(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明を実施するための形態】
【0013】
明細書に用いられる方向の表現、例えば限定ではなく、上、底、左、右、上方、下方、前方、後方及びそれらの派生語は、図面に示される要素の向きに関連し、特に明瞭に言わない限り請求項に限定を加えない。
【0014】
明細書に用いられるように、2つ若しくはそれ以上の部品又は構成要素が一緒に"結合される"と述べることは、これらの部品が直接又は1つ以上の中間部品若しくは構成要素を介しての何れかにより一緒に結合される又は一緒に動作することを意味している。
【0015】
明細書に用いられるように、"数"の用語は、1若しくは1より多い整数(すなわち複数)を意味している。
【0016】
明細書に用いられるように、マニフォールド(manifold)の用語は、液体若しくはガスがそれを介して分配される1つ以上の管又はチャンバを持つ部材を意味している。
【0017】
図1は、本発明が様々な実施例で実施される、ある特定の限定ではない実施例による圧支持システム50の概略図である。
図1を参照すると、圧支持システム50は、何らかの適切な供給源、例えば加圧した酸素若しくは空気のタンク、環境大気又はそれらの組み合わせから、一般に矢印Cで示される呼吸ガスを受け取る、例えば従来のCPAP又はバイレベル圧支持装置に用いられるブロアーのようなガス流発生器52を含む。ガス流発生器52は、相対的に高い及び低い圧力、すなわち概ね環境大気圧に等しい又はその圧力よりも上である圧力で患者54の気道に送出するための、例えば空気、酸素又はそれらの混合物のような呼吸ガス流を発生させる。
【0018】
例示的な実施例において、ガス流発生器52は、3−30cmH
2Oの圧力で呼吸ガス流を供給することが可能である。一般に矢印Dで示される、ガス流発生器52からの加圧した呼吸ガス流は、送出管56を介して何らかの既知の構成からなる呼吸マスク又は患者インタフェース58に送出され、この患者インタフェースは、患者54の気道に呼吸ガス流を伝えるために、通例は患者54により着用される又は患者54に取り付けられる。送出管56及び患者インタフェース装置58は通例、まとめて患者回路と呼ばれる。
【0019】
図1に示される圧支持システム50は、患者回路が患者54を圧支持システム50に接続している送出管56だけを含むことを意味しているシングルリムシステムとして知られるものである。例えば、矢印Eで示されるようなシステムから呼気ガスを放出するための排気口57が送出管56に設けられる。排気口57は、送出管56に設けるのに加えて又は設ける代わりに他の場所、例えば患者インタフェース装置58に設けられ得ることも注意すべきである。排気口57は、圧支持システム50からガスが放出されるのに望ましい方法に応じて色々な形態を持つことができる。
【0020】
本発明は、圧支持システム50が患者54に接続される送出管及び排気管を持つ2リムシステムとすることができることも考える。(デュアルリムシステムとも呼ばれる)2リムシステムにおいて、排気管は、患者54からの排気ガスを運び、患者54の遠位端に排気弁を含んでいる。そのような実施例における排気弁は通例、呼気終末陽圧(PEEP)として一般に知られている、前記システムにおいて所望のレベル又は圧力を維持するために能動的に制御される。
【0021】
さらに、
図1に示される説明される例示的な実施例において、患者インタフェース58は、鼻/口マスクである。しかしながら、患者インタフェース58は、鼻マスク、鼻枕、気管チューブ、気管内チューブ又は適切なガス流伝達機能を提供する他の何らかの装置を含むことができることも理解されるべきである。さらに、本発明の目的のために、"患者インタフェース"という用語は、送出管56及び加圧した呼吸ガスの供給源を患者54に接続する他の如何なる構成も含むことができる。
【0022】
