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特許6405087粒子ビーム描画プロセスおよび特に電子ビーム描画プロセスにおけるショット雑音の影響のシミュレーション
発明の名称 粒子ビーム描画プロセスおよび特に電子ビーム描画プロセスにおけるショット雑音の影響のシミュレーション
出願人 コミサリア ア レネルジィ アトミーク エ オ ゼネ ルジイ アルテアナティーフ （識別番号 506423291）
特許公開件数ランキング 12243 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 10267 位（0件）（共同出願を含む）
出願人 アゼルタ ナノグラフィクス （識別番号 513315488）
特許公開件数ランキング 12243 位（0件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 10267 位（0件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-6405087
公報発行日 2018年10月17
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6405087
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