特許 6434522 ホウ素化アレーンを生成する方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6434522

(24)【登録日】2018年11月16日

(45)【発行日】2018年12月5日

(54)【発明の名称】ホウ素化アレーンを生成する方法

(51)【国際特許分類】

   C07F 5/02 20060101AFI20181126BHJP

   C07B 61/00 20060101ALN20181126BHJP

【ＦＩ】

   C07F5/02 C

   !C07B61/00 300

【請求項の数】15

【全頁数】114

(21)【出願番号】特願2016-540434(P2016-540434)

(86)(22)【出願日】2014年9月5日

(65)【公表番号】特表2016-536336(P2016-536336A)

(43)【公表日】2016年11月24日

(86)【国際出願番号】US2014054366

(87)【国際公開番号】WO2015035217

(87)【国際公開日】20150312

【審査請求日】2017年8月23日

(31)【優先権主張番号】61/874,249

(32)【優先日】2013年9月5日

(33)【優先権主張国】US

(31)【優先権主張番号】62/012,684

(32)【優先日】2014年6月16日

(33)【優先権主張国】US

(73)【特許権者】

【識別番号】501035309

【氏名又は名称】ダウ アグロサイエンシィズ エルエルシー

(73)【特許権者】

【識別番号】508007514

【氏名又は名称】ボード オブ トラスティーズ オブ ミシガン ステイト ユニバーシティ

【氏名又は名称原語表記】ＢＯＡＲＤ ＯＦ ＴＲＵＳＴＥＥＳ ＯＦ ＭＩＣＨＩＧＡＮ ＳＴＡＴＥ ＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹ

(74)【代理人】

【識別番号】100092783

【弁理士】

【氏名又は名称】小林 浩

(74)【代理人】

【識別番号】100095360

【弁理士】

【氏名又は名称】片山 英二

(74)【代理人】

【識別番号】100120134

【弁理士】

【氏名又は名称】大森 規雄

(74)【代理人】

【識別番号】100126354

【弁理士】

【氏名又は名称】藤田 尚

(74)【代理人】

【識別番号】100104282

【弁理士】

【氏名又は名称】鈴木 康仁

(72)【発明者】

【氏名】スミス，ミルトン，アール．，スリー

(72)【発明者】

【氏名】マレクズカ，ロバート イー．

(72)【発明者】

【氏名】リ，ハオ

(72)【発明者】

【氏名】ジャヤスンダラ，チャトュリカ

(72)【発明者】

【氏名】オッペンハイマー，ジョッシアン

(72)【発明者】

【氏名】サバソヴズ，ドミトリース

【審査官】 桜田 政美

(56)【参考文献】

【文献】 米国特許出願公開第２００６／０２８１９３９（ＵＳ，Ａ１）

【文献】 特開２０１０−０８３８７４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２０１１−５０９３００（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第２０１３／０１６５５７（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 米国特許出願公開第２０１３／００３０２１３（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０７Ｆ ５／０２

Ｃ０７Ｂ ６１／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

ホウ素化アレーンを形成する方法であって、
１〜４つの置換基を含む置換アレーン環を含む基質であって、前記アレーン環が、ＣＨ活性化に電子的に有利な第１の位置において置換されておらず、かつＣＨ活性化に立体的に有利な第２の位置において置換されていない、基質を用意するステップ、ならびに
第１のホウ素化アレーンおよび場合により第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下で、前記基質を、イリジウム前駆錯体、少なくとも１つの窒素ヘテロ原子を含む電子不足二座配位子、およびホウ素化試薬に接触させるステップを含み、
前記電子不足二座配位子が、式ＩＶａによって定義される化合物

【化1】

（式中、ｎは、０、１、２または３であり、Ｒ_１０は、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、ニトリル基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ペルフルオロアルキル基であるが、但し、Ｒ_１０の少なくとも１つが、ハロゲン、ニトリル基、ニトロ基、およびＣ_１〜Ｃ_６ペルフルオロアルキル基から選択されることを条件とする）を含み、
前記第１のホウ素化アレーンが、１〜４つの置換基、および前記第１の位置にボロン酸またはボロン酸誘導体を含む、置換アレーン環を含み、
前記第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、１〜４つの置換基、および前記第２の位置にボロン酸またはボロン酸誘導体を含む、置換アレーン環を含み、
前記第１のホウ素化アレーンと前記第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも１：１である、ホウ素化アレーンを形成する方法。

【請求項2】

前記アレーン環が、１〜３つの置換基を含む、請求項１に記載の方法。

【請求項3】

前記アレーン環が、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基により置換されている、請求項１から２のいずれかに記載の方法。

【請求項4】

前記基質が、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基により置換されているフェニル環であって、前記電子吸引基に対しオルト位で置換されておらず、かつ前記電子吸引基に対しメタ位で置換されていない、フェニル環を含み、
前記第１のホウ素化アレーンが、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基、ならびに前記電子吸引基に対しオルト位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されているフェニル環を含み、
前記第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基、ならびに前記電子吸引基に対しメタ位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されているフェニル環を含む、請求項１から３のいずれかに記載の方法。

【請求項5】

前記基質が、２−，４−二置換ピリジン環、２−，６−二置換ピリジン環、２−，４−，６−三置換ピリジン環、および２−置換ピリジン環からなる群から選択されるピリジン環を含む、請求項１から３のいずれかに記載の方法。

【請求項6】

ホウ素化アレーンを形成する方法であって、
電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分により置換されている芳香族環を含む基質であって、前記芳香族環が、前記部分に対しオルト位で置換されておらず、かつ前記部分に対しメタ位で置換されていない、基質を用意するステップ、ならびに
第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下で、前記基質を、イリジウム前駆錯体、単座ピリジン配位子およびホウ素化試薬に接触させるステップを含み、
前記第１のホウ素化アレーンが、電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分、ならびに前記部分に対しオルト位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されている芳香族環を含み、
第２のホウ素化アレーンが、電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分、ならびに前記部分に対しメタ位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されている芳香族環を含み、
前記第１のホウ素化アレーンと前記第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも１：１である、ホウ素化アレーンを形成する方法。

【請求項7】

前記部分が、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基である、請求項６に記載の方法。

【請求項8】

前記基質が、式Ｉによって定義される化合物

【化2】

（式中、
Ｘは、ＦまたはＣＦ_３であり、
Ｒ_１は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_２は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_３は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６の各々は、出現毎に個別に、水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基であり、
Ｒ_７は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である）を含み、
前記第１のホウ素化アレーンが、式ＩＩによって定義される化合物

【化3】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）を含み、
前記第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、式ＩＩＩによって定義される化合物

【化4】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）を含む、請求項１から４、６、または７のいずれかに記載の方法。

【請求項9】

前記基質が、１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンを含む、請求項１から４または６から８のいずれかに記載の方法。

【請求項10】

前記基質が１−クロロ−３−フルオロ−２−メトキシベンゼンを含み、かつ前記第１のホウ素化アレーンが、（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸または（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）−ボロン酸誘導体を含む、請求項１から４または６から９のいずれかに記載の方法。

【請求項11】

前記イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクタジエン前駆錯体、Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクテン前駆錯体、Ｉｒ（Ｉ）−メシチレン前駆錯体、Ｉｒ（Ｉ）−ホスフィン前駆錯体、Ｉｒ（Ｉ）−１，２，３，４，５−メチルシクロペンタジエニル前駆錯体、およびそれらの組合せからなる群から選択される、イリジウム錯体を含む、請求項１から１０のいずれかに記載の方法。

【請求項12】

前記基質、第１のホウ素化アレーン、および、第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、−Ｃｌおよび−Ｂｒからなる群から選択される置換基を含む、請求項１から１１のいずれかに記載の方法。

【請求項13】

前記基質が、以下の式により定義される化合物

【化5】

（式中、
Ｘは、電子吸引基または指向型メタル化基から選択される部分であり、
Ｒ_１は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_２は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_３は、−Ｃｌおよび−Ｂｒであり、
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６の各々は、出現毎に個別に、水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基であり、
Ｒ_７は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である）を含み、
前記第１のホウ素化アレーンが、以下の式によって定義される化合物

【化6】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）を含み、
前記第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、以下の式によって定義される化合物

【化7】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）を含み、
前記第１のホウ素化アレーンと前記第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも２５：１である、請求項１から１２のいずれかに記載の方法。

【請求項14】

前記第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化して、脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを得るステップをさらに含む、請求項１２から１３のいずれかに記載の方法。

【請求項15】

前記第１のホウ素化アレーンまたは前記脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを、ハロゲン化アリール、偽ハロゲン化アリール、ハロゲン化ビニルおよび偽ハロゲン化ビニルからなる群から選択される反応体、ならびに遷移金属触媒に接触させ、前記第１のホウ素化アレーンまたは前記脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンと前記反応体とをクロスカップリングするステップをさらに含む、請求項１から１４のいずれかに記載の方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本出願は一般に、ホウ素化アレーンを形成する方法、およびその使用方法に関する。

【背景技術】

【0002】

アリールボロン酸およびアリールボロン酸エステルは、有機化学における用途の広い試薬である。特に、アリールボロン酸およびアリールボロン酸エステルは、Ｓｕｚｕｋｉ型クロスカップリング反応などの、様々なクロスカップリング反応に関与することができ、このカップリング反応は、以下に一般に例示される通り、炭素−炭素結合を形成することができる。

【0003】

【化1】

【0004】

結果として、アリールボロン酸エステルおよびアリールボロン酸は、しばしば、医薬品および農業化学品を含む、高度に官能基化されている有機化合物の合成における鍵となる中間体となる。置換アリールボロン酸および置換アリールボロン酸エステルを調製する位置選択的な方法を含む、アリールボロン酸およびアリールボロン酸エステルを調製するための改善方法は、医薬品および農業化学品を含む、重要なクラスの有機化合物の合成を改善する可能性をもたらす。

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

金属触媒によるＣ−Ｈ活性化−ホウ素化は、芳香族前駆体から、単一ステップでアリールボロン酸およびアリールボロン酸エステルを調製するために使用することができる。金属触媒によるＣ−Ｈ活性化−ホウ素化は、代替的なホウ素化方法よりも多くの利点をもたらす。例えば、金属触媒によるＣ−Ｈ活性化−ホウ素化は、ホウ素化するためにＣ−Ｈ位を活性化するための古典的なリチウム−水素交換反応を使用する場合に通常、必要とされる極めて低い反応温度を必要としない。

【0006】

電子吸引基により置換されているアレーンであって、電子吸引基のオルト位において置換されておらず、かつ電子吸引基に対しメタ位で置換されていないアレーンの場合、アレーンのイリジウム触媒によるＣ−Ｈ活性化−ホウ素化は、通常、立体効果によって支配される。例えば、１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンの場合、イリジウム触媒によるＣ−Ｈ活性化−ホウ素化は、電子的に有利なベンゼン環の４位におけるホウ素化（電子吸引性のフルオロ置換基のオルトとなる。「電子的生成物（electronic product）」と呼ばれる）とは反対に、立体的に有利なベンゼン環の５位におけるホウ素化（電子吸引性のフルオロ置換基のメタとなる。「立体的生成物（steric product）」と呼ばれる）が有利であることが予期される。

【0007】

【化2】

【0008】

ある種のイリジウム触媒系は、１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンを含めた、電子吸引基により置換されているアレーンのホウ素化を、フルオロ置換基に対しオルト位で効率よく触媒することができる（すなわち、上記のイリジウム鎖触媒系は、電子的生成物の形成を効率よく触媒することができる）ことが意外なことに発見された。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明は以下を提供する。
［１］ホウ素化アレーンを形成する方法であって、
１〜４つの置換基を含む置換アレーン環を含む基質であって、上記アレーン環が、ＣＨ活性化に電子的に有利な第１の位置において置換されておらず、かつＣＨ活性化に立体的に有利な第２の位置において置換されていない、基質を用意するステップ、ならびに
第１のホウ素化アレーンおよび場合により第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下で、上記基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子および二座配位子から選択される配位子、ならびにホウ素化試薬に接触させるステップを含み、
上記第１のホウ素化アレーンが、１〜４つの置換基、および上記第１の位置にボロン酸またはボロン酸誘導体を含む、置換アレーン環を含み、
上記第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、１〜４つの置換基、および上記第２の位置にボロン酸またはボロン酸誘導体を含む、置換アレーン環を含み、
上記第１のホウ素化アレーンと上記第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも１：１である、
ホウ素化アレーンを形成する方法。
［２］上記アレーン環が、１〜３つの置換基を含む、上記［１］に記載の方法。
［３］上記アレーン環が、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基により置換されている、上記［１］から［２］のいずれかに記載の方法。
［４］上記基質が、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基により置換されているフェニル環であって、上記電子吸引基に対しオルト位で置換されておらず、かつ上記電子吸引基に対しメタ位で置換されていない、フェニル環を含み、
上記第１のホウ素化アレーンが、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基、ならびに上記電子吸引基に対しオルト位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されているフェニル環を含み、
上記第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基、ならびに上記電子吸引基に対しメタ位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されているフェニル環を含む、
上記［１］から［３］のいずれかに記載の方法。
［５］上記基質が、２−，４−二置換ピリジン環、２−，６−二置換ピリジン環、２−，４−，６−三置換ピリジン環、および２−置換ピリジン環からなる群から選択されるピリジン環を含む、上記［１］から［３］のいずれかに記載の方法。
［６］上記配位子が、電子不足二座配位子を含む、上記［１］から［５］のいずれかに記載の方法。
［７］上記二座配位子が、１つまたは複数の電子吸引性置換基により置換されている、２，２’−ビピリジンを含む、上記［６］に記載の方法。
［８］上記二座配位子が、式ＩＶａ、式ＩＶｂまたは式ＩＶｃによって定義される化合物

【化1】

（式中、ｎは、０、１、２または３であり、Ｒ_１０は、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、ニトリル基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ペルフルオロアルキル基であるが、但し、上記二座配位子が式ＩＶａまたは式ＩＶｂにより定義される化合物を含む場合、Ｒ_１０の１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
を含む、上記［６］から［７］のいずれかに記載の方法。
［９］上記配位子が、単座ピリジン配位子を含む、上記［１］から［５］のいずれかに記載の方法。
［１０］ホウ素化アレーンを形成する方法であって、
電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分により置換されている芳香族環を含む基質であって、上記芳香族環が、上記部分に対しオルト位で置換されていない、基質を用意するステップ、ならびに
第１のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下で、上記基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子およびホウ素化試薬に接触させるステップを含み、
上記第１のホウ素化アレーンが、電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分、ならびに上記部分に対しオルト位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されている芳香族環を含む、ホウ素化アレーンを形成する方法。
［１１］上記芳香族環が、上記部分に対しオルト位で置換されておらず、かつ上記部分に対しメタ位で置換されていない、上記［１０］に記載の方法。
［１２］上記第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下、上記基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子およびホウ素化試薬に接触させるステップであって、
上記第２のホウ素化アレーンが、電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分、ならびに上記部分に対しメタ位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されている芳香族環を含み、
上記第１のホウ素化アレーンと上記第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも１：１である、ステップ
を含む、上記［１１］に記載の方法。
［１３］上記部分が、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基である、上記［１０］から［１２］のいずれかに記載の方法。
［１４］上記基質が、式Ｉによって定義される化合物

【化2】

（式中、
Ｘは、ＦまたはＣＦ_３であり、
Ｒ_１は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_２は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_３は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６の各々は、出現毎に個別に、水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基であり、
Ｒ_７は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である）
を含み、
上記第１のホウ素化アレーンが、式ＩＩによって定義される化合物

【化3】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含み、
上記第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、式ＩＩＩによって定義される化合物