説明される実施例において、圧支持システム50は、送出管56に設けられる弁60の形式の圧力制御器を含んでいる。弁60は、患者54に送出される、ガス流発生器52からの呼吸ガス流の圧力を制御する。本目的のために、ガス流発生器52及び弁60が患者54に送出されるガスの圧力及び/又はガス流を制御するために協調するので、このガス流発生器52及び弁60はまとめて圧力発生システムと呼ばれる。しかしながら、患者54に送出されるガスの圧力を単独で若しくは圧力制御弁と組み合わせて制御する、例えばガス流発生器52のブロアーの速度を変化させるための他の技術が本発明により検討されることも明らかである。故に、弁60は、患者54に送出される呼吸ガス流の圧力を制御するのに使用される技術に応じて任意である。弁60が無い場合、圧力発生システムは、ガス流発生器52単独で対応し、患者回路におけるガスの圧力は、例えばガス流発生器52のモーターの速度を制御することにより制御される。
【0023】
圧支持システム50はさらに、送出管56内の呼吸ガス流を測定する流量センサ62を含む。
図1に示される特定の実施例において、流量センサ62は、送出管56に沿って、最も好ましくは弁60の下流に挿入される。流量センサ62は、制御器64に供給され、制御器64により患者54におけるガス流(Qpatient)を決定するのに使用される流量信号Qmeasuredを生成する。
【0024】
Qmeasuredに基づいてQpatientを計算する技術はよく知られていて、患者回路の圧力降下、システムからの既知の漏出、すなわち
図1に矢印Eで示されるような患者回路からのガスの意図する放出、及びシステムからの未知の漏出、例えばマスク/患者インタフェースにおける漏出を考慮している。本発明は、漏れ流量Qleakを計算するための何らかの既知の又は以後開発される技術を使用すること、及びQmeasuredに基づいてQpatientを計算するのにこの決定を使用することを考慮している。このような技術の例は、米国特許番号5,148,802;5,313,937;5,433,193;5,632,269;5,803,065;6,029,664;6,539,940;6,626,175及び7,011,091により教示され、これらの各々の内容は、参照することにより本発明に組み込まれるものとする。
【0025】
もちろん、患者54の呼吸流を測定する他の技術、例えば限定ではないが、患者54において直接又は送出管56に沿った他の場所において呼吸流を測定する、ガス流発生器52の動作に基づいて患者の流量を測定する、及び弁60の上流にある流量センサを用いて患者の流量を測定する技術も本発明により検討される。
【0026】
制御器64は、例えばマイクロプロセッサ、マイクロコントローラ又は他の何らかの適切な処理装置である処理部と、前記処理部内にある若しくは前記処理部に動作可能なように結合される、並びに本明細書においてもっと詳細に説明されるような紫外線光の放射を制御することを含む、圧支持システム50の動作を制御するための前記処理部により実行可能であるデータ及びソフトウェアのための記憶媒体を提供するメモリ部とを含んでいる。
【0027】
説明される実施例において、圧支持システム50は、この圧支持システム50のメインハウジングに設けられる加湿器68も含んでいる。或いは、加湿器68は、前記メインハウジングから切り離され、メインハウジングの外側に置かれてもよい。加湿器68は、制御器64により制御される。加湿器68はさらに、供給されるガスに湿気を与えることにより快適さ向上させる。例示的な実施例において、加湿器68は、パスオーバー式の加湿器である。参照することにより全体が本明細書に組み込まれる米国特許出願公開番号2007/0169776号は、本発明の使用に適した例示的な加湿器装置を開示している。別のデザインの加湿器装置、例えば噴霧化、微粒子化、気化又はそれらの組み合わせを用いたパスオーバー式ではない加湿器が使用されてもよい。
【0028】
本発明の説明される限定ではない実施例において、圧支持システム50は基本的にCPAP圧支持システムとして機能し、故に適切なCPAP圧力レベルを患者54に供給するために、上記システムに必要な性能の全てを含んでいる。これは、適切なCPAPの圧力を供給するのに必要なパラメタ、例えば最大及び最小のCPAP圧力の設定を、入力コマンド、信号、命令又は他の情報を介して受信することを含んでいる。これは単に例であると意味されること、及び限定ではないが、BiPAP、AutoSV、AVAPS、Auto CPAP及びBiPAP Autoを含む他の圧支持方法が本発明の範囲内であることを理解されるべきである。
【0029】
図2は、例示的な実施例によるガス流発生器52を実施するために圧支持システム50に用いられるブロアー組立体100の上面等角図であり、
