特許6415768マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法

発明の名称　マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法

出願人　ＨＯＹＡ株式会社　（識別番号 113263）

　　　　特許公開件数ランキング 621 位（7件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 333 位（13件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6415768

公報発行日　2018年10月31

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6415768

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