特許6397068多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクの製造方法、透過型マスクブランクの製造方法、透過型マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法

発明の名称　多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクの製造方法、透過型マスクブランクの製造方法、透過型マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法

出願人　ＨＯＹＡ株式会社　（識別番号 113263）

　　　　特許公開件数ランキング 494 位（57件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 295 位（90件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6397068

公報発行日　2018年9月26

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6397068

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