【化4】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含む、
上記［１］から［４］または［６］から［１３］のいずれかに記載の方法。
［１５］上記基質が、１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンを含む、上記［１］から［４］または［６］から［１４］のいずれかに記載の方法。
［１６］上記基質が１−クロロ−３−フルオロ−２−メトキシベンゼンを含み、かつ上記第１のホウ素化アレーンが、（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸または（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）−ボロン酸誘導体を含む、上記［１］から［４］または［６］から［１５］のいずれかに記載の方法。
［１７］上記イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクタジエン前駆錯体、Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクテン前駆錯体、Ｉｒ（Ｉ）−メシチレン前駆錯体、Ｉｒ（Ｉ）−ホスフィン前駆錯体、Ｉｒ（Ｉ）−１，２，３，４，５−メチルシクロペンタジエニル前駆錯体、およびそれらの組合せからなる群から選択される、イリジウム錯体を含む、上記［１］から［１６］のいずれかに記載の方法。
［１８］上記基質、第１のホウ素化アレーン、および、第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、−Ｃｌおよび−Ｂｒからなる群から選択される置換基を含む、上記［１］から［１７］のいずれかに記載の方法。
［１９］上記基質が、以下の式により定義される化合物

【化5】

（式中、
Ｘは、電子吸引基または指向型メタル化基から選択される部分であり、
Ｒ_１は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_２は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_３は、−Ｃｌおよび−Ｂｒであり、
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６の各々は、出現毎に個別に、水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基であり、
Ｒ_７は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である）
を含み、
上記第１のホウ素化アレーンが、以下の式によって定義される化合物

【化6】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含み、
上記第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、以下の式によって定義される化合物

【化7】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含み、
上記第１のホウ素化アレーンと上記第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも２５：１である、
上記［１］から［１８］のいずれかに記載の方法。
［２０］上記第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化して、脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを得るステップをさらに含む、上記［１８］から［１９］のいずれかに記載の方法。
［２１］上記第１のホウ素化アレーンまたは上記脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを、ハロゲン化アリール、偽ハロゲン化アリール、ハロゲン化ビニルおよび偽ハロゲン化ビニルからなる群から選択される反応体、ならびに遷移金属触媒に接触させ、上記第１のホウ素化アレーンまたは上記脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンと上記反応体とをクロスカップリングするステップをさらに含む、上記［１］から［２０］のいずれかに記載の方法。
したがって、ホウ素化アレーンを調製する方法が提供される。一部の実施形態では、ホウ素化アレーンは、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基、ならびに電子吸引基に対しオルト位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されているフェニル環を含むことができる。ホウ素化アレーンを形成する方法は、第１のホウ素化アレーンおよび場合により第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下で、適切な基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子および二座配位子から選択される配位子、ならびにホウ素化試薬に接触させるステップを含むことができる。第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ガスクロマトグラフィー（例えば、水素炎イオン化検出器を備えたガスクロマトグラフ；ＧＣ−ＦＩＤ）を使用して決定すると、少なくとも１：１となり得る。

【0010】

ホウ素化アレーンの調製用基質は、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基により置換されているフェニル環であって、電子吸引基に対しオルト位で置換されておらず、かつ電子吸引基に対しメタ位で置換されていないフェニル環を含むことができる。第１のホウ素化アレーンは、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基、ならびにこの電子吸引基に対しオルト位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されているフェニル環を含むことができる。第２のホウ素化アレーンは、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基、ならびにこの電子吸引基に対しメタ位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されているフェニル環を含むことができる。

【0011】

例えば、一部の実施形態では、本基質は、式Ｉによって定義される化合物

【0012】

【化3】

（式中、
Ｘは、ＦまたはＣＦ_３であり、
Ｒ_１は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_２は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_３は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６の各々は、出現毎に個別に、水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基であり、
Ｒ_７は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である）
を含むことができる。

【0013】

これらの実施形態では、第１のホウ素化アレーンは、式ＩＩによって定義される化合物

【0014】

【化4】

（式中、Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）を含むことができ、および第２のホウ素化アレーンは、式ＩＩＩによって定義される化合物

【0015】

【化5】

（式中、Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含むことができる。

【0016】

ある種の実施形態では、本基質は、１−クロロ−３−フルオロ−２−メトキシベンゼンを含むことができ、その構造は以下に示されている。

【0017】

【化6】

【0018】

これらの実施形態の一部では、１−クロロ−３−フルオロ−２−メトキシベンゼンから形成される第１のホウ素化アレーンは、（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸または（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸誘導体（例えば、２−（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランなどの（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸エステル）を含むことができる。

【0019】

一部の実施形態では、配位子は、単座配位子（例えば、ピリジン配位子）とすることができる。一部の実施形態では、このピリジン配位子は、以下の式によって定義される化合物

【0020】

【化7】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
とすることができる。

【0021】

ある種の実施形態では、このピリジン配位子は、以下の式によって定義される化合物

【0022】

【化8】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
とすることができる。

【0023】

一部の実施形態では、配位子は、二座配位子とすることができる。二座配位子は、電子不足二座配位子とすることができる。例えば、一部の実施形態では、二座配位子は、１つまたは複数の電子吸引性置換基により置換されている２，２’−ビピリジン（例えば、１つまたは複数のトリフルオロメチル基により置換されている２，２’−ビピリジン）を含むことができる。ある種の実施形態では、二座配位子は、式ＩＶａ、式ＩＶｂまたは式ＩＶｃによって定義される化合物

【0024】

【化9】

（式中、ｎは、０、１、２または３であり、Ｒ_１０は、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、ニトリル基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ペルフルオロアルキル基であるが、但し、二座配位子が式ＩＶａまたは式ＩＶｂにより定義される化合物を含む場合、Ｒ_１０の１つまたは複数は水素ではないことを条件とする）
を含むことができる。

【0025】

同様に、電子吸引基および指向型メタル化基（directed metalating group）から選択される部分によって置換されている芳香族環であって、この部分に対しオルト位で置換されていない芳香族環を含む基質から、ホウ素化アレーンを形成する方法も提供される。本方法は、第１のホウ素化アレーン（すなわち、電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分、ならびにこの部分に対しオルト位でボロン酸またはボロン酸誘導体によって置換されている芳香族環）を形成するのに有効な条件下、上記の基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子およびホウ素化試薬に接触させるステップを含むことができる。

【0026】

ある種の実施形態では、本芳香族環は、上記の部分に対しオルト位で置換され得ず、かつ上記の部分に対しメタ位で置換され得ない。これらの実施形態では、本方法は、第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下、上記の基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子およびホウ素化試薬に接触させるステップであって、該第２のホウ素化アレーンが、電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分、ならびにこの部分に対しメタ位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されている芳香族環を含む、ステップを含むことができる。一部の実施形態では、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも１：１である。

【0027】

基質は、置換アリール化合物、６員の置換複素芳香族化合物、５員の置換複素芳香族化合物またはそれらの組合せとすることができる。一部の場合、上記の部分は、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基とすることができる。一部の場合、上記の部分は、指向型メタル化基とすることができる。ある種の実施形態では、この指向型メタル化基は、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、−ＳＯ_２Ｒ_１６、−ＳＯＲ_１６またはＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基からなる群から選択することができ、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である。

【0028】

一部の実施形態では、単座配位子は単座ピリジン配位子とすることができる。一部の実施形態では、このピリジン配位子は、以下の式によって定義される化合物

【0029】

【化10】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
とすることができる。

【0030】

ある種の実施形態では、このピリジン配位子は、以下の式によって定義される化合物

【0031】

【化11】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
とすることができる。

【0032】

同様に、１〜４つの置換基（例えば、１〜３つの置換基）を含む置換アレーン環を含む基質からホウ素化アレーンを形成する方法であって、該アレーン環が、ＣＨ活性化に電子的に有利な第１の位置において置換されておらず、かつＣＨ活性化に立体的に有利な第２の位置において置換されていない、方法も提供される。これらの実施形態では、方法は、第１のホウ素化アレーンおよび場合により第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下で、基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子および二座配位子から選択される配位子、ならびにホウ素化試薬に接触させるステップを含むことができる。第１のホウ素化アレーンは、１〜４つの置換基（例えば、１〜３つの置換基）、および第１の位置にボロン酸またはボロン酸誘導体を含む、置換アレーン環を含むことができる。第２のホウ素化アレーンは、形成される場合、１〜４つの置換基（例えば、１〜３つの置換基）、および第２の位置にボロン酸またはボロン酸誘導体を含む、置換アレーン環を含むことができる。第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも１：１となり得る。

【0033】

一部の場合、アレーン環は、フェニル環を含むことができる。例えば、一部の実施形態では、本基質は、式Ｉによって定義される化合物

【0034】

【化12】

（式中、
Ｘは、ＦまたはＣＦ_３であり、
Ｒ_１は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_２は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_３は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６の各々は、出現毎に個別に、水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基であり、
Ｒ_７は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である）
を含むことができる。

【0035】

これらの実施形態では、第１のホウ素化アレーンは、式ＩＩによって定義される化合物

【0036】

【化13】

（式中、Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）を含むことができ、および第２のホウ素化アレーンは、式ＩＩＩによって定義される化合物

【0037】

【化14】

（式中、Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含むことができる。

【0038】

ある種の実施形態では、本基質は、１−クロロ−３−フルオロ−２−メトキシベンゼンを含むことができ、その構造は以下に示されている。

【0039】

【化15】

【0040】

これらの実施形態の一部では、１−クロロ−３−フルオロ−２−メトキシベンゼンから形成される第１のホウ素化アレーンは、（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸または（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸誘導体（例えば、２−（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランなどの（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸エステル）を含むことができる。

【0041】

一部の場合、このアレーン環は、ピリジン環を含むことができる。ある種の場合、このピリジン環は、２−置換ピリジン環を含むことができる。ある種の場合、このピリジン環は、２，４−二置換ピリジン環、２，６−二置換ピリジン環または２，４，６−三置換ピリジン環を含むことができる。アレーン環上に存在している１〜３つの置換基は、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基から個別に選択することができ、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である。ある種の場合、このアレーン環は、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される、電子吸引基を含む。

【0042】

一部の実施形態では、配位子は、単座配位子（例えば、ピリジン配位子）とすることができる。一部の実施形態では、このピリジン配位子は、以下の式によって定義される化合物

【0043】

【化16】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
とすることができる。

【0044】

ある種の実施形態では、このピリジン配位子は、以下の式によって定義される化合物

【0045】

【化17】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
とすることができる。

【0046】

一部の実施形態では、配位子は、二座配位子とすることができる。二座配位子は、電子不足二座配位子とすることができる。例えば、一部の実施形態では、二座配位子は、１つまたは複数の電子吸引性置換基により置換されている２，２’−ビピリジン（例えば、１つまたは複数のトリフルオロメチル基により置換されている２，２’−ビピリジン）を含むことができる。ある種の実施形態では、二座配位子は、式ＩＶａ、式ＩＶｂまたは式ＩＶｃによって定義される化合物

【0047】

【化18】

（式中、ｎは、０、１、２または３であり、Ｒ_１０は、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、ニトリル基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ペルフルオロアルキル基であるが、但し、二座配位子が式ＩＶａまたは式ＩＶｂにより定義される化合物を含む場合、Ｒ_１０の１つまたは複数は水素ではないことを条件とする）
を含むことができる。

【0048】

同様に、電子的ホウ素化生成物をもっぱら形成する方法を含む、基質の位置選択的ホウ素化方法も提供される。一部の実施形態では、位置選択的ホウ素化方法は、タンデムホウ素化／脱ハロゲン化を含むことができる。例えば、アレーンの位置選択的ホウ素化方法は、第１のホウ素化アレーンおよび場合により第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下で、適切な基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子および二座配位子から選択される配位子、ならびにホウ素化試薬に接触させるステップであって、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、少なくとも２５：１である、ステップを含むことができる。この基質は、例えば、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基により置換されており、電子吸引基に対するオルト位で置換されていないフェニル環であって、かつ電子吸引基（例えば、電子吸引基に対しパラ置換基となるＣｌまたはＢｒ）に対し普通なら立体的に有利なメタ位におけるイリジウム触媒の立体的攻撃を妨害するよう配置されている犠牲的部分（sacrificial moiety）（例えば、ＣｌまたはＢｒなどのハロゲン）をさらに含む、フェニル環を含むことができる。結果として、イリジウム触媒によるアレーンのＣ−Ｈ活性化−ホウ素化は、オルトホウ素化された電子的生成物（すなわち、第１のホウ素化アレーン）をもっぱら生成する。

【0049】

方法はさらに、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化して、脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを得るステップを含むことができる。この第１のホウ素化アレーンは、任意の適切な合成方法を使用して還元的に脱ハロゲン化され得る。例えば、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化する方法は、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するのに有効な条件下で、第１のホウ素化アレーンを、ポリメチルヒドロシロキサン（ＰＭＨＳ）、塩基（例えば、フッ化カリウム（ＫＦ）、またはフッ化テトラｎ−ブチルアンモニウム（ＴＢＡＦ）などのテトラアルキルアンモニウム塩）、および金属触媒（例えば、酢酸パラジウム（ＩＩ））に接触させるステップを含むことができる。金属触媒は、ＰＭＨＳからのヒドリドを受け取り、次いで、第１のホウ素化アレーンの還元的脱ハロゲン化に関与することができる、様々な金属触媒を含むことができる。適切な金属触媒は、第１のホウ素化アレーンの特定名（identity）（例えば、水素化脱ハロゲン化されるハロゲンの特定名）を含めた、いくつかの要因を鑑みて選択され得る。例えば、金属触媒は、パラジウム（Ｐｄ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）または銅（Ｃｕ）を含むことができる。ある種の実施形態では、金属触媒は、酢酸パラジウム（ＩＩ）（Ｐｄ（ＯＡｃ）_２）などのパラジウム（ＩＩ）触媒またはテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（Ｐｄ（Ｐｈ_３Ｐ）_４）などのパラジウム（０）触媒を含むことができる。

【0050】

ある種の実施形態では、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化する方法は、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するのに有効な条件下で、第１のホウ素化アレーンを、ギ酸塩および遷移金属触媒に接触させるステップを含むことができる。ギ酸塩は、ギ酸アンモニウムなどの任意の適切なギ酸塩とすることができる。遷移金属触媒は、炭素担持パラジウムなどのパラジウム（０）触媒を含むことができる。ある種の実施形態では、上記のホウ素化および脱ハロゲン化は、ワンポット合成方法を使用して行うことができる。

【0051】

本明細書に記載されている方法を使用して調製されるホウ素化アレーンは、Ｓｕｚｕｋｉ型クロスカップリング反応などのクロスカップリング反応を含む、追加的な化学反応に利用することができる。一部の実施形態では、本明細書に記載されている方法はさらに、第１のホウ素化アレーンまたは脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを、ハロゲン化アリール、偽ハロゲン化アリール、ハロゲン化ビニルおよび偽ハロゲン化ビニルからなる群から選択される反応体、ならびに遷移金属触媒に接触させ、上記の反応体と上記の第１のホウ素化アレーンまたは脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンとをクロスカップリングするステップを含むことができる。

【0052】

同様に、１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンを含めた、電子吸引基により置換されているアレーンのホウ素化を、フルオロ置換基に対するオルト位で触媒することができるイリジウム錯体触媒も提供される。イリジウム錯体触媒は、イリジウム前駆錯体、単座または二座配位子、およびホウ素化試薬を組み合わせることにより形成することができる。

【発明を実施するための形態】

【0053】

定義
本明細書において使用される用語は、特に明記しない限り、当技術分野においてそれらの慣用的な意味を有することになろう。本明細書に記載されている式の可変基（variable）の定義において言及されている有機部分は、ハロゲンという用語のように、個々の基の個々のメンバーの列挙したものをまとめた用語である。接頭語Ｃ_ｎ〜Ｃ_ｍは、各場合において、その基における可能な炭素原子数を示す。

【0054】

用語「アルキル」とは、本明細書で使用する場合、１〜６個の炭素原子を有するものを含む、飽和の直鎖状、分岐状、環式、第一級、第二級または第三級の炭化水素を指す。一部の実施形態では、アルキル基には、Ｃ_１、Ｃ_１〜Ｃ_２、Ｃ_１〜Ｃ_３、Ｃ_１〜Ｃ_４、Ｃ_１〜Ｃ_５またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基が含まれよう。Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基の例には、以下に限定されないが、メチル、エチル、プロピル、１−メチルエチル、ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチル、ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ヘキシル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチルプロピル、１−エチル−２−メチルプロピル、およびそれらの異性体が含まれる。Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基には、例えば、メチル、エチル、プロピル、１−メチルエチル、ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピルおよび１，１−ジメチルエチルが含まれ得る。

