特許6414947IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

パワーインダクタおよびその製造方法に関し、より詳しくは、パワーインダクタの内部に含まれたコイルパターン構造

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、パワーインダクタのコイルパターン形成時に、従来のコイルパターンとは異なり、最内部側と最外部側のコイルパターンも中間に位置したコイルパターンと類似する形態を有するようにして、コイルパターンの内側と外側に充填される金属−ポリマーの面積を増加させることにより、最終的にパワーインダクタの性能(インダクタンス)値が向上し、且つ、低い直流抵抗を実現することができる高インダクタンスを有するパワーインダクタおよびその製造方法を提供することにある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一側面によれば、コア絶縁層の一面または両面に形成されたコイルパターンと、前記コイルパターンの最内側パターンと最外側パターンのうち少なくともいずれか一つと接合する絶縁パターンと、前記コイルパターンの表面にメッキされた金属層、および前記金属層を含む前記コイルパターンを覆う絶縁体を含む、パワーインダクタを提供する。
【発明の効果】
パワーインダクタのコイルパターン形成時に、従来のコイルパターンとは異なり、最内部側と最外部側のコイルパターンも中間に位置したコイルパターンと類似する形態を有するようにして、コイルパターンの内側と外側に充填される金属−ポリマーの面積を増加させることにより、最終的にパワーインダクタの性能(インダクタンス)値が向上し、且つ、低い直流抵抗を実現することができるという効果がある。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】一般的な薄膜型パワーインダクタの縦断面図である。

【図2】一般的な薄膜型パワーインダクタの横断面および縦断面を示す写真である。

【図3】本発明のパワーインダクタに含まれたコイルパターン構造を示すためのチップ断面図である。

【図4】本発明の他の実施形態に含まれたコイルパターン構造を示すためのチップ断面図である。

【図5】本発明によるパワーインダクタの製造方法を順次示す工程図である。

【図6】本発明によるパワーインダクタの製造方法を順次示す工程図である。

【図7】本発明によるパワーインダクタの製造方法を順次示す工程図である。

【図8】本発明によるパワーインダクタの製造方法を順次示す工程図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

100、200 パワーインダクタ   110、210 コア絶縁層   120、220 コイルパターン   130 金属層   231 第1金属層   232 第2金属層   140 絶縁パターン   241 第1絶縁パターン   242 第2絶縁パターン   150、250 絶縁体

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