ホーム > 特許ランキング > JX日鉱日石金属株式会社 > 2026年の特許
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第426位 58件
(
2025年:第403位 78件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第421位 49件
(
2025年:第448位 57件)
(ランキング更新日:2026年10月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7937285 | 発塵性リサイクル原料のサンプリング方法 | 2026年10月19日 | |
| 特許 7936466 | スパッタリングターゲット、スパッタリングターゲットの製造方法、積層膜、積層膜の製造方法、磁気記録媒体、及び、磁気記録媒体の製造方法 | 2026年10月15日 | |
| 特許 7936127 | IGZOスパッタリングターゲット | 2026年10月15日 | |
| 特許 7922072 | 酸化物膜及び酸化物スパッタリングターゲット | 2026年 9月15日 | |
| 特許 7918374 | 粒子群のシミュレートに関する方法、プログラム、記憶媒体、装置、及び、システム | 2026年 9月 9日 | |
| 特許 7912612 | 塊状の銅線屑を含む処理対象物の処理方法 | 2026年 8月28日 | |
| 特許 7912570 | 高純度金属ストロンチウム | 2026年 8月28日 | |
| 特許 7911026 | スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット組立品 | 2026年 8月25日 | |
| 特許 7905639 | EBSD測定用圧縮曲げ治具及びEBSD測定方法 | 2026年 8月17日 | |
| 特許 7905299 | ルテニウムの回収方法 | 2026年 8月14日 | |
| 特許 7901115 | 錫球及び錫球の製造方法 | 2026年 8月 5日 | |
| 特許 7898536 | 表面処理銅箔、銅張積層板及びプリント配線板 | 2026年 7月31日 | |
| 特許 7898535 | 表面処理銅箔、銅張積層板及びプリント配線板 | 2026年 7月31日 | |
| 特許 7897955 | 表面処理銅箔、銅張積層板及びプリント配線板 | 2026年 7月30日 | |
| 特許 7893828 | MoSi2ヒーター | 2026年 7月22日 |
49 件中 1-15 件を表示
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7937285 7936466 7936127 7922072 7918374 7912612 7912570 7911026 7905639 7905299 7901115 7898536 7898535 7897955 7893828
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