【0055】

アルキルにより包含される、環式アルキル基または「シクロアルキル」基には、３〜６個の炭素原子を含む、単環または縮合多環を有するものが含まれる。一部の実施形態では、シクロアルキル基には、Ｃ_４〜Ｃ_６またはＣ_３〜Ｃ_４環式アルキル基が含まれる。シクロアルキル基の非限定例には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシル基が含まれる。

【0056】

アルキル基は置換され得ないか、またはアルキル、ハロ、ハロアルキル、ヒドロキシル、カルボキシル、アシル、アシルオキシ、アミノ、アルキル−またはジアルキルアミノ、アミド、ニトロ、シアノ、アジド、チオール、または本明細書に記載されている合成方法を妨げない他の任意の実施可能な官能基（無保護であるか、または必要に応じて、当業者に公知の、例えば、参照により本明細書に組み込まれている、Greene, et al., Protective Groups in Organic Synthesis, John Wiley and Sons, Fourth Edition, 2007において教示されている通りに、保護されているかのいずれかである）などの１つまたは複数の部分により置換され得る。

【0057】

用語「ハロアルキル」とは、本明細書で使用する場合、１個または複数のハロゲン原子により置換されている、上で定義されているアルキル基を指す。例えば、Ｃ_１〜Ｃ_４−ハロアルキルには、以下に限定されないが、クロロメチル、ブロモメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロフルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、１−クロロエチル、１−ブロモエチル、１−フルオロエチル、２−フルオロエチル、２，２−ジフルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２−クロロ−２−フルオロエチル、２−クロロ−２，２−ジフルオロエチル、２，２−ジクロロ−２−フルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、ペンタフルオロエチルなどが含まれる。

【0058】

Ｒがアルキルである−ＯＲとしても定義される用語「アルコキシ」とは、−Ｏ−アルキルを指し、アルキルは、上で定義されている通りである。同様に、用語ハロアルコキシは、−Ｏ−ハロアルキルを指すために使用することができ、ハロアルキルは、上で定義されている通りである。一部の実施形態では、アルコキシ基は、１〜６個の炭素原子を含むことができる。Ｃ_１〜Ｃ_６−アルコキシ基の例には、以下に限定されないが、メトキシ、エトキシ、Ｃ_２Ｈ_５−ＣＨ_２Ｏ−、（ＣＨ_３）_２ＣＨＯ−、ｎ−ブトキシ、Ｃ_２Ｈ_５−ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ−、（ＣＨ_３）_２ＣＨ−ＣＨ_２Ｏ−_、（ＣＨ_３）_３ＣＯ−、ｎ−ペントキシ、１−メチルブトキシ、２−メチルブトキシ、３−メチルブトキシ、１，１−ジメチルプロポキシ、１，２−ジメチルプロポキシ、２，２−ジメチル−プロポキシ、１−エチルプロポキシ、ｎ−ヘキソキシ、１−メチルペントキシ、２−メチルペントキシ、３−メチルペントキシ、４−メチルペントキシ、１，１−ジメチルブトキシ、１，２−ジメチルブトキシ、１，３−ジメチルブトキシ、２，２−ジメチルブトキシ、２，３−ジメチルブトキシ、３，３−ジメチルブトキシ、１−エチルブトキシ、２−エチルブトキシ、１，１，２−トリメチルプロポキシ、１，２，２−トリメチルプロポキシ、１−エチル−１−メチルプロポキシおよび１−エチル−２−メチルプロポキシが含まれる。

【0059】

用語「アルキルアミノ」および「ジアルキルアミノ」とは、アルキル−ＮＨ−および（アルキル）_２Ｎ−を指し、アルキルは上で定義されている通りである。同様に、用語ハロアルキルアミノおよびハロジアルキルアミノとは、ハロアルキル−ＮＨ−および（ハロアルキル）_２−ＮＨ−を指し、ハロアルキルは上で定義されている通りである。用語「アミノアルキル」とは、１つのアミノ基により置換されている、上で定義されているアルキル基を指す。

【0060】

用語「アルキルカルボニル」、「アルコキシカルボニル」、「アルキルアミノカルボニル」および「ジアルキルアミノカルボニル」とは、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（Ｏ）−アルコキシ、−Ｃ（Ｏ）−アルキルアミノおよび−Ｃ（Ｏ）−ジアルキルアミノを指し、アルキル、アルコキシ、アルキルアミノおよびジアルキルアミノは、上で定義されている通りである。

【0061】

用語「ボロン酸」とは、本明細書で使用する場合、−Ｂ（ＯＨ）_２部分を指す。用語ボロン酸誘導体とは、１個または複数の原子、官能基または部分構造が存在するかまたは存在しない点で、ボロン酸とは異なるホウ素含有部分であって、少なくとも理論的にボロン酸から、ある化学的または物理的過程によって形成されるものと想像することができる、ホウ素含有部分を指す。ボロン酸誘導体の例には、ボロネート、ボロネートエステルまたはボロン酸エステル（boronic ester）とも呼ばれるボロン酸エステル、１，３，２−ジアザボロリジル基などの環式アミノボランを含むアミノボラン、およびボロン酸無水物が含まれる。用語ボロン酸エステルとは、−Ｂ（ＯＲ）_２（Ｒは上で定義されているアルキル基である）などのエステル化されているボロン酸部分、および−Ｂ（ＯＲ）_２により表される環式ボロン酸部分（２つのＲ置換基は、場合により、１個または複数の追加のヘテロ原子（例えば、Ｎ、Ｏ、Ｓ、またはそれらの組合せ）を含むＣ_２〜Ｃ_６環式部分を形成するように一緒に連結されており、場合により１つまたは複数の置換基によりさらに置換されているかつ／または１つまたは複数のさらなるカルボシクリル基または複素カルボシクリル基と縮合している（少なくとも１つの結合を共有している））を指す。環式ボロン酸エステルの例には、以下に限定されないが、ピナンジオールボロン酸エステル、ピナコールボロン酸エステル、１，２−エタンジオールボロン酸エステル、１，３−プロパンジオールボロン酸エステル、１，２−プロパンジオールボロン酸エステル、２，３−ブタンジオールボロン酸エステル、１，１，２，２−テトラメチルエタンジオールボロン酸エステル、１，２−ジイソプロピルエタンジオールボロン酸エステル、５，６−デカンジオールボロン酸エステル、１，２−ジシクロヘキシルエタンジオールボロン酸エステル、ビシクロヘキシル−１，１’−ジオールボロン酸エステル、ジエタノールアミンボロン酸エステルおよび１，２−ジフェニル−１，２−エタンジオールボロン酸エステルが含まれる。

【0062】

用語「ハロゲン」とは、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素の原子を指す。接頭語のハロ−（例えば、用語ハロアルキルによって例示される）とは、単一置換からパーハロ置換（例えば、クロロメチル（−ＣＨ_２Ｃｌ）、ジクロロメチル（−ＣＨＣｌ_２）、トリクロロメチル（−ＣＣｌ_３）としてのメチルによって例示される）までのすべてのハロゲン置換度を指す。

【0063】

用語「アレーン」とは、本明細書では一般に、芳香族環、または一緒に縮合している多環芳香族を指すために使用される。アレーンの例には、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセンなどが含まれる。用語アレーンには、複素アレーン（すなわち、芳香族環中の１個または複数の炭素原子が、Ｏ、ＮまたはＳなどのヘテロ原子により置き換えられている、芳香族化合物）も含まれる。複素アレーンの例には、例えば、ピリジン、フラン、インドール、ベンゾイミダゾール、チオフェン、ベンゾチアゾールなどが含まれる。

【0064】

方法
ホウ素化アレーンを調製する方法が提供される。ホウ素化アレーンは、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基、ならびに電子吸引基に対しオルト位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されているフェニル環を含むことができる。ホウ素化アレーンを形成する方法は、第１のホウ素化アレーンおよび場合により第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下で、適切な基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子および二座配位子から選択される配位子、ならびにホウ素化試薬に接触させるステップを含むことができる。第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ガスクロマトグラフィー（例えば、水素炎イオン化検出器を備えたガスクロマトグラフ；ＧＣ−ＦＩＤ）を使用して決定すると、少なくとも１：１となり得る。

【0065】

ホウ素化アレーンの調製用基質は、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基により置換されているフェニル環であって、電子吸引基に対しオルト位で置換されておらず、かつ電子吸引基に対しメタ位で置換されていないフェニル環を含むことができる。フェニル環は、ハロゲン（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基（例えば、第一級アミン、アルキルアミンまたはジアルキルアミン）、カルボン酸、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、ジアルキルアミノカルボニル基、ニトリル基、アルキル基（例えば、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_４アルキル基）、ハロアルキル基（例えば、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基またはＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基）、またはそれらの組合せなどの１つまたは複数の追加の置換基をさらに含むことができる。一部の実施形態では、基質は、ヒドロシリル基、−ＣＯ_２Ｍｅ基、−ＣＯ_２ｔＢｕ基、−ＣＯＮＭｅ_２基、−ＳＯ_３Ｍｅ基または−ＣＨ（Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｏ）基などのイリジウム金属中心に配位する置換基は含まない。

【0066】

第１のホウ素化アレーンは、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基、ならびにこの電子吸引基に対しオルト位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されているフェニル環を含むことができる。第２のホウ素化アレーンは、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基、ならびにこの電子吸引基に対しメタ位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されているフェニル環を含むことができる。第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンのフェニル環は、ハロゲン（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基（例えば、第一級アミン、アルキルアミンまたはジアルキルアミン）、カルボン酸、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、ジアルキルアミノカルボニル基、ニトリル基、アルキル基（例えば、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_４アルキル基）、ハロアルキル基（例えば、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基またはＣ_１〜Ｃ_４ハロアルキル基）またはそれらの組合せなどの、置換基がそれから形成される基質上に存在している、１つまたは複数の追加の置換基をさらに含むことができる。

【0067】

例えば、一部の実施形態では、本基質は、式Ｉによって定義される化合物

【0068】

【化19】

（式中、
Ｘは、ＦまたはＣＦ_３であり、
Ｒ_１は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_２は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_３は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６の各々は、出現毎に個別に、水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基であり、
Ｒ_７は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である）
を含むことができる。

【0069】

これらの実施形態では、第１のホウ素化アレーンは、式ＩＩによって定義される化合物

【0070】

【化20】

（式中、Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）を含むことができ、および第２のホウ素化アレーンは、式ＩＩＩによって定義される化合物

【0071】

【化21】

（式中、Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含むことができる。

【0072】

Ｙは、ボロン酸部分（−Ｂ（ＯＨ）_２）とすることができる。Ｙは、ボロン酸エステル、アミノボランまたはボロン酸無水物などの、ボロン酸誘導体とすることもできる。一部の実施形態では、Ｙは、式−Ｂ（ＯＲ_１２）_２によって定義される、ボロン酸エステルとすることができ、各Ｒ_１２は独立して、上で定義されているアルキル基（例えば、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基）である。

【0073】

他の実施形態では、Ｙは、式−Ｂ（ＯＲ_１２）_２によって定義される、環式ボロン酸エステルとすることができ、２つのＲ_１２基は、それらが結合している原子と一緒になって、Ｃ_２〜Ｃ_６環式部分を形成する。Ｃ_２〜Ｃ_６環式部分は、場合により、（例えば、１つまたは複数のＣ_１〜Ｃ_６アルキル基により）置換され得る。Ｃ_２〜Ｃ_６環式部分は、場合により、１つまたは複数のカルボシクリル基または複素カルボシクリル基と縮合され得る（少なくとも１つの結合を共有している）。例えば、Ｙは、ピナンジオールボロン酸エステル、ピナコールボロン酸エステル、１，２−エタンジオールボロン酸エステル、１，３−プロパンジオールボロン酸エステル、１，２−プロパンジオールボロン酸エステル、２，３−ブタンジオールボロン酸エステル、１，１，２，２−テトラメチルエタンジオールボロン酸エステル、１，２−ジイソプロピルエタンジオールボロン酸エステル、５，６−デカンジオールボロン酸エステル、１，２−ジシクロヘキシルエタンジオールボロン酸エステル、ビシクロヘキシル−１，１’−ジオールボロン酸エステル、ジエタノールアミンボロン酸エステルまたは１，２−ジフェニル−１，２−エタンジオールボロン酸エステルとすることができる。ある種の実施形態では、Ｙは、以下の部分の１つから選択される。

【0074】

【化22】

【0075】

一部の実施形態では、基質は式Ｉによって定義される化合物（式中、Ｒ_２はハロゲンである）を含むことができる。ある種の場合、Ｒ_２はクロロ基とすることができる。一部の実施形態では、基質は、Ｒ_１位において置換されている式Ｉの化合物を含むことができる（例えば、Ｒ_１は、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基とすることができる）。ある種の実施形態では、基質は、１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼン、１−クロロ−３−トリフルオロメチル−２−置換ベンゼン、１−ブロモ−３−フルオロ−２−置換ベンゼン、または１−ブロモ−３−トリフルオロメチル−２−置換ベンゼンを含むことができ、これらのベンゼン環の２位は、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基によって置換されている。

【0076】

ある種の実施形態では、基質は、１−クロロ−３−フルオロ−２−メトキシベンゼンを含むことができ、その構造は以下に示されている。

【0077】

【化23】

【0078】

これらの実施形態の一部では、１−クロロ−３−フルオロ−２−メトキシベンゼンから形成される第１のホウ素化アレーンは、２−（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランなどの（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸または（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸エステルを含むことができ、２−（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランの構造は、以下に示されている。

【0079】

【化24】

【0080】

他の実施形態では、本基質は、式Ｉによって定義される化合物

【0081】

【化25】

（式中、
Ｘは、ＦまたはＣＦ_３であり、
Ｒ_１は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_２は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_３は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６の各々は、出現毎に個別に、水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基であり、
Ｒ_７は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である）
を含むことができる。

【0082】

これらの実施形態では、第１のホウ素化アレーンは、式ＩＩａによって定義される化合物

【0083】

【化26】

（式中、Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、上記のボロン酸またはボロン酸誘導体である）を含むことができ、および、第２のホウ素化アレーンは、式ＩＩＩａによって定義される化合物

【0084】

【化27】

（式中、Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、上記のボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含むことができる。

【0085】

上記の通り、基質は、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基により置換されているフェニル基であって、電子吸引基に対しオルト位で置換されておらず、かつ電子吸引基に対しメタ位で置換されていない、フェニル環を含むことができる。本明細書において提供される方法は、第２のホウ素化アレーンを形成するよう、電子吸引基に対しメタ位で基質がホウ素化（「立体的生成物」と呼ばれる、立体的に有利な反応生成物）されるよりも、第１のホウ素化アレーンを形成するよう、電子吸引基に対しオルト位で基質がホウ素化（「電子的生成物」と呼ばれる、電子的に有利な反応生成物）されるのが有利となり得る。

