特許6427690半導体装置用の膜を生成するための組成物、半導体装置用の膜を生成するための組成物の製造方法、半導体用部材の製造方法、半導体用工程材の製造方法及び半導体装置

発明の名称　半導体装置用の膜を生成するための組成物、半導体装置用の膜を生成するための組成物の製造方法、半導体用部材の製造方法、半導体用工程材の製造方法及び半導体装置

出願人　三井化学株式会社　（識別番号 5887）

　　　　特許公開件数ランキング 86 位（324件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 111 位（233件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6427690

公報発行日　2018年11月21

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6427690

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