、粘着テープ１と半導体素子基板１００の封止樹脂１０３とを貼り合わせた状態で、切断予定ラインＸに沿って、半導体素子基板１００をダイサー等によって切断する（切断工程）。この例では、粘着テープ１が貼り付けられた半導体素子基板１００を、基板１０１側から切断している。また、図２（ｃ）に示すように、この例では、半導体素子基板１００を全て切り込む所謂フルカットを行っている。

【0055】

続いて、半導体素子基板１００を切断することにより形成された半導体チップ２００を粘着テープ１から剥がし取る（ピックアップする）ことで、図２（ｄ）に示すように、個片化された半導体チップ２００を得ることができる（剥離工程）。

【0056】

続いて、複数の半導体素子のそれぞれにレンズ材を形成した半導体素子基板を分割して半導体チップを製造する第２の製造例について説明する。図３（ａ）〜（ｄ）は、本実施の形態の粘着テープを使用した半導体チップの第２の製造例を示した図である。なお、ここでは、図２（ａ）〜（ｄ）に示した第１の製造例と同様の工程については、説明を省略する。

【0057】

半導体チップの第２の製造例では、図３（ａ）に示すように、半導体素子基板１００の基板１０１上に形成された複数の半導体素子１０２のそれぞれの上に、シリコーン樹脂からなるレンズ材１０４を形成する（レンズ形成工程）。なお、この例では、レンズ形成工程が、半導体素子１０２をシリコーン樹脂で覆う被覆工程に対応する。
レンズ材１０４を形成する方法としては、シリコーン樹脂からなりそれぞれの半導体素子１０２を覆う封止樹脂をレンズ形状に成型してレンズ材１０４とする方法や、それぞれの半導体素子１０２を覆う封止樹脂上にシリコーン樹脂からなるレンズ材１０４を取り付ける方法等が挙げられる。

【0058】

ここで、半導体素子１０２を覆う封止樹脂をレンズ形状に成型してレンズ材１０４とする方法としては、特に限定されないが、例えば、圧縮成型、インジェクション成型、トランスファー成型、印刷成型等が挙げられる。
また、それぞれの半導体素子１０２を覆う封止樹脂上にレンズ材１０４を取り付ける方法としては、特に限定されないが、例えば、ディスペンス法等が挙げられる。

【0059】

続いて、図３（ａ）に示すように、粘着テープ１の粘着剤層３が半導体素子基板１００に形成されたそれぞれのレンズ材１０４と対向するように、粘着テープ１と半導体素子基板１００とを貼り合わせる（貼付工程）。
続いて、図３（ｂ）、（ｃ）に示すように、粘着テープ１と半導体素子基板１００のレンズ材１０４とを貼り合わせた状態で、切断予定ラインＸに沿って、半導体素子基板１００をダイサー等によって切断する（切断工程）。この例では、切断予定ラインＸは、隣接する半導体素子１０２上に形成されたレンズ材１０４同士の間の領域に設定される。

【0060】

続いて、半導体素子基板１００を切断することにより形成された半導体チップ２００を粘着テープ１から剥がし取る（ピックアップする）ことで、図３（ｄ）に示すように、個片化され、それぞれにレンズ材１０４が形成された半導体チップ２００を得ることができる（剥離工程）。

【0061】

上述したように、本実施の形態の粘着テープ１では、粘着剤層３が硬化型のシリコーン系粘着剤と硬化剤とを含んで構成される。これにより、粘着テープ１をダイシングに使用する場合に、半導体素子基板１００の封止樹脂１０３またはレンズ材１０４が形成される側から貼り付けた場合であっても、半導体素子基板１００と粘着テープ１との接着力を良好に保つことが可能になる。
特に、近年では、半導体素子１０２を封止する封止樹脂１０３や半導体素子１０２上に設けるレンズ材１０４として離型性の高いシリコーン樹脂を使用することが多い。これに対し、本実施の形態の粘着テープ１は、上述した構成を有することで、シリコーン樹脂からなる封止樹脂１０３やレンズ材１０４に対しても良好な接着力を有する。
この結果、本実施の形態の粘着テープ１は、半導体素子基板１００のダイシングに使用した場合に、半導体チップ２００の飛散を抑制することができる。