図3はその底面等角図であり、
図4はその組立分解等角図であり及び
図5はその断面図である。
図2から
図5に見られるように、ブロアー組立体100は、下方ハウジング110、上方ハウジング120、下方ハウジング110と上方ハウジング120との間に置かれ、それらの間に収容されるインペラ組立体130及び排気管140を含む。以下においてより詳細に説明されるインペラ組立体130は、下方ハウジング110を介して取り込まれるガスを取り入れ、そのガスを変更された(例えばより高い)圧力及び/又は流量で次に患者回路に結合される排気管140を介して放出する。
【0030】
下方ハウジング110の底面図である
図6、及び下方ハウジング110の上面等角図である
図7を参照すると、下方ハウジング110は、それを介してガスが入る吸気口111、誘導壁112及び本体部113を含む。ガスが入った後、ガスは、誘導壁112を流れ過ぎ、本体部113を流れる。示されるように、下方ハウジング110はさらに、下方ハウジング110の外周に沿って置かれる閉じ込め壁114及びポート115を含む。閉じ込め壁114は、ガスが本体部113に引き込まれるとき、ガスが収容され、ポート115に無理に送られるように、圧支持システム50の底板又はハウジング部材(図示せず)に密封して係合されるように構成される。
図7に見られるように、下方ハウジング110は、部分的導管116及び結合部117も含み、これらの機能は本明細書の他の場所に説明される。
【0031】
図5及びインペラ組立体130の分解図である
図8を参照すると、インペラ組立体130は、上方ハウジング131、吸気ポート133を持つ下方ハウジング132及び上方ハウジング131と下方ハウジング132との間に保持されるインペラ134を含む。インペラ組立体130は、上方ハウジング131の部分的導管部137と下方ハウジング132の部分的導管部138との間に保持されるように構成される排気部材135も含み、それらによりインペラ組立体130の排気管を形成する。その代わりに、インペラ組立体130は、コンプレッサ、ファン、ブロアー、ピストン又はふいごを含む組立体と置き換えられてもよい。
【0032】
図9は、上方ハウジング120の底面等角図である。
図9に見られるように、上方ハウジング120は、部分的導管121、結合部122及びチャンバ123を含む。下方ハウジング110及び上方ハウジング120は、互いに結合されるとき、部分的導管116、121が位置合され、そして結合部117、122が位置合されるように構成される。さらに及び
図4を参照すると、排気管140は、結合部117、122の間に置かれ、そして保持されるように構成される。
【0033】
動作中、呼吸ガス、例えば限定ではないが、空気又は酸素は、吸気口111を介して下方ハウジングに入る。このガスは次いで、誘導壁112により本体部112の底部及び閉じ込め壁114により規定されるエリアに誘導される。ガスは、そのエリアからポート115を通り上方ハウジング120のチャンバ123により規定されるエリアに流れる。このガスは次いで、本体部113の上部に向けてインペラ組立体130の外側を流れ落ち、ここでガスはインペラ組立体130の吸気ポート133に誘導される。インペラ組立体130の内側において、インペラ134の動作により、ガスの圧力及び/又は流量が増大する。ガスは次いで、排気部材135、部分的導管部137及び部分的導管部138により形成される排気管を通りインペラ組立体130から放出される。放出されたガスは、部分的導管116、121、結合部117、122及び排気管140により形成される導管部材内に入れられ、その後、本明細書に説明されるような患者回路を介して患者に送出される。
【0034】
従って、このようにブロアー組立体100は、3つの主要な部分、つまり(i)吸気口111、誘導壁112、本体部113、閉じ込め壁114、ポート115及びチャンバ123を含む、インペラ組立体130に呼吸ガスを送出するための"吸気マニフォールド"、(ii)前記呼吸ガスの圧力及び/又は流量を調整するためのインペラ組立体130並びに(iii)部分的導管116、121、結合部117、122及び排気管140を含む、患者回路に呼吸ガスを送出するための"排気マニフォールド"を持つ。
【0035】
さらに、