【0086】

第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ガスクロマトグラフィー（例えば、水素炎イオン化検出器を備えたガスクロマトグラフ；ＧＣ−ＦＩＤ）および／または^１９Ｆ核磁気共鳴（ＮＭＲ）分光法を含む、当技術分野で公知の標準的方法を使用して決定することができる。第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、少なくとも１：１（例えば、少なくとも１．１：１、少なくとも１．２：１、少なくとも１．３：１、少なくとも１．４：１、少なくとも１．５：１、少なくとも１．６：１、少なくとも１．７：１、少なくとも１．８：１、少なくとも１．９：１、少なくとも２．０：１、少なくとも２．１：１、少なくとも２．２：１、少なくとも２．３：１、少なくとも２．４：１、少なくとも２．５：１、少なくとも２．６：１、少なくとも２．７：１、少なくとも２．８：１、少なくとも２．９：１、少なくとも３．０：１、少なくとも３．１：１、少なくとも３．２：１、少なくとも３．３：１、少なくとも３．４：１、少なくとも３．５：１、少なくとも３．６：１、少なくとも３．７：１、少なくとも３．８：１、少なくとも３．９：１、少なくとも４．０：１、少なくとも４．１：１、少なくとも４．２：１、少なくとも４．３：１、少なくとも４．４：１、少なくとも４．５：１、少なくとも４．６：１、少なくとも４．７：１、少なくとも４．８：１、少なくとも４．９：１、少なくとも５：１、少なくとも５．５：１、少なくとも６：１、少なくとも６．５：１、少なくとも７：１、少なくとも７．５：１、少なくとも８：１、少なくとも８．５：１、少なくとも９：１、少なくとも９．５：１、少なくとも１０：１、少なくとも１５：１、または少なくとも２０：１）となり得る。一部の実施形態では、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、２５：１以下（例えば、２０：１以下、１５：１以下、１０：１以下、９．５：１以下、９：１以下、８．５：１以下、８：１以下、７．５：１以下、７：１以下、６．５：１以下、６：１以下、５．５：１以下、５：１以下、４．９：１以下、４．８：１以下、４．７：１以下、４．６：１以下、４．５：１以下、４．４：１以下、４．３：１以下、４．２：１以下、４．１：１以下、４：１以下、３．９：１以下、３．８：１以下、３．７：１以下、３．６：１以下、３．５：１以下、３．４：１以下、３．３：１以下、３．２：１以下、３．１：１以下、３：１以下、２．９：１以下、２．８：１以下、２．７：１以下、２．６：１以下、２．５：１以下、２．４：１以下、２．３：１以下、２．２：１以下、２．１：１以下、２：１以下、１．９：１以下、１．８：１以下、１．７：１以下、１．６：１以下、１．５：１以下、１．４：１以下、１．３：１以下、１．２：１以下、または１．１：１以下）である。

【0087】

第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、上記の最小値のいずれかから上記の最大値のいずれかまでの範囲とすることができる。例えば、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、１：１〜２５：１（例えば、１．５：１〜２５：１、３：１〜２５：１、１：１〜１０：１、１．５：１〜１０：１または３：１〜１０：１）の範囲とすることができる。

【0088】

基質の第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの転化率は、基質の反応性、配位子の特定名、およびホウ素化試薬の特定名を含めた、いくつかの要因に応じて変わり得る。一部の実施形態では、基質の第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの転化率は、少なくとも３０％（例えば、少なくとも３５％、少なくとも４０％、少なくとも４５％、少なくとも５０％、少なくとも５５％、少なくとも６０％、少なくとも６５％、少なくとも７０％、少なくとも７５％、少なくとも８０％、少なくとも８５％、少なくとも９０％または少なくとも９５％）となり得る。

【0089】

同様に、電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分によって置換されている芳香族環であって、この部分に対しオルト位で置換されていない芳香族環を含む基質から、ホウ素化アレーンを形成する方法も提供される。本方法は、第１のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下、上記の基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子およびホウ素化試薬に接触させるステップを含むことができる。第１のホウ素化アレーンは、電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分、ならびにこの部分に対しオルト位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されている芳香族環を含むことができる。

【0090】

ある種の実施形態では、本芳香族環は、上記の部分に対しオルト位で置換され得ず、かつ上記の部分に対しメタ位で置換され得ない。これらの実施形態では、本方法は、第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下、上記の基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子およびホウ素化試薬に接触させるステップを含むことができる。該第２のホウ素化アレーンは、電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分、ならびにこの部分に対しメタ位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されている芳香族環を含むことができる。一部の実施形態では、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも１：１である。

【0091】

基質は、置換アリール化合物、６員の置換複素芳香族化合物、５員の置換複素芳香族化合物またはそれらの組合せとすることができる。一部の実施形態では、本基質は、上記のものなどのフェニル環を含むことができる。一部の実施形態では、本基質はピリジン環を含むことができる。

【0092】

上記の通り、芳香族環は、電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分により置換され得る。一部の場合、上記の部分は、電子吸引基とすることができる。ある種の実施形態では、上記の部分は、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基とすることができる。

【0093】

一部の場合、上記の部分は、指向型メタル化基とすることができる。指向型メタル化基は、当技術分野で公知である。例えばWhisler, M. C., et al., Angew. Chem., Int. Ed. 2004, 43, 2206-2225を参照されたい。ある種の実施形態では、この指向型メタル化基は、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、−ＳＯ_２Ｒ_１６、−ＳＯＲ_１６またはＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基からなる群から選択することができ、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である。

【0094】

これらの方法では、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、少なくとも１：１（例えば、少なくとも１．１：１、少なくとも１．２：１、少なくとも１．３：１、少なくとも１．４：１、少なくとも１．５：１、少なくとも１．６：１、少なくとも１．７：１、少なくとも１．８：１、少なくとも１．９：１、少なくとも２．０：１、少なくとも２．１：１、少なくとも２．２：１、少なくとも２．３：１、少なくとも２．４：１、少なくとも２．５：１、少なくとも２．６：１、少なくとも２．７：１、少なくとも２．８：１、少なくとも２．９：１、少なくとも３．０：１、少なくとも３．１：１、少なくとも３．２：１、少なくとも３．３：１、少なくとも３．４：１、少なくとも３．５：１、少なくとも３．６：１、少なくとも３．７：１、少なくとも３．８：１、少なくとも３．９：１、少なくとも４．０：１、少なくとも４．１：１、少なくとも４．２：１、少なくとも４．３：１、少なくとも４．４：１、少なくとも４．５：１、少なくとも４．６：１、少なくとも４．７：１、少なくとも４．８：１、少なくとも４．９：１、少なくとも５：１、少なくとも５．５：１、少なくとも６：１、少なくとも６．５：１、少なくとも７：１、少なくとも７．５：１、少なくとも８：１、少なくとも８．５：１、少なくとも９：１、少なくとも９．５：１、少なくとも１０：１、少なくとも１５：１、または少なくとも２０：１）となり得る。一部の実施形態では、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、２５：１以下（例えば、２０：１以下、１５：１以下、１０：１以下、９．５：１以下、９：１以下、８．５：１以下、８：１以下、７．５：１以下、７：１以下、６．５：１以下、６：１以下、５．５：１以下、５：１以下、４．９：１以下、４．８：１以下、４．７：１以下、４．６：１以下、４．５：１以下、４．４：１以下、４．３：１以下、４．２：１以下、４．１：１以下、４：１以下、３．９：１以下、３．８：１以下、３．７：１以下、３．６：１以下、３．５：１以下、３．４：１以下、３．３：１以下、３．２：１以下、３．１：１以下、３：１以下、２．９：１以下、２．８：１以下、２．７：１以下、２．６：１以下、２．５：１以下、２．４：１以下、２．３：１以下、２．２：１以下、２．１：１以下、２：１以下、１．９：１以下、１．８：１以下、１．７：１以下、１．６：１以下、１．５：１以下、１．４：１以下、１．３：１以下、１．２：１以下、または１．１：１以下）である。

【0095】

第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、上記の最小値のいずれかから上記の最大値のいずれかまでの範囲とすることができる。例えば、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、１：１〜２５：１（例えば、１．５：１〜２５：１、３：１〜２５：１、１：１〜１０：１、１．５：１〜１０：１または３：１〜１０：１）の範囲とすることができる。

【0096】

基質の第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの転化率は、基質の反応性、配位子の特定名、およびホウ素化試薬の種類特定名を含めた、いくつかの要因に応じて変わり得る。一部の実施形態では、基質の第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの転化率は、少なくとも３０％（例えば、少なくとも３５％、少なくとも４０％、少なくとも４５％、少なくとも５０％、少なくとも５５％、少なくとも６０％、少なくとも６５％、少なくとも７０％、少なくとも７５％、少なくとも８０％、少なくとも８５％、少なくとも９０％または少なくとも９５％）となり得る。

【0097】

同様に、１〜４つの置換基（例えば、１〜３つの置換基）を含む置換アレーン環を含む基質からホウ素化アレーンを形成する方法であって、該アレーン環が、ＣＨ活性化に電子的に有利な第１の位置において置換されておらず、かつＣＨ活性化に立体的に有利な第２の位置において置換されていない、方法も提供される。これらの実施形態では、方法は、第１のホウ素化アレーンおよび場合により第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下で、基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子および二座配位子から選択される配位子、ならびにホウ素化試薬に接触させるステップを含むことができる。第１のホウ素化アレーンは、１〜４つの置換基（例えば、１〜３つの置換基）、および第１の位置にボロン酸またはボロン酸誘導体を含む、置換アレーン環を含むことができる。第２のホウ素化アレーンは、形成される場合、１〜４つの置換基（例えば、１〜３つの置換基）、および第２の位置にボロン酸またはボロン酸誘導体を含む、置換アレーン環を含むことができる。第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも１：１となり得る。

【0098】

一部の場合、アレーン環は、上記のものなどのフェニル環を含むことができる。一部の場合、このアレーン環は、ピリジン環を含むことができる。ある種の場合、このピリジン環は、２−置換ピリジン環を含むことができる。ある種の場合、このピリジン環は、２，４−二置換ピリジン環、２，６−二置換ピリジン環または２，４，６−三置換ピリジン環を含むことができる。アレーン環上に存在している１〜４つの置換基（例えば、１〜３つの置換基）は、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基から個別に選択することができ、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である。ある種の場合、このアレーン環は、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される、電子吸引基を含む。

【0099】

これらの方法では、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、少なくとも１：１（例えば、少なくとも１．１：１、少なくとも１．２：１、少なくとも１．３：１、少なくとも１．４：１、少なくとも１．５：１、少なくとも１．６：１、少なくとも１．７：１、少なくとも１．８：１、少なくとも１．９：１、少なくとも２．０：１、少なくとも２．１：１、少なくとも２．２：１、少なくとも２．３：１、少なくとも２．４：１、少なくとも２．５：１、少なくとも２．６：１、少なくとも２．７：１、少なくとも２．８：１、少なくとも２．９：１、少なくとも３．０：１、少なくとも３．１：１、少なくとも３．２：１、少なくとも３．３：１、少なくとも３．４：１、少なくとも３．５：１、少なくとも３．６：１、少なくとも３．７：１、少なくとも３．８：１、少なくとも３．９：１、少なくとも４．０：１、少なくとも４．１：１、少なくとも４．２：１、少なくとも４．３：１、少なくとも４．４：１、少なくとも４．５：１、少なくとも４．６：１、少なくとも４．７：１、少なくとも４．８：１、少なくとも４．９：１、少なくとも５：１、少なくとも５．５：１、少なくとも６：１、少なくとも６．５：１、少なくとも７：１、少なくとも７．５：１、少なくとも８：１、少なくとも８．５：１、少なくとも９：１、少なくとも９．５：１、少なくとも１０：１、少なくとも１５：１、または少なくとも２０：１）となり得る。一部の実施形態では、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、２５：１以下（例えば、２０：１以下、１５：１以下、１０：１以下、９．５：１以下、９：１以下、８．５：１以下、８：１以下、７．５：１以下、７：１以下、６．５：１以下、６：１以下、５．５：１以下、５：１以下、４．９：１以下、４．８：１以下、４．７：１以下、４．６：１以下、４．５：１以下、４．４：１以下、４．３：１以下、４．２：１以下、４．１：１以下、４：１以下、３．９：１以下、３．８：１以下、３．７：１以下、３．６：１以下、３．５：１以下、３．４：１以下、３．３：１以下、３．２：１以下、３．１：１以下、３：１以下、２．９：１以下、２．８：１以下、２．７：１以下、２．６：１以下、２．５：１以下、２．４：１以下、２．３：１以下、２．２：１以下、２．１：１以下、２：１以下、１．９：１以下、１．８：１以下、１．７：１以下、１．６：１以下、１．５：１以下、１．４：１以下、１．３：１以下、１．２：１以下、または１．１：１以下）である。

【0100】

第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、上記の最小値のいずれかから上記の最大値のいずれかまでの範囲とすることができる。例えば、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比は、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、１：１〜２５：１（例えば、１．５：１〜２５：１、３：１〜２５：１、１：１〜１０：１、１．５：１〜１０：１または３：１〜１０：１）の範囲とすることができる。

【0101】

基質の第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの転化率は、基質の反応性、配位子の特定名、およびホウ素化試薬の特定名を含めた、いくつかの要因に応じて変わり得る。一部の実施形態では、基質の第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの転化率は、少なくとも３０％（例えば、少なくとも３５％、少なくとも４０％、少なくとも４５％、少なくとも５０％、少なくとも５５％、少なくとも６０％、少なくとも６５％、少なくとも７０％、少なくとも７５％、少なくとも８０％、少なくとも８５％、少なくとも９０％または少なくとも９５％）となり得る。

【0102】

上記のホウ素化アレーンを形成する方法は、反応させる基質を、イリジウム前駆錯体、配位子およびホウ素化試薬に接触させるステップを含むことができる。基質は、イリジウム前駆錯体、配位子およびホウ素化試薬の反応により形成される触媒的に活性なイリジウム錯体を触媒として有効な量で組み合わせて、上記の基質およびホウ素化試薬が存在するよう、任意の適切な方法で、イリジウム前駆錯体、配位子およびホウ素化試薬と接触され得る。例えば、基質は、単一の反応容器または溶液中、基質、イリジウム前駆錯体、配位子およびホウ素化試薬を任意の順序または方法で組み合わせることにより（例えば、基質、イリジウム前駆錯体、配位子およびホウ素化試薬を、逐次または同時に反応容器に加えることにより）、イリジウム前駆錯体、配位子およびホウ素化試薬に接触され得る。したがって、基質をイリジウム前駆錯体、配位子およびホウ素化試薬に接触させるステップは、イリジウム前駆錯体、配位子およびホウ素化試薬、またはイリジウム前駆錯体および配位子を組み合わせて触媒的な活性なイリジウム錯体を形成させ、続いて基質および／またはホウ素化試薬と組み合わせることによる方法を包含し得る。

【0103】

イリジウム前駆錯体は、配位子およびホウ素化試薬と反応して、触媒的に活性なイリジウム錯体を形成することができる、任意のイリジウム錯体とすることができる。イリジウム前駆錯体は、水素を除く３つ以上の置換基がイリジウムに結合している、イリジウム錯体を含むことができる。適切なイリジウム前駆錯体は、シクロオクテン（ｃｏｅ）、メシチレン（ＭｅｓＨ）、シクロオクタジエン（ｃｏｄ）、１，２，３，４，５−メチルシクロペンタジエニル（ＣＰ^＊）、インデニル（Ｉｎｄ）またはホスフィン、および場合により、ハロゲン、−ＯＭｅ、−ＯＨ、−ＯＡｃまたは−ＯＰｈなどの単座配位子を含めた、１つまたは複数の追加の配位子などの、１つまたは複数の有機配位子を含むことができ、これらは、イリジウム先駆錯体と配位子および／またはホウ素化試薬とを組み合わせると容易に置き換わり得る。適切なイリジウム前駆錯体は、それらの全体が参照により本明細書に組み込まれている、Ｓｍｉｔｈへの米国特許第６，８７８，８３０号、およびＳｍｉｔｈらへの米国特許第７，５１４，５６３号において記載されているイリジウム触媒を含むことができる。

