技術分野
表面処理銅箔及び銅張積層板
要約特許出願時に添付された[要約書]
【課題】樹脂基材、特に高周波用途に好適な樹脂基材との接着性を高めることが可能な表面処理銅箔を提供する。
【解決手段】シラン化合物の表面処理層を銅箔表面上に有する表面処理銅箔である。この表面処理銅箔は、表面処理層をTOF−SIMSによって測定した際に、240.9〜241.1、241.9〜242.1、242.9〜243.1、243.9〜244.1、244.9〜245.1、260.9〜261.1、261.9〜262.1及び262.9〜263.1からなる群から選択される少なくとも1つの質量数(m/z)の位置にピークが検出される。
【選択図】なし
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
しかしながら、銅箔表面に電着した粗化粒子は、表皮効果によって導体損失を増大させると共に、粉落ちと称される粗化粒子が剥がれ落ちる現象を引き起こす原因となるため、銅箔表面に電着させる粗化粒子を少なくすることが望ましい。他方、銅箔表面に電着させる粗化粒子を少なくすると、粗化粒子によるアンカー効果が低下してしまい、銅箔と樹脂基材との接着性が十分に得られない。特に、液晶ポリマー、低誘電ポリイミドなどの低誘電材料から形成された樹脂基材は、従来の樹脂基材よりも銅箔と接着し難いため、銅箔と樹脂基材との間の接着性を高める別の手段が要求されている。
また、シラン化合物の表面処理層は、銅箔と樹脂基材との間の接着性を向上させる効果を有するものの、その種類によっては、接着性の向上効果が十分とは言えない状況である。
のような問題を解決するためになされたものであり、樹脂基材、特に高周波用途に好適な樹脂基材との接着性を高めることが可能な表面処理銅箔を提供することを目的とする。
また、樹脂基材、特に高周波用途に好適な樹脂基材と表面処理銅箔との間の接着性に優れた銅張積層板を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明者らは、のような問題を解決すべく鋭意研究した結果、シラン化合物の表面処理層をTOF−SIMSによって測定した際にピークが検出される位置(質量数:m/z)が、表面処理層と樹脂基材との間の接着性と関係していることを見出し、本発明の表面処理銅箔及び銅張積層板を完成するに至った。
【発明の効果】
本発明の実施形態によれば、樹脂基材、特に高周波用途に好適な樹脂基材との接着性を高めることが可能な表面処理銅箔を提供することができる。
また、本発明の実施形態によれば、樹脂基材、特に高周波用途に好適な樹脂基材と表面処理銅箔との間の接着性に優れた銅張積層板を提供することができる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)
この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】実施例1及び比較例1〜2で得られた表面処理銅箔の表面処理層におけるTOF−SIMSのスペクトル(質量数(m/z)が240〜260の範囲)である。
【図2】実施例1及び比較例1〜2で得られた表面処理銅箔の表面処理層におけるTOF−SIMSのスペクトル(質量数(m/z)が260〜263.5の範囲)である。
全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録