特許6425939IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

開示の検査装置および検査方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、上述した従来技術には、早期に不良を検出して効率よく製造ラインを改善させるうえで、さらなる改善の余地がある。 具体的には、上述した従来技術は、たとえば成膜工程から封止工程を経た、ほぼ完成品に近い基板を検査することで不良を検出しようとするものである。このため、仮に不良として塗布ムラが検出されたとしても、たとえばかかる塗布ムラが前述の各層のいずれを形成する過程で生じたのかといった判別を行わねばならず、原因が特定されて製造ラインが改善されるまでに時間がかかるという問題があった。 実施形態の一態様は、に鑑みてなされたものであって、早期に不良を検出して効率よく製造ラインを改善させることができる検査装置および検査方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

実施形態の一態様に係る検査装置は、照射部と、撮像部と、移動機構と、制御部とを備える。照射部は、直列に配列された複数の発光素子を有し、かかる発光素子から主面上に少なくとも有機EL層における発光層が形成された基板に向けて紫外光を照射する。撮像部は、紫外光の照射を受けた基板を所定の撮像領域において撮像する。移動機構は、照射部および撮像部を基板の主面方向に沿って移動させる。制御部は、撮像部によって撮・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
実施形態の一態様によれば、早期に不良を検出して効率よく製造ラインを改善させることができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】図1は、有機発光ダイオードの構成の概略を示す断面模式図である。

【図2】図2は、有機発光ダイオードの隔壁の構成の概略を示す平面模式図である。

【図3】図3は、有機発光ダイオードの製造方法の主な工程を示すフローチャートである。

【図4】図4は、検査装置を備えた基板処理システムの構成の概略を示す平面模式図である。

【図5】図5は、検査装置の構成の概略を示す平面模式図である。

【図6A】図6Aは、計測ヘッドが備えるUV照射器の構成の概略を示す平面模式図である。

【図6B】図6Bは、UV照射器およびカメラの配置関係を示す側面模式図である。

【図6C】図6Cは、カメラによる撮像画像の処理方法を示す模式図である。

【図7A】図7Aは、計測ヘッドの移動制御の説明図(その1)である。

【図7B】図7Bは、計測ヘッドの移動制御の説明図(その2)である。

【図7C】図7Cは、計測ヘッドの移動制御の説明図(その3)である。

【図7D】図7Dは、計測ヘッドの移動制御の説明図(その4)である。

【図7E】図7Eは、計測ヘッドの移動制御の説明図(その5)である。

【図7F】図7Fは、計測ヘッドの移動制御の説明図(その6)である。

【図7G】図7Gは、計測ヘッドの移動制御の説明図(その7)である。

【図7H】図7Hは、計測ヘッドの移動制御の説明図(その8)である。

【図8】図8は、制御装置のブロック図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

1 有機発光ダイオード   10 陽極   20 隔壁   21 開口部   30 有機EL層   31 正孔注入層   32 正孔輸送層   33 発光層   33−R R発光層   33−G G発光層   33−B B発光層   34 電子輸送層   35 電子注入層   40 陰極   100 基板処理システム   140 制御装置   141 制御部   142 記憶部   200 検査装置   202 ステージ   203 移動機構   204a、204a−R、204a−G、204a−B UV照射器   204b カメラ   G ガラス基板   GD 合成画像   IA 撮像領域   L1 光軸   UV−e1〜UV−en 発光素子

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