【0062】

特に、図３（ａ）〜（ｄ）に示すように、レンズ材１０４は、通常、外表面が球面や非球面等からなり、粘着テープ１をレンズ材１０４側から貼り付ける場合、粘着テープ１の被着面が曲面となっている。通常、粘着テープ１の被着面が曲面となっている場合、被着面が平面の場合と比較して、粘着テープ１と被着面との接着力が低くなりやすい。これに対し、本実施の形態の粘着テープ１はレンズ材１０４を構成するシリコーン樹脂に対して良好な接着力を有するため、粘着テープ１を曲面であるレンズ材１０４側から貼り付けた場合であっても、半導体チップ２００の飛散を抑制することができる。

【0063】

さらに、本実施の形態の粘着テープ１の粘着剤層３に含まれる硬化型のシリコーン系粘着剤は、上述したように封止樹脂１０３やレンズ材１０４と良好な粘着力を有する一方で、離型性が高い性質を有している。これにより、本実施の形態では、半導体素子基板１００のダイシングにより得られた半導体チップ２００を粘着テープ１から剥がす際に、半導体チップ２００に粘着剤が付着する所謂糊残りの発生を抑制することができる。

【0064】

通常、例えば粘着剤層がアクリル系の粘着剤で構成される粘着テープを半導体素子基板のダイシングに用いる場合、切断後の半導体チップを粘着テープから剥がし取る際には、予め粘着テープに対して紫外線を照射して、粘着剤層の粘着性を失わせる必要がある。一方、本実施の形態の粘着テープ１の場合には、紫外線を照射する工程を行うことなく、半導体チップ２００を粘着テープ１から剥がすことが可能である。
したがって、本実施の形態の粘着テープ１を半導体素子基板１００のダイシングに使用することで、半導体チップ２００の製造工程を簡易化することが可能になっている。

【0065】

なお、図２（ａ）〜（ｄ）および図３（ａ）〜（ｄ）で説明した方法は、粘着テープ１を用いた半導体チップの製造方法の一例であり、粘着テープ１の使用方法は、上記の方法に限定されない。すなわち、本実施の形態の粘着テープ１は、ダイシングに際して、封止樹脂にて封止された複数の半導体素子、またはそれぞれにレンズ材が形成された複数の半導体素子を有する半導体素子基板に貼り付けられるものであれば、上記の方法に限定されることなく使用することができる。

【実施例】

【0066】

続いて、実施例および比較例を用いて本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。

【0067】

本発明者は、粘着剤層３として過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤を用いた第１形態、および、粘着剤層３として付加反応型シリコーン系粘着剤を用いた第２形態のそれぞれについて、硬化剤（開始剤、架橋剤）の添加量を異ならせて粘着テープ１の作製を行い、作製した粘着テープ１の評価を行った。
以下、各実施例および各比較例について詳細に説明する。

【0068】

１．粘着テープ１の作製
（実施例１〜実施例４）
トルエンに、オルガノポリシロキサンからなる過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤（信越化学工業株式会社製ＫＲ１０１−１）と、メチル過酸化ベンゾイルからなる開始剤（日油株式会社製ナイパーＫ４０）とを溶解させ、粘着剤溶液を調整した。なお、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤および開始剤の含有量は、表１に示したように調整した。
続いて、この粘着剤溶液を、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる基材２上に塗布した後、１６０度の温度で３分間、加熱することで、厚さ３０μｍの粘着剤層３を形成し、総厚１０５μｍの粘着テープ１を得た。

【0069】

（実施例５〜８）
トルエンに、分子内にビニルシリル基を有するオルガノポリシロキサンからなる付加反応型シリコーン系粘着剤（信越化学工業株式会社製Ｘ−４０−３２３７−１）と、白金金族系触媒（信越化学工業株式会社製ＣＡＴ−ＰＬ−５０Ｔ）と、分子内にヒドロシリル基を有するオルガノポリシロキサンからなる架橋剤（信越化学工業株式会社製Ｘ−９２−１２２）とを溶解させ、粘着剤溶液を調整した。なお、付加反応型シリコーン系粘着剤、触媒および架橋剤の含有量は、表１に示したように調整した。
続いて、この粘着剤溶液を、厚さ７５μｍのＰＥＴフィルムからなる基材２の上に塗布した後、１２０度の温度で３分間、加熱することで、厚さ３０μｍの粘着剤層３を形成し、総厚１０５μｍの粘着テープ１を得た。