【0104】

例として、イリジウム前駆錯体は、Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクタジエン前駆錯体を含むことができる。適切なＩｒ（Ｉ）−シクロオクタジエン前駆錯体は、当技術分野で公知であり、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（Ｃｌ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（ｃｏｄ）_２］ＢＦ_４、［Ｉｒ（ＯＨ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（ＯＰｈ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（ＯＡｃ）ｃｏｄ］_２、（Ｉｎｄ）Ｉｒ（ｃｏｄ）、Ｉｒ（ａｃａｃ）ｃｏｄ、（ｄｔｂｐｙ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｄ）、（ｔｍｐ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｄ）およびそれらの組合せを含む。一部の実施形態では、イリジウム前駆錯体は［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２を含むことができる。イリジウム前駆錯体はまた、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（Ｃｌ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（ｃｏｅ）_２］ＢＦ_４、［Ｉｒ（ＯＨ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（ＯＰｈ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（ＯＡｃ）ｃｏｅ］_２、（Ｉｎｄ）Ｉｒ（ｃｏｅ）、Ｉｒ（ａｃａｃ）ｃｏｅ、（ｄｔｂｐｙ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｅ）、（ｔｍｐ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｅ）、［ＩｒＣｌ（ｃｏｅ）_２］_２およびそれらの組合せなどのＩｒ（Ｉ）−シクロオクテン前駆錯体も含むことができる。イリジウム前駆錯体はまた、Ｉｒ（Ｉ）−メシチレン前駆錯体を含むことができる。例示的なＩｒ（Ｉ）−メシチレン前駆錯体は、（ＭｅｓＨ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）（Ｂ（ＯＲ_１１）_２）および（ＭｅｓＨ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３を含むことができ、ＢＰｉｎはピナコールボランであり、Ｒ_１１は、水素、線状または分岐状Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、アリール基、またはＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基である。イリジウム前駆錯体はまた、Ｉｒ（Ｉ）−ホスフィン前駆錯体を含むことができる。例示的なＩｒ（Ｉ）−ホスフィン前駆錯体は、（ｄｐｐｂｚ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３、（Ｉｎｄ）Ｉｒ（ｄｐｐｅ）、（ＰＭｅ_３）_２ＩｒＨ_５、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_２ＩｒＨ_５、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_３Ｉｒ（Ｂ（ＯＲ_１１）_２）_３、（Ｒ_１１）_２Ｐ）_２Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３、（（（Ｒ_１１）_２Ｐ）_３Ｉｒ（（Ｒ_１１Ｏ）_２Ｂ）_３）_２、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_４Ｉｒ（ＢＰｉｎ）、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_２ＩｒＨ_ｘ（Ｂ（ＯＲ_１１）_２）_５−ｘおよびそれらの組合せを含み、ｘは、０〜４の間の整数であり、ｄｐｐｂｚは、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）ベンゼンであり、ＢＰｉｎはピナコールボランであり、Ｒ_１１は水素、線状または分岐状Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、アリール基、またはＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基である。イリジウム前駆錯体はまた、Ｉｒ（Ｉ）−１，２，３，４，５−メチルシクロペンタジエニル前駆錯体を含むことができる。例示的なＩｒ（Ｉ）−１，２，３，４，５−メチルシクロペンタジエニル前駆錯体には、（Ｃｐ^＊）Ｉｒ（Ｈ）_２（Ｍｅ_３Ｐ）、（Ｃｐ^＊）Ｉｒ（Ｈ）（ＢＰｉｎ）（Ｍｅ_３Ｐ）、（ＣＰ^＊）Ｉｒ（Ｈ）（Ｃ_６Ｈ_５）（Ｍｅ_３Ｐ）およびそれらの組合せが含まれる。

【0105】

方法は、基質を触媒として有効な量のイリジウム前駆錯体に接触させるステップを含むことができる。一部の場合、基質は、ホウ素化反応において存在している基質のモル数に対して０．５モルパーセント（ｍｏｌ％）〜５．０ｍｏｌ％のイリジウム前駆錯体（例えば、１．０ｍｏｌ％〜３．０ｍｏｌ％）に接触され得る。

【0106】

一部の実施形態では、配位子は、二座配位子とすることができる。二座配位子は、イリジウム中心にキレートを形成するように構成される２個以上のヘテロ原子（例えば、窒素原子）を含む、二座配位子を含むことができる。適切な二座配位子は、イリジウム前駆錯体の性質、基質の特定名、ホウ素化反応の所望の位置選択性、および基質の第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの所望の転化率を含めた、いくつかの要因を鑑みて選択することができる。例えば、一部の場合、電子不足二座配位子を選択することにより、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのより高いモル比が有利となり得る。同様に、一部の場合、立体的に低いかさ高さを有する二座配位子を選択することにより、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのより高いモル比が有利となり得る。

【0107】

適切な二座配位子には、イリジウム中心にキレートを形成するよう構成される、１つまたは複数の複素環式環内に２個以上のヘテロ原子（例えば、窒素原子）を含む、複素環式二座配位子が含まれる。複素環式二座配位子の例には、ビピリジンおよびフェナントロリンに基づく配位子が含まれる。

【0108】

一部の実施形態では、二座配位子は、電子不足二座配位子を含むことができる。電子不足二座配位子は、例えば、１つまたは複数の電子吸引性部分により置換されている、複素環式二座配位子を含むことができる。電子吸引性部分の例には、ハロゲン（例えば、ＦおよびＣｌ）、ニトリル、ニトロ基、ハロアルキル基（例えば、−ＣＦ_３などのペルフルオロ化ハロアルキル基）、およびそれらの組合せが含まれる。一部の実施形態では、電子不足二座配位子は、１つまたは複数の電子吸引性置換基により置換されている、ビピリジンに基づく配位子（２，２’−ビピリジン）またはフェナントロリンに基づく配位子（例えば、フェナントロリン）を含むことができる。

【0109】

ある種の実施形態では、配位子は、式ＩＶａ、式ＩＶｂまたは式ＩＶｃによって定義される化合物

【0110】

【化28】

（式中、ｎは、０、１、２または３であり、Ｒ_１０は、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、ニトリル基、ニトロ基またはＣ_１〜Ｃ_６ペルフルオロアルキル基であるが、但し、二座配位子が式ＩＶａまたは式ＩＶｂにより定義される化合物を含む場合、Ｒ_１０の１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）を含むことができる。一部の場合、二座配位子が式ＩＶａ、式ＩＶｂまたは式ＩＶｃによって定義される化合物を含む場合、Ｒ_１０の１つまたは複数は、水素ではない。ある種の実施形態では、１つまたは複数のＲ_１０は、−Ｆおよび−ＣＦ_３から選択される。

【0111】

一部の実施形態では、二座配位子は、以下の配位子の１種または複数から選択され得る。

【0112】

【化29】

【0113】

ある種の実施形態では、二座配位子は、４，４’−ビス（トリフルオロメチル）−２，２’−ビピリジン（ｂｔｆｂｐｙ）、４，４’，５，５’−テトラキス（トリフルオロメチル）−２，２’−ビピリジン（ｔｔｆｂｐｙ）および４，４’，５，５’−テトラヒドロ−２，２’−ビオキサゾール（ｂｏｘ）から選択することができる。

【0114】

一部の実施形態では、配位子は、単座配位子とすることができる。単座配位子は、イリジウム中心にキレートを形成するように構成される単一のヘテロ原子（例えば、窒素原子）を含む、単座配位子を含むことができる。適切な単座配位子は、イリジウム前駆錯体の性質、基質の特定名、ホウ素化反応の所望の位置選択性、および基質の第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの所望の転化率を含めた、いくつかの要因を鑑みて選択することができる。例えば、一部の場合、電子が不足している単座配位子を選択することにより、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのより高いモル比が有利となり得る。同様に、一部の場合、立体的障害のある単座配位子（例えば、該単座配位子の環において、ヘテロ原子に対し隣接位で置換基を有する）を選択することにより、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのより高いモル比が有利となり得る。

【0115】

一部の実施形態では、単座配位子は、ピリジン配位子を含むことができる。一部の場合、ピリジン配位子は、１〜３つの置換基を含むことができる。ある種の場合、このピリジン配位子は、２−置換ピリジン環を含むことができる。ある種の場合、このピリジン配位子は、２，４−二置換ピリジン配位子、２，６−二置換ピリジン配位子または２，４，６−三置換ピリジン配位子を含むことができる。ピリジン配位子上に存在している１〜３つの置換基は、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基から個別に選択することができ、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である。ある種の場合、ピリジン配位子は、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引性置換基を含むことができる。

【0116】

一部の実施形態では、このピリジン配位子は、以下の式によって定義される化合物

【0117】

【化30】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
を含むことができる。

【0118】

一部の実施形態では、このピリジン配位子は、以下の式によって定義される化合物

【0119】

【化31】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
を含むことができる。

【0120】

一部の実施形態では、ピリジン配位子は、以下の式によって定義される化合物

【0121】

【化32】

（式中、
Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、
Ｚ_１は、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含むことができる。

【0122】

ある種の実施形態では、Ｚ_１は、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＦ_３、−Ｍｅ、−ＯＭｅ、−ＣＨ_２ＮＨ_２、−ＮＨＭｅ、−ＮＭｅ_２、−ＮＰｈ_２、フェニル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルまたは−ＣＯＣＨ_３である。

【0123】

一部の実施形態では、ピリジン配位子は、以下の式によって定義される化合物

【0124】

【化33】

（式中、
Ａは、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、
Ｚ_１は、出現毎に個別に、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含むことができる。

【0125】

ある種の実施形態では、Ｚ_１は、出現毎に個別に、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＦ_３、−Ｍｅ、−ＯＭｅ、−ＣＨ_２ＮＨ_２、−ＮＨＭｅ、−ＮＭｅ_２、−ＮＰｈ_２、フェニル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルまたは−ＣＯＣＨ_３である。

【0126】

一部の実施形態では、ピリジン配位子は、以下の式によって定義される化合物

【0127】

【化34】

（式中、
Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、
Ｚ_１は、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含むことができる。

【0128】

ある種の実施形態では、Ｚ_１は、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＦ_３、−Ｍｅ、−ＯＭｅ、−ＣＨ_２ＮＨ_２、−ＮＨＭｅ、−ＮＭｅ_２、−ＮＰｈ_２、フェニル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルまたは−ＣＯＣＨ_３である。

【0129】

一部の実施形態では、ピリジン配位子は、以下の式によって定義される化合物

【0130】

【化35】

（式中、
Ｚ_１は、出現毎に独立して、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含むことができる。

【0131】

ある種の実施形態では、Ｚ_１は、出現毎に独立して、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＦ_３、−Ｍｅ、−ＯＭｅ、−ＣＨ_２ＮＨ_２、−ＮＨＭｅ、−ＮＭｅ_２、−ＮＰｈ_２、フェニル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルまたは−ＣＯＣＨ_３である。

【0132】

一部の実施形態では、配位子は、ホウ素化反応において存在するイリジウム１モルあたり０．５モル当量の配位子からホウ素化反応において存在するイリジウム１モルあたり５モル当量の配位子（例えば、ホウ素化反応において存在するイリジウム１モルあたり１モル当量の配位子からホウ素化反応において存在するイリジウム１モルあたり３モル当量の配位子）の範囲の量で、ホウ素化反応に存在し得る。

【0133】

ホウ素化試薬は、ホウ素化試薬として当技術分野で公知の、適切な任意のＨＢまたはＢ−Ｂ有機化合物とすることができる。好適なホウ素化試薬は、得られたホウ素化アレーンの反応性に関する考察を含む、様々な要因を鑑みて選択することができる。例示的なホウ素化試薬には、以下に示されるＨＢまたはＢ−Ｂ有機化合物が含まれる。

【0134】

【化36】

【0135】

一部の実施形態では、ホウ素化試薬は、ピナコールボラン（ＨＢＰｉｎ）、カテコールボラン、ビス（ネオペンチルグリコラト）ジボロン、ビス（ピナコラト）ジボロン（Ｂ_２ｐｉｎ_２）、ビス（ヘキシレングリコラト）ジボロン、およびビス（カテコラト）ジボロンから選択される。ある種の実施形態では、ホウ素化試薬は、ピナコールボラン（ＨＢＰｉｎ）またはビス（ピナコラト）ジボロン（Ｂ_２ｐｉｎ_２）である。

【0136】

ホウ素化試薬は、任意の適切な量で、ホウ素化反応に組み込むことができる。例えば、一部の実施形態では、ホウ素化試薬は、ホウ素化反応において存在する基質１モルあたり１モル当量のホウ素化試薬からホウ素化反応において存在する基質１モルあたり５モル当量のホウ素化試薬（例えば、ホウ素化反応において存在する基質１モルあたり１モル当量のホウ素化試薬からホウ素化反応において存在する基質１モルあたり３モル当量のホウ素化試薬）の範囲の量で、ホウ素化反応に存在し得る。

【0137】

一部の実施形態では、本明細書において提供される方法は、基質の位置選択的ホウ素化を提供することができる。上記の通り、本基質は、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基により置換されているフェニル環であって、電子吸引基に対しオルト位で置換されておらず、かつ電子吸引基に対しメタ位で置換されていないフェニル環などの、１〜４つの置換基（例えば、１〜３つの置換基）を含む、置換アレーン環を含むことができる。位置選択的ホウ素化方法とは、電子吸引基に対しオルト位で基質のホウ素化をもたらして、第１のホウ素化アレーン（電子的生成物）を形成することができる一方、電子吸引基に対しメタ位で、基質の有意な量のホウ素化をもたらして第２のホウ素化アレーン（立体的生成物）を形成することがない、ホウ素化方法のことである。ホウ素化方法は、この方法により形成される第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定した場合、少なくとも２５：１（例えば、少なくとも５０：１、少なくとも７５：１または少なくとも１００：１）である場合、立体選択的であると言うことができる。一部の実施形態では、位置選択的ホウ素化方法により、検出可能な量の第２のホウ素化アレーン（立体的生成物）は生じ得ない。こうした位置選択的方法は、電子的ホウ素化生成物（第１のホウ素化アレーン）をもっぱら形成するものとして記載することができる。

【0138】

一部の実施形態では、位置選択的ホウ素化方法は、タンデムホウ素化／脱ハロゲン化を含むことができる。例えば、アレーンの位置選択的ホウ素化方法は、第１のホウ素化アレーンおよび場合により第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下で、適切な基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子および二座配位子から選択される配位子、ならびにホウ素化試薬に接触させるステップであって、第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤを使用して決定すると、少なくとも２５：１である、ステップを含むことができる。

【0139】

この基質は、例えば、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基により置換されており、電子吸引基に対しオルト位で置換されていないフェニル環であって、かつ電子吸引基（例えば、電子吸引基のパラ置換基となるＣｌまたはＢｒ）に対して普通なら立体的に有利なメタ位におけるイリジウム触媒の攻撃を立体的に妨害するよう配置されている犠牲的部分（例えば、ＣｌまたはＢｒなどのハロゲン）をさらに含む、フェニル環を含むことができる。結果として、イリジウム触媒によるアレーンのＣ−Ｈ活性化−ホウ素化は、オルトホウ素化された電子的生成物（すなわち、第１のホウ素化アレーン）をもっぱら生成する。

【0140】

例えば、一部の実施形態では、本基質は、式Ｉによって定義される化合物

【0141】

【化37】

（式中、
Ｘは、ＦまたはＣＦ_３であり、
Ｒ_１は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_２は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_３は、ＣｌまたはＢｒであり、
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６の各々は、出現毎に個別に、水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基であり、
Ｒ_７は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である）
を含むことができる。

【0142】

これらの実施形態では、第１のホウ素化アレーンは、式ＩＩによって定義される化合物

【0143】

【化38】

（式中、Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含むことができる。

【0144】

方法はさらに、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化して、脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを得るステップを含むことができる。脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンは、式ＩＩｂによって定義される化合物

【0145】

【化39】

（式中、Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＹは、上記の通りである）
を含むことができる。

【0146】

この第１のホウ素化アレーンは、任意の適切な合成方法を使用して還元的に脱ハロゲン化され得る。例えば、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化する方法は、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するのに有効な条件下で、第１のホウ素化アレーンを、ポリメチルヒドロシロキサン（ＰＭＨＳ）、塩基、および金属触媒に接触させるステップを含むことができる。適切な塩基には、ＫＦおよび、ＴＢＡＦなどのテトラアルキルアンモニウム塩が含まれる。金属触媒は、ＰＭＨＳからのヒドリドを受け取り、次いで、第１のホウ素化アレーンの還元的脱ハロゲン化に関与することができる、様々な金属触媒を含むことができる。適切な金属触媒は、第１のホウ素化アレーンの特定名（例えば、水素化脱ハロゲン化されるハロゲンの特定名）を含めた、いくつかの要因を鑑みて選択され得る。例えば、金属触媒は、Ｐｄ、Ｓｎ、Ｔｉ、ＺｎまたはＣｕを含むことができる。ある種の実施形態では、金属触媒は、酢酸パラジウム（ＩＩ）（Ｐｄ（ＯＡｃ）_２）などのパラジウム（ＩＩ）触媒またはテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（Ｐｄ（Ｐｈ_３Ｐ）_４）などのパラジウム（０）触媒を含むことができる。