図1に見られるように及び開示される概念に従って、圧支持システム50は、本実施例において、ガス流発生器52内の(述べたような吸気マニフォールド、インペラ組立体130及び排気マニフォールドを含む)ガス流路を消毒するためのUV
c紫外線光を発生させるように構成される紫外線光システム70も具備している。特に、UV
c紫外線光がガス流発生器52内の表面、すなわち吸気マニフォールド、インペラ組立体130及び排気マニフォールドの表面に接するとき、この光がこれら表面上に生存している微生物を、それら微生物のDNAを変える、有利にはこれら微生物が繁殖するのを防ぐことにより殺し、それによりユーザにとってより安全な及びより健康的な空気路を生じさせる。限定ではない例示的な実施例において、紫外線光システム70は、100から440nmの範囲のUV
c紫外線光を放射する。ある特定の実施例において、UV
c光は、200から280nmの範囲で放射される。
【0036】
理解されるように、ブロアー組立体100及び紫外線光システム70は、圧支持システム50のユーザにより安全な及びより健康的な空気路を提供するために多数の異なる方法で実施されてもよい。ブロアー組立体100及び紫外線光システム70の多数の限定ではない代替の例示的な実施は、
図10から
図15と関連して以下に説明される。そのような実施の各々は、圧支持システム50のガス流路を消毒するために、この圧支持システム50に使用されてもよい。
【0037】
図10は、70−10の番号を付した紫外線光システム70の実施例が組み込まれている200の番号を付したブロアー組立体100の第1の実施の断面図である。説明し易くするために、インペラ組立体130が設けられていない実施200が示される。しかしながら、実際の使用においてインペラ組立体130が含まれることは理解される。本実施例において、紫外線光システム70−10は、主回路基板210、ブロアー組立体100の様々な場所内に埋め込まれる(
図10に概略的に示される)多数のUV
c発光ダイオード(LED)220並びに主回路基板210からLED220に走り、主回路基板210をLED220に結合する多数のワイヤ222を含んでいる。説明される実施例において、LED220は、これらLED220が明細書に説明されるように呼吸ガスが流れるこれらの構成要素の表面上にUV
c紫外線光を当てるように、下方ハウジング110の本体部113内及び上方ハウジング120内に埋め込まれる。加えて、他の実施例において、LED220は、例えば誘導壁112内のような"吸気マニフォールド"の他の部分内に、例えば上方ハウジング131及び/又は下方ハウジング132内のようなインペラ組立体130の部分内に、並びに例えば部分的導管116、121及び/又は排気管140のような"排気マニフォールド"の部分内に埋め込まれてもよい。動作時に、主回路基板210は、LED220を活性化させるように構成され、これらLEDは次にUV
c紫外線光を放射し、それによりブロアー組立体100内の近傍表面を消毒する。
【0038】
図11は、(70−11の番号を付した)紫外線光システム70の代替実施例が組み込まれている300の番号を付したブロアー組立体100の第2の実施の断面図を示す。説明し易くするために、インペラ組立体130が設けられていない実施300が示される。本実施例において、紫外線光システム70−11は、主回路基板310、主回路基板310に置かれる多数のUV
cLED330並びにLED330に結合される及びブロアー組立体100の様々な部分内に埋め込まれ、様々な部分に沿って走っている多数の光導体(例えば限定ではいが、光ファイバ、透明なプラスチックロッド又は同様の光を透過する部材)を含んでいる。特に、
図11に示されるように、各光導体332は、LED330の1つに結合される第1の受光端及びブロアー組立体100内の選択した場所に位置決められる第2の発光端を持つ。本実施例において、光導体332は、
図10と関連して説明されたLED220が取り付けられた場所の何れかまで走っている。動作時に、LED330はUV
c紫外線光を発生させ、このUV
c紫外線光を光導体332に通し、この光導体332がブロアー組立体100内の様々な表面にUV
c紫外線光を放射し、それによりこれら様々な表面を消毒する。
【0039】