【0070】

（比較例１）
粘着剤層３における開始剤の含有量を０とした以外は、実施例１〜実施例４と同様にして、粘着テープ１を得た。

【0071】

（比較例２）
粘着剤層３における架橋剤の含有量を０とした以外は、実施例５〜実施例８と同様にして、粘着テープ１を得た。

【0072】

（比較例３）
粘着剤層３として、アクリル系の粘着剤を用いた以外は、実施例１〜８と同様にして、粘着テープ１を得た。

【0073】

２．評価方法
続いて、粘着テープ１の評価方法について説明する。
（１）対研磨ＳＵＳ粘着力試験
上述した方法にて作製した粘着テープ１について、ＪＩＳ Ｚ ０２３７（２０００）に記載された方法に準拠して、対研磨ＳＵＳ粘着力試験（引きはがし粘着力試験）を行った。
具体的には、粘着テープ１を耐水研磨紙で研磨したステンレス板（ＳＵＳ３０４）に貼り付け、質量２０００ｇのローラを５ｍｍ／ｓの速度で１往復させて、圧着した。続いて、２０〜４０分放置した後、引張試験機を用いて、ステンレス板に対して１８０°方向へ５ｍｍ／ｓの速度で引き剥がし、研磨ＳＵＳ板に対する粘着力を測定した。

【0074】

（２）保持力試験
作製した粘着テープ１について、保持力試験を行った。
具体的には、粘着テープ１を、耐水研磨紙で研磨したステンレス板（ＳＵＳ３０４）に貼り付け、所定の重りを取り付けた状態で４０℃の条件下で２４時間保持した場合のズレ量（ｍｍ）を測定した。ここで、ダイシング用粘着テープとしては、保持力試験で測定されるズレ量が２５ｍｍ以下であることが好ましい。
また、２４時間を経過する前に粘着テープ１がステンレス板から剥離して落下した場合には、測定開始から粘着テープ１が剥離するまでの経過時間（分）を測定した。なお、表１において保持力試験の↓の表示は、２４時間を経過する前に粘着テープ１がステンレス板からずれて落下したことを意味する。

【0075】

（３）対シリコーン樹脂粘着力試験
作製した粘着テープ１について、上述した粘着力試験の方法に準拠して、対シリコーン樹脂粘着力試験を行った。
具体的には、粘着テープ１を、シリコーン樹脂を塗布した板（試験片）に貼り付け、質量２０００ｇのローラを５ｍｍ／ｓの速度で１往復させて、圧着した。続いて、２０〜４０分放置した後、引張試験機を用いて、シリコーン樹脂を塗布した板に対して１８０°方向へ５ｍｍ／ｓの速度で引き剥がし、シリコーン樹脂に対する粘着力を測定した。
なお、本試験において粘着テープ１を貼り付ける板に塗布したシリコーン樹脂としては、ＬＥＤ封止剤用のシリコーン樹脂を用いた。

【0076】

具体的には、シリコーン樹脂Ａとしては、ＬＥＤデバイス用シリコーン材料であるメチル基を含有するシリコーン樹脂（信越化学工業製のＫＥＲ−２５００Ｎ）を用いた。
試験片は、以下のように作製した。すなわち、ＫＥＲ−２５００ＮのＡ剤とＢ剤とを混合比１：１で混合し、混合液を作成した。続いて、混合液をステンレス板（ＳＵＳ３０４）に対して塗布し、１００℃で１時間加熱した後１５０℃で２時間加熱することで硬化させた。これにより、ステンレス板上にシリコーン樹脂Ａが形成された試験片を得た。

【0077】

また、シリコーン樹脂Ｂとしては、ＬＥＤデバイス用シリコーン材料であるフェニル基を含有するシリコーン樹脂（信越化学工業製のＫＥＲ−６１１０）を用いた。
試験片は、以下のように作製した。すなわち、ＫＥＲ−６１１０のＡ剤とＢ剤とを混合比３：７で混合し、混合液を作成した。続いて、混合液をステンレス板（ＳＵＳ３０４）に対して塗布し、１００℃で２時間加熱した後１５０℃で５時間加熱することで硬化させた。これにより、ステンレス板上にシリコーン樹脂Ｂが形成された試験片を得た。