【0147】

ある種の実施形態では、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化する方法は、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するのに有効な条件下で、第１のホウ素化アレーンを、ギ酸塩および遷移金属触媒に接触させるステップを含むことができる。ギ酸塩は、任意の適切なギ酸塩とすることができる。ギ酸塩の例には、例えば、ギ酸ナトリウム（ＮａＨＣ（Ｏ）Ｏ）、ギ酸カリウム（ＫＨＣ（Ｏ）Ｏ）、ギ酸アンモニウム（ＮＨ_４ＨＣ（Ｏ）Ｏ）、ギ酸カルシウム（Ｃａ（ＨＣ（Ｏ）Ｏ）_２）およびそれらの組合せが含まれる。ある種の場合、ギ酸塩は、ギ酸アンモニウムとすることができる。遷移金属触媒は、炭素担持パラジウムなどのパラジウム（０）触媒を含むことができる。ある種の実施形態では、上記のホウ素化および脱ハロゲン化は、（例えば、単一の反応容器中で逐次的など、中間体ボリレート（borylate）を精製または単離することなしに）ワンポット合成方法を使用して、行うことができる。

【0148】

本明細書に記載されている方法を使用して調製されるホウ素化アレーンは、Ｓｕｚｕｋｉ型クロスカップリング反応などのクロスカップリング反応を含む、追加的な化学反応に利用することができる。Ｓｕｚｕｋｉ型クロスカップリング反応は、当技術分野で公知であり、塩基および適切な触媒の存在下で、有機ハロゲン化物と有機ホウ素とをクロスカップリングするために使用することができる。例えば、Miyaura, N. and Suzuki, A. Chem. Rev. 1995, 95, 2457、Stanforth, S. P. Tetrahedron 1998, 54, 263、Lipshutz, et al., Synthesis 2005, 2989およびLipshutz, et al., Org. Lett. 2008, 10, 4279を参照されたい。有機ハロゲン化物は、ハロゲン化アリールもしくは偽ハロゲン化アリール、またはハロゲン化ビニルまたは偽ハロゲン化ビニルなどの、不飽和ハロゲン化物または偽ハロゲン化物（例えば、トリフレート（ＯＴｆ））とすることができる。

【0149】

一部の実施形態では、本明細書に記載されている方法はさらに、第１のホウ素化アレーンまたは脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを、ハロゲン化アリール、偽ハロゲン化アリール、ハロゲン化ビニルおよび偽ハロゲン化ビニルからなる群から選択される反応体、ならびに遷移金属触媒に接触させ、上記の反応体と上記の第１のホウ素化アレーンまたは脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンとをクロスカップリングするステップを含むことができる。例として、（４−クロロ−２−フルオロ−３−置換）ボロン酸エステルは、４−アセトアミド−３，６−ジクロロピコリン酸メチルとのクロスカップリング反応を受けて、６−（４−クロロ−２−フルオロ−３−置換−フェニル）−４−アミノピコリネートを生成または形成することができる。別の例では、（４−クロロ−２−フルオロ−３−置換）ボロン酸エステルは、６−アセトアミド−２−クロロピリミジン−４−カルボン酸メチルまたはその未保護類似体である６−アミノ−２−クロロピリミジン−４−カルボン酸とのクロスカップリング反応を受けることができる。

【0150】

Ｓｕｚｕｋｉクロスカップリング反応は、パラジウム触媒、配位子、および塩基の存在下で行うことができる。少なくとも一部の実施形態では、パラジウム触媒は、酢酸パラジウム（ＩＩ）（Ｐｄ（ＯＡｃ）_２）であり、塩基は水性炭酸カリウム（Ｋ_２ＣＯ_３）であり、配位子はトリフェニルホスフィン（ＰＰｈ_３）である。クロスカップリング反応は、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、アセトニトリル（ＭｅＣＮ）、酢酸エチル（ＥｔＯＡｃ）、水またはそれらの組合せなどの溶媒中で行うことができる。

【0151】

同様に、１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンを含めた、電子吸引基により置換されているアレーンのホウ素化を、フルオロ置換基に対しオルト位で触媒することができるイリジウム錯体触媒も提供される（すなわち、このイリジウム錯体触媒は、電子的生成物の形成を効率よく触媒することができる）。イリジウム錯体触媒は、イリジウム前駆錯体、二座配位子およびホウ素化試薬を組み合わせることにより形成することができる。一部の場合、イリジウム錯体触媒は、本明細書に記載されている方法を実施している間に、基質の存在下で、インシチュで形成される。イリジウム錯体触媒はまた、イリジウム前駆錯体を二座配位子およびホウ素化試薬に接触させることにより形成することもできる。このイリジウム錯体触媒は、一旦形成すると、続いて、基質および／またはホウ素化試薬と組み合わされて、ホウ素化基質を与えることができる。

【0152】

一部の実施形態では、イリジウム錯体触媒は、以下の構造
（Ｌ）Ｉｒ（Ｂ）_３（Ｚ_２）
（式中、
Ｂは−Ｂ（ＯＲ）_２であり、Ｒは、出現毎に独立して、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基であるか、または２つのＲ基が、それらが結合している原子と一緒になって、１つまたは複数のＣ_１〜Ｃ_６アルキル基により場合により置換されているＣ_２〜Ｃ_６環式部分であって、１つまたは複数のカルボシクリル基または複素カルボシクリル基と場合により縮合しているＣ_２〜Ｃ_６環式部分を形成し、
Ｚ_２は、１，５−シクロオクタジエン、シクロオクテンまたはメシチレンであり、
Ｌは、以下に含まれる配位子

【0153】

【化40】

の１つから選択される二座配位子である）
によって定義することができる。

【0154】

これらの実施形態の一部では、イリジウム錯体触媒は、以下に含まれる配位子の１つから選択される二座配位子を含むことができる。

【0155】

【化41】

【0156】

一部の実施形態では、各Ｂは、以下に含まれる、ホウ素含有部分の１つから独立して選択される。

【0157】

【化42】

【0158】

ある種の実施形態では、Ｂの１つまたは複数はピナコールボランを表す。一部の場合、各Ｂは、ピナコールボランを表す。

【0159】

ある種の実施形態では、イリジウム錯体触媒は、以下の構造
（Ｌ）Ｉｒ（Ｂ）_３（Ｚ_２）
（式中、
Ｂは−Ｂ（ＯＲ）_２であり、Ｒは、出現毎に独立して、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基であるか、または２つのＲ基が、それらが結合している原子と一緒になって、１つまたは複数のＣ_１〜Ｃ_６アルキル基により場合により置換されているＣ_２〜Ｃ_６環式部分であって、１つまたは複数のカルボシクリル基または複素カルボシクリル基と場合により縮合しているＣ_２〜Ｃ_６環式部分を形成し、
Ｚ_２は、１，５−シクロオクタジエン、シクロオクテンまたはメシチレンであり、
Ｌは、式ＩＶａ、式ＩＶｂまたは式ＩＶｃによって定義される二座配位子

【0160】

【化43】

（式中、ｎは、０、１、２または３であり、Ｒ_１０は、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、ニトリル基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ペルフルオロアルキル基であるが、但し、二座配位子が式ＩＶａまたは式ＩＶｂにより定義される化合物を含む場合、Ｒ_１０の１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
によって定義することができる。

【0161】

これらの実施形態の一部では、イリジウム錯体触媒は、以下に含まれる配位子の１つから選択される二座配位子を含むことができる。

【0162】

【化44】

【0163】

一部の実施形態では、各Ｂは、以下に含まれる、ホウ素含有部分の１つから独立して選択される。

【0164】

【化45】

【0165】

ある種の実施形態では、Ｂの１つまたは複数はピナコールボランを表す。一部の場合、各Ｂは、ピナコールボランを表す。

【0166】

実施形態の例
本開示の具体的な実施形態は、以下に提示されている。

【0167】

１．−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基により置換されているフェニル環を含む基質を用意するステップであって、このフェニル環が、電子吸引基に対しオルト位で置換されておらず、かつ電子吸引基に対しメタ位で置換されていない、ステップ、および
第１のホウ素化アレーンおよび場合により第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下で、上記の基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子および二座配位子から選択される配位子、ならびにホウ素化試薬に接触させるステップであって、
第１のホウ素化アレーンが、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基、ならびにこの電子吸引基に対しオルト位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されているフェニル環を含み、
第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基、ならびにこの電子吸引基に対しメタ位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されているフェニル環を含み、
第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも１：１である、ステップ
を含む、ホウ素化アレーンを形成する方法。

【0168】

２．上記の基質が、式Ｉによって定義される化合物

【0169】

【化46】

（式中、
Ｘは、ＦまたはＣＦ_３であり、
Ｒ_１は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_２は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_３は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６の各々は、出現毎に個別に、水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基であり、
Ｒ_７は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である）
を含み、
上記の第１のホウ素化アレーンが、式ＩＩによって定義される化合物

【0170】

【化47】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含み、
上記の第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、式ＩＩＩによって定義される化合物

【0171】

【化48】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含む、
実施形態１に記載の方法。

【0172】

３．第１のホウ素化アレーンが、電子吸引基に対しオルト位に、以下：

【0173】

【化49】

の１つから選択されるボロン酸誘導体を含む、実施形態１または２に記載の方法。

【0174】

４．基質が、１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンを含む、実施形態１から３のいずれかに記載の方法。

【0175】

５．基質が、１−クロロ−３−フルオロ−２−メトキシベンゼンを含む、実施形態１から４のいずれかに記載の方法。

【0176】

６．第１のホウ素化アレーンが、（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸または（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸誘導体を含む、実施形態１から５のいずれかに記載の方法。

【0177】

７．第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比が、少なくとも３：１である、実施形態１から６のいずれかに記載の方法。

【0178】

８．第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの転化率が、少なくとも３０％である、実施形態１から７のいずれかに記載の方法。

【0179】

９．第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの転化率が、少なくとも５０％である、実施形態１から８のいずれかに記載の方法。

【0180】

１０．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクタジエン前駆錯体を含む、実施形態１から９のいずれかに記載の方法。

【0181】

１１．Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクタジエン前駆錯体が、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（Ｃｌ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（ｃｏｄ）_２］ＢＦ_４、［Ｉｒ（ＯＨ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（ＯＰｈ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（ＯＡｃ）ｃｏｄ］_２、（Ｉｎｄ）Ｉｒ（ｃｏｄ）、Ｉｒ（ａｃａｃ）ｃｏｄ、（ｄｔｂｐｙ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｄ）、（ｔｍｐ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｄ）、およびそれらの組合せからなる群から選択される、実施形態１０に記載の方法。

【0182】

１２．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクテン前駆錯体を含む、実施形態１から９のいずれか１つに記載の方法。

【0183】

１３．Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクテン前駆錯体が、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（Ｃｌ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（ｃｏｅ）_２］ＢＦ_４、［Ｉｒ（ＯＨ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（ＯＰｈ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（ＯＡｃ）ｃｏｅ］_２、（Ｉｎｄ）Ｉｒ（ｃｏｅ）、Ｉｒ（ａｃａｃ）ｃｏｅ、（ｄｔｂｐｙ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｅ）、（ｔｍｐ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｅ）、［ＩｒＣｌ（ｃｏｅ）_２］_２およびそれらの組合せからなる群から選択される、実施形態１２に記載の方法。

【0184】

１４．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−メシチレン前駆錯体を含む、実施形態１から９のいずれか１つに記載の方法。

【0185】

１５．Ｉｒ（Ｉ）−メシチレン前駆錯体が、（ＭｅｓＨ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）（Ｂ（ＯＲ_１１）_２）、（ＭｅｓＨ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３およびそれらの組合せからなる群から選択され、ＢＰｉｎがピナコールボランであり、Ｒ_１１が水素、線状または分岐状Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、アリール基、またはＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基である、実施形態１４に記載の方法。

【0186】

１６．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−ホスフィン前駆錯体を含む、実施形態１から９のいずれか１つに記載の方法。

【0187】

１７．Ｉｒ（Ｉ）−ホスフィン前駆錯体が、（ｄｐｐｂｚ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３、（Ｉｎｄ）Ｉｒ（ｄｐｐｅ）、（ＰＭｅ_３）_２ＩｒＨ_５、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_２ＩｒＨ_５、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_３Ｉｒ（Ｂ（ＯＲ_１１）_２）_３、（（Ｒ_１１）_２Ｐ）_２Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３、（（（Ｒ_１１）_２Ｐ）_３Ｉｒ（（Ｒ_１１Ｏ）_２Ｂ）_３）_２、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_４Ｉｒ（ＢＰｉｎ）、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_２ＩｒＨ_ｘ（Ｂ（ＯＲ_１１）_２）_５−ｘおよびそれらの組合せからなる群から選択され、ｘは、０〜４の間の整数であり、ｄｐｐｂｚは、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）ベンゼンであり、ＢＰｉｎはピナコールボランであり、Ｒ_１１は水素、線状または分岐状Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、アリール基、またはＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基である、実施形態１６に記載の方法。

【0188】

１８．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−１，２，３，４，５−メチルシクロペンタジエニル前駆錯体を含む、実施形態１から９のいずれか１つに記載の方法。

【0189】

１９．Ｉｒ（Ｉ）−１，２，３，４，５−メチルシクロペンタジエニル前駆錯体が、（Ｃｐ^＊）Ｉｒ（Ｈ）_２（Ｍｅ_３Ｐ）、（Ｃｐ^＊）Ｉｒ（Ｈ）（ＢＰｉｎ）（Ｍｅ_３Ｐ）、（Ｃｐ^＊）Ｉｒ（Ｈ）（Ｃ_６Ｈ_５）（Ｍｅ_３Ｐ）およびそれらの組合せからなる群から選択される、実施形態１８に記載の方法。

【0190】

２０．配位子が二座配位子を含む、実施形態１から１９のいずれかに記載の方法。

【0191】

２１．二座配位子が電子不足二座配位子を含む、実施形態２０に記載の方法。

【0192】

２２．二座配位子が、１つまたは複数の電子吸引性置換基により置換されている、２，２’−ビピリジンを含む、実施形態２０または２１に記載の方法。

【0193】

２３．二座配位子が、１つまたは複数のトリフルオロメチル基により置換されている、２，２’−ビピリジンを含む、実施形態２０から２２のいずれかに記載の方法。

【0194】

２４．二座配位子が、式ＩＶａ、式ＩＶｂまたは式ＩＶｃによって定義される化合物

【0195】

【化50】

（式中、ｎは、０、１、２または３であり、Ｒ_１０は、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、ニトリル基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ペルフルオロアルキル基であるが、但し、二座配位子が式ＩＶａまたは式ＩＶｂにより定義される化合物を含む場合、Ｒ_１０の１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
を含む、実施形態２０から２３のいずれかに記載の方法。

【0196】

２５．Ｒ_１０の１つまたは複数が、−Ｆおよび−ＣＦ_３から選択される、実施形態２４に記載の方法。

【0197】

２６．二座配位子が、以下：

【0198】

【化51】

の１つまたは複数から選択される、実施形態２０から２５のいずれかに記載の方法。

【0199】

２７．配位子が、単座配位子を含む、実施形態１から１９のいずれかに記載の方法。

【0200】

２８．単座配位子が、ピリジン配位子を含む、実施形態２７に記載の方法。

【0201】

２９．ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0202】

【化52】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、
但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
を含む、実施形態２８に記載の方法。

【0203】

３０．ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0204】

【化53】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、
但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
を含む、実施形態２８または２９に記載の方法。

【0205】

３１．ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0206】

【化54】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、
Ｚ_１は、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含む、実施形態２８から３０のいずれかに記載の方法。

【0207】

３２．ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0208】

【化55】

（式中、Ａは、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、
Ｚ_１は、出現毎に独立して、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含む、実施形態２８から３１のいずれかに記載の方法。

【0209】

３３．ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0210】

【化56】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、
Ｚ_１は、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含む、実施形態２８から３０のいずれかに記載の方法。

【0211】

３４．ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0212】

【化57】

（式中、Ｚ_１は、出現毎に独立して、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含む、実施形態２８または２９に記載の方法。