図12は、(70−12の番号を付した)紫外線光システム70のもう1つの代替実施例が組み込まれている400の番号を付したブロアー組立体100の第3の実施の断面図を示す。本実施例において、紫外線光システム70−12は、主回路基板410及び活性化されるときUV
c紫外線光を放射する、主回路基板410に置かれる多数のUV
cLED440を含んでいる。本実施例によれば、ブロアー組立体100の多数の構成要素(例えば限定ではないが、"吸気マニフォールド"、"排気マニフォールド"及び/又はインペラ組立体130の1つ以上の構成要素)は、UV
c紫外線光に対し透過である材料から作られる。明細書に用いられるように、"透過"という用語は、光がその材料を通過することが可能であることを意味し、限定ではないが光が拡散される(透光性である)及び拡散されない状況を含む。例えば、透過である材料は、例えばそれらに限定されないが、ポリカーボネート、ABS(acrylonitrile butadiene styrene)又はポリスチレンのような非晶質高分子でもよい。従って、LED440から放射されるUV
c紫外線光は、ブロアー組立体100の選択した構成要素を通過し、結果としてこれら構成要素の内部表面を消毒する。
【0040】
図13は、(70−13の番号を付した)紫外線光システム70のさらにもう1つの代替実施例が組み込まれている500の番号を付したブロアー組立体100の第4の実施の断面図を示す。説明し易くするために、インペラ組立体130はもう一度省略されている。本実施例において、紫外線光システム70−13は、主回路基板510、活性化されるときUV
c紫外線光を放射する、ブロアー組立体100の特定の構成要素内に埋め込まれる多数のUV
cLED550及びLED550を主回路基板510に結合する多数のワイヤ552を含んでいる。加えて、紫外線光システム70−13は、活性化されるときUV
c紫外線光を放射する、主回路基板510に設けられるもう1つの多数のUV
cLED554、並びに主回路基板510から走り、ブロアー組立体100の特定の構成要素内に埋め込まれている多数の光導体556も含んでいる。動作時に、LED550及び光導体556はUV
c紫外線光を放射し、結合してブロアー組立体100内の選択した表面を消毒する。実施500は故に、
図10の実施200と
図11の実施300とを組み合わせたものである。加えて、ブロアー組立体100が2つの埋め込まれたLED550及び2つの光導体556に関連付けて説明されたとしても、LED及び光導体の如何なる数、構成及び/又は組み合わせと持つことも開示される概念の範囲内である。
【0041】
図14は、(70−14の番号を付した)紫外線光システム70のさらにもう1つの代替実施例が組み込まれている600の番号を付したブロアー組立体100の第5の実施の断面図を示す。説明し易くするために、インペラ組立体130はもう一度省略されている。本実施例において、紫外線光システム70−14は、主回路基板610、ブロアー組立体100内に置かれる多数の光反射面660及び活性化されるときUV
c紫外線光を放射する、主回路基板610に設けられる多数のUV
cLED662を含んでいる。例えば限定ではないが、前記光反射面は、挿入される金属部品若しくはフォイル、又はベース材料にめっきされる、噴霧される又は塗布される金属コーティングでもよい。本実施例によれば、ブロアー組立体100の多数の構成要素(例えば限定ではないが、"吸気マニフォールド"、"排気マニフォールド"及び/又はインペラ組立体130の1つ以上の構成要素)は、UV
c紫外線光に対し透過である材料から作られる。ブロアー組立体100の実施600において、LED662から放射されるUV
c紫外線光は、選択した構成要素を通過し、反射面660に接触し、そして見られるように異なる方向に反射するように構成され、有利なことにUV
c紫外線光により、より多くの面が到達され、それにより消毒されることを可能にする。LED662が主回路基板610に用いられるように示されていたとしても、(本明細書の他の場所で説明したように)反射面660を反射する光を放射するために、LED及び/又は光導体がブロアー組立体100内に埋め込まれ、それにより、より多くの面に到達し、消毒することは、開示される概念の範囲内である。このような実施例は
図15に関連して以下に説明される。
【0042】