【0078】

３．評価結果
実施例１〜実施例８および比較例１〜比較例３の粘着テープ１に対する評価結果について、表１に示す。

【0079】

【表1】

【0080】

表１に示すように、粘着剤層３を、硬化型のシリコーン系粘着剤と硬化剤とを含んで構成した場合（実施例１〜実施例８）には、粘着テープ１の研磨ＳＵＳ板に対する粘着力、保持力、シリコーン樹脂Ａに対する粘着力およびシリコーン樹脂Ｂに対する粘着力が全て好ましい範囲であることが確認された。
これにより、粘着剤層３を硬化型のシリコーン系粘着剤と硬化剤とを含んで構成した粘着テープ１は、半導体素子基板の封止樹脂またはレンズ材が形成された側から貼り付けてダイシングに使用するダイシング用粘着テープとして有用であることが確認された。

【0081】

続いて、実施例１〜実施例８のうち、シリコーン系粘着剤として過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤を用いた場合（実施例１〜実施例４）を比較すると、過酸化物からなる開始剤の含有量が、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤１００重量部に対して、０．０５重量部〜１０重量部の場合（実施例１〜実施例３）に、粘着テープ１の保持力がより良好であることが確認された。
さらに、開始剤の含有量が、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤１００重量部に対して、０．０５重量部〜３．５重量部の場合（実施例１、実施例２）に、粘着テープ１のシリコーン樹脂Ａに対する粘着力およびシリコーン樹脂Ｂに対する粘着力がより良好であることが確認された。

【0082】

したがって、シリコーン系粘着剤として過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤を用いた場合には、過酸化物からなる開始剤の含有量が、過酸化物硬化型シリコーン系粘着剤１００重量部に対して、０．０５重量部〜１０重量部の範囲がより好ましく、０．０５重量部〜３．５重量部の範囲がさらに好ましいことが確認された。

【0083】

さらに、実施例１〜実施例８のうち、シリコーン系粘着剤として付加反応型シリコーン系粘着剤を用いた場合（実施例５〜実施例８）を比較すると、架橋剤の含有量が、付加反応型シリコーン系粘着剤１００重量部に対して、０．１重量部〜７重量部の場合（実施例５〜実施例７）に、粘着テープ１の研磨ＳＵＳ板に対する粘着力、シリコーン樹脂Ａに対する粘着力およびシリコーン樹脂Ｂに対する粘着力がより高く、０．１重量部〜２重量部の場合（実施例５、実施例６）に、粘着テープ１の研磨ＳＵＳ板に対する粘着力、シリコーン樹脂Ａに対する粘着力およびシリコーン樹脂Ｂに対する粘着力がさらに高いことが確認された。

【0084】

したがって、シリコーン系粘着剤として付加反応型シリコーン系粘着剤を用いた場合には、架橋剤の含有量が、付加反応型シリコーン系粘着剤１００重量部に対して、０．１重量部〜７重量部の範囲がより好ましく、０．１重量部〜２重量部の範囲がさらに好ましいことが確認された。

【0085】

これに対し、粘着剤層３が硬化剤（開始剤または架橋剤）を含まない場合（比較例１、比較例２）には、粘着テープ１の保持力が著しく低いことが確認された。これは、粘着剤層３が硬化剤を含まない場合には、シリコーン系粘着剤が硬化しなかったためだと考えられる。
そして、このような粘着テープ１をダイシング用粘着テープとして用いた場合には、粘着テープ１を半導体素子基板のダイシングに使用した後、得られた半導体チップから粘着テープ１を剥がした際に、糊残りが生じやすくなることが予測される。

【0086】

また、粘着剤層３としてアクリル系の粘着剤を用いた場合（比較例３）には、粘着テープ１の研磨ＳＵＳ板に対する粘着力および保持力は良好であるものの、半導体素子の封止樹脂として使用されるシリコーン樹脂Ａに対する粘着力およびシリコーン樹脂Ｂに対する粘着力が著しく低いことが確認された。
このような粘着テープ１を、ダイシング用粘着テープとして半導体素子基板の封止樹脂側から貼り付けて用いた場合には、ダイシングを行う際に、粘着テープ１から半導体素子基板や半導体チップが剥がれやすくなり、半導体チップの飛散が生じやすくなることが予測される。

【符号の説明】

【0087】

１…粘着テープ、２…基材、３…粘着剤層

【図1】

【図2】

【図3】