【0213】

３５．Ｚ_１が、出現毎に独立して、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＦ_３、−Ｍｅ、−ＯＭｅ、−ＣＨ_２ＮＨ_２、−ＮＨＭｅ、−ＮＭｅ_２、−ＮＰｈ_２、フェニル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、または−ＣＯＣＨ_３である、実施形態２９から３４のいずれかに記載の方法。

【0214】

３６．ホウ素化試薬が、以下：

【0215】

【化58】

の１つまたは複数から選択される、実施形態１から３５のいずれかに記載の方法。

【0216】

３７．基質、第１のホウ素化アレーン、および第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、−Ｃｌおよび−Ｂｒからなる群から選択される置換基をさらに含む、実施形態１から３６のいずれかに記載の方法。

【0217】

３８．基質が、式Ｉによって定義される化合物を含み、Ｒ_３が、−Ｃｌおよび−Ｂｒからなる群から選択され、かつ第１のホウ素化アレーンが式ＩＩによって定義される化合物を含み、Ｒ_３が、−Ｃｌおよび−Ｂｒからなる群から選択され、
第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも２５：１である、
実施形態３７に記載の方法。

【0218】

３９．第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化して、脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを得るステップをさらに含む、実施形態３８に記載の方法。

【0219】

４０．第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するステップが、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するのに有効な条件下で、第１のホウ素化アレーンを、ポリメチルヒドロシロキサン（ＰＭＨＳ）および遷移金属触媒に接触させるステップを含む、実施形態３９に記載の方法。

【0220】

４１．遷移金属触媒が、酢酸パラジウム（ＩＩ）を含む、実施形態４０に記載の方法。

【0221】

４２．第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するステップが、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するのに有効な条件下で、第１のホウ素化アレーンをギ酸塩および遷移金属触媒に接触させるステップを含む、実施形態３９に記載の方法。

【0222】

４３．遷移金属触媒が、炭素担持パラジウムを含む、実施形態４２に記載の方法。

【0223】

４４．ギ酸塩が、ギ酸アンモニウムを含む、実施形態４２または４３に記載の方法。

【0224】

４５．ワンポット合成方法を使用して、第１のホウ素化アレーンが形成され、かつ還元的に脱ハロゲン化されて、脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンが形成される、実施形態３９から４４のいずれかに記載の方法。

【0225】

４６．上記の第１のホウ素化アレーンまたは上記の脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを、ハロゲン化アリール、偽ハロゲン化アリール、ハロゲン化ビニルおよび偽ハロゲン化ビニルからなる群から選択される反応体、ならびに遷移金属触媒に接触させ、上記の第１のホウ素化アレーンまたは上記の脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンと上記の反応体とをクロスカップリングするステップをさらに含む、実施形態１から４５のいずれかに記載の方法。

【0226】

４７．以下の構造
（Ｌ）Ｉｒ（Ｂ）_３（Ｚ_２）
（式中、
Ｂは−Ｂ（ＯＲ）_２であり、Ｒは、出現毎に独立して、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基であるか、または２つのＲ基が、それらが結合している原子と一緒になって、１つまたは複数のＣ_１〜Ｃ_６アルキル基により場合により置換されているＣ_２〜Ｃ_６環式部分であって、１つまたは複数のカルボシクリル基または複素カルボシクリル基と場合により縮合しているＣ_２〜Ｃ_６環式部分を形成し、
Ｚ_２は、１，５−シクロオクタジエン、シクロオクテンまたはメシチレンであり、
Ｌは、以下：

【0227】

【化59】

から選択される二座配位子である）
によって定義される、イリジウム錯体。

【0228】

４８．以下の構造
（Ｌ）Ｉｒ（Ｂ）_３（Ｚ_２）
（式中、
Ｂは−Ｂ（ＯＲ）_２であり、Ｒは、出現毎に独立して、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基であるか、または２つのＲ基が、それらが結合している原子と一緒になって、１つまたは複数のＣ_１〜Ｃ_６アルキル基により場合により置換されているＣ_２〜Ｃ_６環式部分であって、１つまたは複数のカルボシクリル基または複素カルボシクリル基と場合により縮合しているＣ_２〜Ｃ_６環式部分を形成し、
Ｚ_２は、１，５−シクロオクタジエン、シクロオクテンまたはメシチレンであり、
Ｌは、式ＩＶａ、式ＩＶｂまたは式ＩＶｃによって定義される化合物を含む二座配位子

【0229】

【化60】

（式中、ｎは、０、１、２または３であり、Ｒ_１０は、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、ニトリル基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ペルフルオロアルキル基であるが、但し、二座配位子が式ＩＶａまたは式ＩＶｂにより定義される化合物を含む場合、Ｒ_１０の１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
を含む）
により定義される、イリジウム錯体。

【0230】

４９．Ｌが、以下：

【0231】

【化61】

の１つまたは複数から選択される、実施形態４８に記載の錯体。

【0232】

５０．各Ｂが、以下：

【0233】

【化62】

の１つから選択される、実施形態４７から４９のいずれかに記載の錯体。

【0234】

５１．Ｂが、ピナコールボランである、実施形態４７から５０のいずれかに記載の方法。

【0235】

５２．電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分により置換されている芳香族環を含む芳香族基質であって、芳香族環が上記の部分に対しオルト位で置換されていない、芳香族基質を用意するステップ、および
第１のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下で、上記の芳香族基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子およびホウ素化試薬に接触させるステップであって、
第１のホウ素化アレーンが、電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分、ならびにこの部分に対しオルト位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されている芳香族環を含む、ステップ
を含む、ホウ素化アレーンを形成する方法。

【0236】

５３．上記の芳香族環が、上記の部分に対しオルト位で置換されておらず、かつ上記の部分に対しメタ位で置換されていない、実施形態５２に記載の方法。

【0237】

５４．上記の第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下、上記の芳香族基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子およびホウ素化試薬に接触させるステップであって、
上記の第２のホウ素化アレーンが、電子吸引基および指向型メタル化基から選択される部分、ならびに上記の部分に対しメタ位でボロン酸またはボロン酸誘導体により置換されている芳香族環を含み、
上記の第１のホウ素化アレーンと上記の第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも１：１である、ステップ
を含む、実施形態５３に記載の方法。

【0238】

５５．上記の部分が、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基である、実施形態５２から５４のいずれかに記載の方法。

【0239】

５６．部分が、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、−ＳＯ_２Ｒ_１６、−ＳＯＲ_１６またはＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基からなる群から選択される、指向型メタル化基であり、
Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々が、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６が、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である、
実施形態５２から５４のいずれかに記載の方法。

【0240】

５７．芳香族基質が、置換アリール化合物、６員の置換複素芳香族化合物、５員の置換複素芳香族化合物およびそれらの組合せからなる群から選択される、実施形態５２から５６のいずれかに記載の方法。

【0241】

５８．芳香族基質が、以下の式により定義される化合物

【0242】

【化63】

（式中、
Ｘは、電子吸引基または指向型メタル化基から選択される部分であり、
Ｒ_１は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_２は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_３は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６の各々は、出現毎に個別に、水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基であり、
Ｒ_７は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である）
を含み、
第１のホウ素化アレーンが、以下の式によって定義される化合物

【0243】

【化64】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含み、
第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、以下の式によって定義される化合物

【0244】

【化65】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含む、
実施形態５４から５７のいずれかに記載の方法。

【0245】

５９．第１のホウ素化アレーンが、部分に対しオルト位に、以下：

【0246】

【化66】

の１つから選択されるボロン酸誘導体を含む、実施形態５２から５８のいずれかに記載の方法。

【0247】

６０．芳香族基質が、１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンを含む、実施形態５２から５９のいずれかに記載の方法。

【0248】

６１．芳香族基質が、１−クロロ−３−フルオロ−２−メトキシベンゼンを含む、実施形態５２から６０のいずれかに記載の方法。

【0249】

６２．第１のホウ素化アレーンが、（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸または（４−クロロ−２−フルオロ−３−メトキシフェニル）ボロン酸誘導体を含む、実施形態５２から６１のいずれかに記載の方法。

【0250】

６３．第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比が、少なくとも３：１である、実施形態５４から６２のいずれかに記載の方法。

【0251】

６４．第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの転化率が、少なくとも３０％である、実施形態５４から６３のいずれかに記載の方法。

【0252】

６５．第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの転化率が、少なくとも５０％である、実施形態５４から６４のいずれかに記載の方法。

【0253】

６６．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクタジエン前駆錯体を含む、実施形態５２から６５のいずれかに記載の方法。

【0254】

６７．Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクタジエン前駆錯体が、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（Ｃｌ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（ｃｏｄ）_２］ＢＦ_４、［Ｉｒ（ＯＨ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（ＯＰｈ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（ＯＡｃ）ｃｏｄ］_２、（Ｉｎｄ）Ｉｒ（ｃｏｄ）、Ｉｒ（ａｃａｃ）ｃｏｄ、（ｄｔｂｐｙ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｄ）、（ｔｍｐ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｄ）、およびそれらの組合せからなる群から選択される、実施形態６６に記載の方法。

【0255】

６８．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクテン前駆錯体を含む、実施形態５２から６５のいずれか１つに記載の方法。

【0256】

６９．Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクテン前駆錯体が、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（Ｃｌ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（ｃｏｅ）_２］ＢＦ_４、［Ｉｒ（ＯＨ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（ＯＰｈ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（ＯＡｃ）ｃｏｅ］_２、（Ｉｎｄ）Ｉｒ（ｃｏｅ）、Ｉｒ（ａｃａｃ）ｃｏｅ、（ｄｔｂｐｙ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｅ）、（ｔｍｐ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｅ）、［ＩｒＣｌ（ｃｏｅ）_２］_２およびそれらの組合せからなる群から選択される、実施形態６８に記載の方法。

【0257】

７０．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−メシチレン前駆錯体を含む、実施形態５２から６５のいずれか１つに記載の方法。

【0258】

７１．Ｉｒ（Ｉ）−メシチレン前駆錯体が、（ＭｅｓＨ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）（Ｂ（ＯＲ_１１）_２）、（ＭｅｓＨ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３およびそれらの組合せからなる群から選択され、ＢＰｉｎがピナコールボランであり、Ｒ_１１が水素、線状または分岐状Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、アリール基、またはＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基である、実施形態７０に記載の方法。

【0259】

７２．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−ホスフィン前駆錯体を含む、実施形態５２から６５のいずれか１つに記載の方法。

【0260】

７３．Ｉｒ（Ｉ）−ホスフィン前駆錯体が、（ｄｐｐｂｚ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３、（Ｉｎｄ）Ｉｒ（ｄｐｐｅ）、（ＰＭｅ_３）_２ＩｒＨ_５、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_２ＩｒＨ_５、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_３Ｉｒ（Ｂ（ＯＲ_１１）_２）_３、（Ｒ_１１）_２Ｐ）_２Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３、（（（Ｒ_１１）_２Ｐ）_３Ｉｒ（（Ｒ_１１Ｏ）_２Ｂ）_３）_２、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_４Ｉｒ（ＢＰｉｎ）、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_２ＩｒＨ_ｘ（Ｂ（ＯＲ_１１）_２）_５−ｘおよびそれらの組合せからなる群から選択され、ｘは、０〜４の間の整数であり、ｄｐｐｂｚは、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）ベンゼンであり、ＢＰｉｎはピナコールボランであり、Ｒ_１１は水素、線状または分岐状Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、アリール基、またはＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基である、実施形態７２に記載の方法。

【0261】

７４．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−１，２，３，４，５−メチルシクロペンタジエニル前駆錯体を含む、実施形態５２から６５のいずれか１つに記載の方法。

【0262】

７５．Ｉｒ（Ｉ）−１，２，３，４，５−メチルシクロペンタジエニル前駆錯体が、（Ｃｐ^＊）Ｉｒ（Ｈ）_２（Ｍｅ_３Ｐ）、（Ｃｐ^＊）Ｉｒ（Ｈ）（ＢＰｉｎ）（Ｍｅ_３Ｐ）、（Ｃｐ^＊）Ｉｒ（Ｈ）（Ｃ_６Ｈ_５）（Ｍｅ_３Ｐ）およびそれらの組合せからなる群から選択される、実施形態７４に記載の方法。

【0263】

７６．単座ピリジン配位子が、以下の式により定義される化合物

【0264】

【化67】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、
但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
を含む、実施形態５２から７５のいずれかに記載の方法。

【0265】

７７．単座ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0266】

【化68】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、
但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
を含む、実施形態７６に記載の方法。

【0267】

７８．単座ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0268】

【化69】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、
Ｚ_１は、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含む、実施形態７６または７７に記載の方法。

【0269】

７９．単座ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0270】

【化70】

（式中、Ａは、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、
Ｚ_１は、出現毎に独立して、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含む、実施形態７６から７８のいずれかに記載の方法。

【0271】

８０．単座ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0272】

【化71】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、
Ｚ_１は、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含む、実施形態７６または７７に記載の方法。

【0273】

８１．単座ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0274】

【化72】

（式中、Ｚ_１は、出現毎に独立して、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含む、実施形態７６に記載の方法。

【0275】

８２．Ｚ_１が、出現毎に独立して、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＦ_３、−Ｍｅ、−ＯＭｅ、−ＣＨ_２ＮＨ_２、−ＮＨＭｅ、−ＮＭｅ_２、−ＮＰｈ_２、フェニル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、または−ＣＯＣＨ_３である、実施形態７８から８１のいずれかに記載の方法。

【0276】

８３．ホウ素化試薬が、以下：

【0277】

【化73】

の１つまたは複数から選択される、実施形態５２から８２のいずれかに記載の方法。

【0278】

８４．芳香族基質、第１のホウ素化アレーン、および第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、−Ｃｌおよび−Ｂｒからなる群から選択される置換基をさらに含む、実施形態５２から８３のいずれかに記載の方法。

【0279】

８５．上記の芳香族基質が、以下の式により定義される化合物

【0280】

【化74】

（式中、
Ｘは、電子吸引基または指向型メタル化基から選択される部分であり、
Ｒ_１は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_２は、水素、ハロゲン、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_７、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基であり、
Ｒ_３は、−Ｃｌおよび−Ｂｒであり、
Ｒ_４、Ｒ_５およびＲ_６の各々は、出現毎に個別に、水素またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基であり、
Ｒ_７は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_４、−ＮＲ_５Ｒ_６またはＣ_１〜Ｃ_６アルキル基である）
を含み、
上記の第１のホウ素化アレーンが、以下の式によって定義される化合物

【0281】

【化75】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含み、
上記の第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、以下の式によって定義される化合物

【0282】

【化76】

（式中、
Ｘ、Ｒ_１、Ｒ_２およびＲ_３は、上記の通りであり、Ｙは、ボロン酸またはボロン酸誘導体である）
を含み、
上記の第１のホウ素化アレーンと上記の第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも２５：１である、
実施形態５８から８４のいずれかに記載の方法。

【0283】

８６．第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化して、脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを得るステップをさらに含む、実施形態８５に記載の方法。

【0284】

８７．第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するステップが、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するのに有効な条件下で、第１のホウ素化アレーンを、ポリメチルヒドロシロキサン（ＰＭＨＳ）および遷移金属触媒に接触させるステップを含む、実施形態８６に記載の方法。

【0285】

８８．遷移金属触媒が、酢酸パラジウム（ＩＩ）を含む、実施形態８７に記載の方法。

【0286】

８９．第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するステップが、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するのに有効な条件下で、第１のホウ素化アレーンをギ酸塩および遷移金属触媒に接触させるステップを含む、実施形態８６に記載の方法。

【0287】

９０．遷移金属触媒が、炭素担持パラジウムを含む、実施形態８９に記載の方法。

【0288】

９１．ギ酸塩が、ギ酸アンモニウムを含む、実施形態８９または９０に記載の方法。

【0289】

９２．ワンポット合成方法を使用して、第１のホウ素化アレーンが形成され、かつ還元的に脱ハロゲン化されて、脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンが形成される、実施形態８６から９１のいずれかに記載の方法。