図15は、(70−15の番号を付した)紫外線光システム70のさらにもう1つの代替実施例が組み込まれている700の番号を付したブロアー組立体100の第6の実施の断面図を示す。説明し易くするために、インペラ組立体130はもう一度省略されている。本実施例において、紫外線光システム70−15は、主回路基板710、ブロアー組立体100の様々な場所の内部に埋め込まれる多数のUV
cLED770及びLED770を主回路基板710に結合する多数のワイヤ772を含んでいる。紫外線光システム70−15は、主回路基板710に置かれるもう1つの多数のUV
cLED774、その一方の端部においてLED774に結合され、本明細書の他の場所で説明されるような、ブロアー組立体100内に埋め込まれる多数の光導体776も含んでいる。最後に、紫外線光システム70−15は、主回路基板710に置かれるもう1つの多数のUV
cLED777及び下方ハウジング110の内部表面に設けられる反射面778を含んでいる。ブロアー組立体100の実施700において、ブロアー組立体100の多数の構成要素(例えば、限定ではないが"吸気マニフォールド"、"排気マニフォールド"及び/又はインペラ組立体130の1つ以上の構成要素)は、UV
c紫外線光に対し透過である材料から作られる。このようにして、主回路基板710にあるLED777から放射された光は、選択した構成要素を通過し、反射面778に接触するように構成され、それによりブロアー組立体100内のより多くの表面に到達することが可能である。加えて、LED770及び/又は光導体776から放射された光も同様に、反射面778を反射して、ブロアー組立体100内のより多くの表面に到達し、消毒するように構成される。動作時に、LED770、774、777、光導体776及び反射面778が組み合わさって、UV
c紫外線光がブロアー組立体100内にある様々な表面に接触し、それにより消毒することを可能にする。実施700は故に、本明細書に説明される実施200、300、400及び600を組み合わせたものである。
【0043】
加えて、限定ではないが、ブロアー組立体100内の任意の消毒を可能にするために、LED、光導体、反射面及び/又は透過面を含むUV
c光源の如何なる数、構成及び/又は組み合わせを持つことは、開示される概念の範囲内にある。本明細書に述べられていない代替のUV
c光源、例えば限定ではないが、UV
c電球を用いることも開示される概念の範囲内にある。
【0044】
従って、開示される概念に従って、ブロアー組立体100内にあるガス流路(例えば限定ではないが、"吸気マニフォールド"、インペラ組立体130及び"排気マニフォールド")は、消毒するUV
c光を放射する紫外線光システム(例えば限定ではないが、紫外線光システム70−10、70−11、70−12、70−13、70−14及び70−15)により素早く安全に消毒されることができる。
【0045】
その上、本明細書に説明される紫外線光システム70−10、70−11、70−12、70−13、70−14及び70−15が活性化され、それにより多数の適切な方法又は機構の何れかに従って消毒する光を放射させる。例えば限定ではないが、紫外線光システム70−10、70−11、70−12、70−13、70−14及び70−15は、手動で(例えばボタンにより)又は多数の条件の何れか、例えば設定したタイマーの終了、一定の使用時間の後に圧支持システム50が使用される、圧支持システム50を使用している若しくは使用していないときに基づいて自動的に活性化されるように構成されてもよい。
【0046】
本発明は、最も実用的である例示的な実施例であると現在考えられるものに基づいて説明を目的として詳細に説明されている。しかしながら、このような詳細な説明は単に説明を目的としていること、及び本発明は開示される実施例に限定されるのではなく、それどころか、付随する請求項の主旨及び範囲内にある修正案及び同等の配列にも及んでいると意図されると理解されるべきである。例えば限定ではないが、本発明は、例えば圧支持システム50のようなPAP治療システムに限定されるのではなく、寧ろ本明細書に説明される様々な実施例における紫外線光システム70が、患者に呼吸ガス流を送出するのに使用される如何なる種類のガス送出システム、例えば限定ではないが、酸素送出システム又は他の呼吸装置と共に使用されてもよい。