【0290】

９３．上記の第１のホウ素化アレーンまたは上記の脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを、ハロゲン化アリール、偽ハロゲン化アリール、ハロゲン化ビニルおよび偽ハロゲン化ビニルからなる群から選択される反応体、ならびに遷移金属触媒に接触させ、上記の第１のホウ素化アレーンまたは上記の脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンと上記の反応体とをクロスカップリングするステップをさらに含む、実施形態５２から９２のいずれかに記載の方法。

【0291】

９４．１〜３つの置換基を含む置換アレーン環を含む基質であって、上記のアレーン環が、ＣＨ活性化に電子的に有利な第１の位置において置換されておらず、かつＣＨ活性化に立体的に有利な第２の位置において置換されていない、基質を用意するステップ、および
第１のホウ素化アレーンおよび場合により第２のホウ素化アレーンを形成するのに有効な条件下で、上記の基質を、イリジウム前駆錯体、単座配位子および二座配位子から選択される配位子、ならびにホウ素化試薬に接触させるステップであって、
上記の第１のホウ素化アレーンが、１〜３つの置換基、および上記の第１の位置にボロン酸またはボロン酸誘導体を含む、置換アレーン環を含み、
上記の第２のホウ素化アレーンが、形成される場合、１〜３つの置換基、および上記の第２の位置にボロン酸またはボロン酸誘導体を含む、置換アレーン環を含み、
上記の第１のホウ素化アレーンと上記の第２のホウ素化アレーンとのモル比が、ＧＣ−ＦＩＤにより決定すると、少なくとも１：１である、ステップ
を含む、ホウ素化アレーンを形成する方法。

【0292】

９５．アレーン環がフェニル環を含む、実施形態９４に記載の方法。

【0293】

９６．アレーン環がピリジン環を含む、実施形態９４に記載の方法。

【0294】

９７．ピリジン環が、２，４−二置換ピリジン環を含む、実施形態９６に記載の方法。

【0295】

９８．ピリジン環が、２，６−二置換ピリジン環を含む、実施形態９６に記載の方法。

【0296】

９９．ピリジン環が、２，４，６−三置換ピリジン環を含む、実施形態９６に記載の方法。

【0297】

１００．ピリジン環が、２−置換ピリジン環を含む、実施形態９６に記載の方法。

【0298】

１０１．１〜３つの置換基が、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基から個別に選択され、
Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々が、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、またはアリール基であり、Ｒ_１６が、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ^１_１６Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である、
実施形態９４から１００のいずれかに記載の方法。

【0299】

１０２．アレーン環が、−Ｆおよび−ＣＦ_３からなる群から選択される電子吸引基を含む、実施形態９４から１００のいずれかに記載の方法。

【0300】

１０３．第１のホウ素化アレーンが、上記の電子吸引基に対しオルト位に、以下

【0301】

【化77】

の１つから選択されるボロン酸誘導体を含む、実施形態９４から１０２のいずれかに記載の方法。

【0302】

１０４．第１のホウ素化アレーンと第２のホウ素化アレーンとのモル比が、少なくとも３：１である、実施形態９４から１０３のいずれかに記載の方法。

【0303】

１０５．第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの転化率が、少なくとも３０％である、実施形態９４から１０４のいずれかに記載の方法。

【0304】

１０６．第１のホウ素化アレーンおよび第２のホウ素化アレーンへの転化率が、少なくとも５０％である、実施形態９４から１０５のいずれかに記載の方法。

【0305】

１０７．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクタジエン前駆錯体を含む、実施形態９４から１０６のいずれかに記載の方法。

【0306】

１０８．Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクタジエン前駆錯体が、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（Ｃｌ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（ｃｏｄ）_２］ＢＦ_４、［Ｉｒ（ＯＨ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（ＯＰｈ）ｃｏｄ］_２、［Ｉｒ（ＯＡｃ）ｃｏｄ］_２、（Ｉｎｄ）Ｉｒ（ｃｏｄ）、Ｉｒ（ａｃａｃ）ｃｏｄ、（ｄｔｂｐｙ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｄ）、（ｔｍｐ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｄ）、およびそれらの組合せからなる群から選択される、実施形態１０７に記載の方法。

【0307】

１０９．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクテン前駆錯体を含む、実施形態９４から１０６のいずれか１つに記載の方法。

【0308】

１１０．Ｉｒ（Ｉ）−シクロオクテン前駆錯体が、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（Ｃｌ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（ｃｏｅ）_２］ＢＦ_４、［Ｉｒ（ＯＨ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（ＯＰｈ）ｃｏｅ］_２、［Ｉｒ（ＯＡｃ）ｃｏｅ］_２、（Ｉｎｄ）Ｉｒ（ｃｏｅ）、Ｉｒ（ａｃａｃ）ｃｏｅ、（ｄｔｂｐｙ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｅ）、（ｔｍｐ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３（ｃｏｅ）、［ＩｒＣｌ（ｃｏｅ）_２］_２およびそれらの組合せからなる群から選択される、実施形態１０９に記載の方法。

【0309】

１１１．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−メシチレン前駆錯体を含む、実施形態９４から１０６のいずれか１つに記載の方法。

【0310】

１１２．Ｉｒ（Ｉ）−メシチレン前駆錯体が、（ＭｅｓＨ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）（Ｂ（ＯＲ_１１）_２）、（ＭｅｓＨ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３およびそれらの組合せからなる群から選択され、ＢＰｉｎがピナコールボランであり、Ｒ_１１が水素、線状または分岐状Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、アリール基、またはＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基である、実施形態１１１に記載の方法。

【0311】

１１３．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−ホスフィン前駆錯体を含む、実施形態９４から１０６のいずれかに記載の方法。

【0312】

１１４．Ｉｒ（Ｉ）−ホスフィン前駆錯体が、（ｄｐｐｂｚ）Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３、（Ｉｎｄ）Ｉｒ（ｄｐｐｅ）、（ＰＭｅ_３）_２ＩｒＨ_５、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_２ＩｒＨ_５、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_３Ｉｒ（Ｂ（ＯＲ_１１）_２）_３、（Ｒ_１１）_２Ｐ）_２Ｉｒ（ＢＰｉｎ）_３、（（（Ｒ_１１）_２Ｐ）_３Ｉｒ（（Ｒ_１１Ｏ）_２Ｂ）_３）_２、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_４Ｉｒ（ＢＰｉｎ）、（（Ｒ_１１）_３Ｐ）_２ＩｒＨ_ｘ（Ｂ（ＯＲ_１１）_２）_５−ｘおよびそれらの組合せからなる群から選択され、ｘは、０〜４の間の整数であり、ｄｐｐｂｚは、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）ベンゼンであり、ＢＰｉｎはピナコールボランであり、Ｒ_１１は水素、線状または分岐状Ｃ_１〜Ｃ_８アルキル基、アリール基、またはＣ_３〜Ｃ_８シクロアルキル基である、実施形態１１３に記載の方法。

【0313】

１１５．イリジウム前駆錯体が、Ｉｒ（Ｉ）−１，２，３，４，５−メチルシクロペンタジエニル前駆錯体を含む、実施形態９４から１０６のいずれかに記載の方法。

【0314】

１１６．Ｉｒ（Ｉ）−１，２，３，４，５−メチルシクロペンタジエニル前駆錯体が、（Ｃｐ^＊）Ｉｒ（Ｈ）_２（Ｍｅ_３Ｐ）、（Ｃｐ^＊）Ｉｒ（Ｈ）（ＢＰｉｎ）（Ｍｅ_３Ｐ）、（Ｃｐ^＊）Ｉｒ（Ｈ）（Ｃ_６Ｈ_５）（Ｍｅ_３Ｐ）およびそれらの組合せからなる群から選択される、実施形態１１５に記載の方法。

【0315】

１１７．配位子が二座配位子を含む、実施形態９４から１０６のいずれかに記載の方法。

【0316】

１１８．二座配位子が電子不足二座配位子を含む、実施形態１１７に記載の方法。

【0317】

１１９．二座配位子が、１つまたは複数の電子吸引性置換基により置換されている、２，２’−ビピリジンを含む、実施形態１１７または１１８に記載の方法。

【0318】

１２０．二座配位子が、１つまたは複数のトリフルオロメチル基により置換されている、２，２’−ビピリジンを含む、実施形態１１７から１１９のいずれかに記載の方法。

【0319】

１２１．二座配位子が、式ＩＶａ、式ＩＶｂまたは式ＩＶｃによって定義される化合物

【0320】

【化78】

（式中、ｎは、０、１、２または３であり、Ｒ_１０は、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、ニトリル基、ニトロ基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはＣ_１〜Ｃ_６ペルフルオロアルキル基であるが、但し、二座配位子が式ＩＶａまたは式ＩＶｂにより定義される化合物を含む場合、Ｒ_１０の１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
を含む、実施形態１１７から１２０のいずれかに記載の方法。

【0321】

１２２．Ｒ_１０の１つまたは複数が、−Ｆおよび−ＣＦ_３から選択される、実施形態１２１に記載の方法。

【0322】

１２３．二座配位子が、以下：

【0323】

【化79】

の１つまたは複数から選択される、実施形態１１７から１２２のいずれかに記載の方法。

【0324】

１２４．配位子が、単座配位子を含む、実施形態９４から１０６のいずれかに記載の方法。

【0325】

１２５．単座配位子が、ピリジン配位子を含む、実施形態１２４に記載の方法。

【0326】

１２６．ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0327】

【化80】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、
但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
を含む、実施形態１２５に記載の方法。

【0328】

１２７．ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0329】

【化81】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であるが、
但し、Ａの１つまたは複数が水素ではないことを条件とする）
を含む、実施形態１２５または１２６に記載の方法。

【0330】

１２８．ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0331】

【化82】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、
Ｚ_１は、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含む、実施形態１２５から１２７のいずれかに記載の方法。

【0332】

１２９．ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0333】

【化83】

（式中、Ａは、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、
Ｚ_１は、出現毎に独立して、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含む、実施形態１２５から１２８のいずれかに記載の方法。

【0334】

１３０．ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0335】

【化84】

（式中、Ａは、出現毎に独立して、水素、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、
Ｚ_１は、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含む、実施形態１２５から１２７のいずれかに記載の方法。

【0336】

１３１．ピリジン配位子が、以下の式により定義されるピリジン

【0337】

【化85】

（式中、Ｚ_１は、出現毎に独立して、ハロゲン、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ_１６、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ_１６、ニトリル基、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基、Ｃ_１〜Ｃ_６ハロアルキル基およびＣ_１〜Ｃ_６アミノアルキル基であり、Ｒ_１３、Ｒ_１４およびＲ_１５の各々は、出現毎に個別に、水素、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基であり、Ｒ_１６は、出現毎に個別に、水素、−ＯＲ_１３、−ＮＲ_１４Ｒ_１５、Ｃ_１〜Ｃ_６アルキル基またはアリール基である）
を含む、実施形態１２５または１２６に記載の方法。

【0338】

１３２．Ｚ_１が、出現毎に独立して、−Ｆ、−Ｃｌ、−ＣＦ_３、−Ｍｅ、−ＯＭｅ、−ＣＨ_２ＮＨ_２、−ＮＨＭｅ、−ＮＭｅ_２、−ＮＰｈ_２、フェニル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、または−ＣＯＣＨ_３である、実施形態１２８から１３１のいずれかに記載の方法。

【0339】

１３３．ホウ素化試薬が、以下：

【0340】

【化86】

の１つまたは複数から選択される、実施形態９４から１３２のいずれかに記載の方法。

【0341】

１３４．置換アレーン環、第１のホウ素化アレーン、および、形成される場合、第２のホウ素化アレーンが、−Ｃｌおよび−Ｂｒからなる群から選択される置換基を含む、実施形態９４から１３３のいずれかに記載の方法。

【0342】

１３５．第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化して、脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを得るステップをさらに含む、実施形態１３４に記載の方法。

【0343】

１３６．第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するステップが、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するのに有効な条件下で、第１のホウ素化アレーンを、ポリメチルヒドロシロキサン（ＰＭＨＳ）および遷移金属触媒に接触させるステップを含む、実施形態１３５に記載の方法。

【0344】

１３７．遷移金属触媒が、酢酸パラジウム（ＩＩ）を含む、実施形態１３６に記載の方法。

【0345】

１３８．第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するステップが、第１のホウ素化アレーンを還元的に脱ハロゲン化するのに有効な条件下で、第１のホウ素化アレーンをギ酸塩および遷移金属触媒に接触させるステップを含む、実施形態１３５に記載の方法。

【0346】

１３９．遷移金属触媒が、炭素担持パラジウムを含む、実施形態１３８に記載の方法。

【0347】

１４０．ギ酸塩が、ギ酸アンモニウムを含む、実施形態１３８または１３９に記載の方法。

【0348】

１４１．ワンポット合成方法を使用して、第１のホウ素化アレーンが形成され、かつ還元的に脱ハロゲン化されて、脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンが形成される、実施形態１３５から１４０のいずれかに記載の方法。

【0349】

１４２．上記の第１のホウ素化アレーンまたは上記の脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンを、ハロゲン化アリール、偽ハロゲン化アリール、ハロゲン化ビニルおよび偽ハロゲン化ビニルからなる群から選択される反応体、ならびに遷移金属触媒に接触させ、上記の第１のホウ素化アレーンまたは上記の脱ハロゲン化されたホウ素化アレーンと上記の反応体とをクロスカップリングするステップをさらに含む、実施形態９４から１４１のいずれかに記載の方法。

【0350】

非限定的例示として、本開示のある種の実施形態の例が以下に示される。

【実施例】

【0351】

材料および方法
別段の指定がない限り、反応は、窒素雰囲気下、磁気撹拌および^１Ｈ ＮＭＲ分光法によりモニタリングしながら、オーブンにより乾燥したガラス器具中で実施した。テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）は、窒素下、ナトリウム／ベンゾフェノンから新しく蒸留した。酢酸パラジウム（ＩＩ）（Ｐｄ（ＯＡｃ）_２）は、Ｓｔｒｅｍ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ、Ｉｎｃ．（Ｎｅｗｂｕｒｙｐｏｒｔ、ＭＡ）から購入し、Ａ．Ｃ．Ｓ．グレードの無水フッ化カリウム（ＫＦ）およびポリメチルヒドロシロキサン（ＰＭＨＳ）は、Ｓｉｇｍａ Ａｌｄｒｉｃｈ（Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ、ＭＯ）から購入した。フラッシュまたはカラムクロマトグラフィーは、Ｓｉｌｉｃｙｃｌｅ（Ｑｕｅｂｅｃ Ｃｉｔｙ、カナダ）から購入したシリカゲル（２３０〜４００メッシュ）を用いて実施した。^１Ｈ ＮＭＲ、^１３Ｃ ＮＭＲ、^１９Ｆおよび^１１Ｂ ＮＭＲスペクトルは、ＶｎｍｒＪ３．２Ａを実行する、７６００ＡＳ ９６サンプルオートサンプラーを装備したＡｇｉｌｅｎｔ ＤｉｒｅｃｔＤｒｉｖｅ２ ５００ＭＨｚ ＮＭＲ分光計（^１Ｈ ＮＭＲは５００ＭＨｚ、^１３Ｃ ＮＭＲは１２５ＭＨｚ、^１９Ｆ ＮＭＲは４７０ＭＨｚ、および^１１Ｂ ＮＭＲは１６０ＭＨｚ）を使用して記録した。融点は、Ｔｈｏｍａｓ−Ｈｏｏｖｅｒキャピラリー融点装置で測定した。正確な質量分析は、Ｍｉｃｈｉｇａｎ Ｓｔａｔｅ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙの質量分析サービスセンターのＷａｔｅｒｓ ＧＣＴ Ｐｒｅｍｉｅｒガスクロマトグラフ／タイム−オブ−フライト質量分析計を使用して記録した。生成物は、ポジティブモードにおいて運転した電子イオン化源を使用してイオン化した。

【実施例1】

【0352】

１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンのホウ素化
１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンは、除草剤を含む様々な重要な化合物のための重要な合成用ビルディングブロックである。１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンのホウ素化を、フルオロ置換基に対しメタ位（「立体的生成物」と呼ばれる、立体的に有利な反応生成物）とは反対に、フルオロ置換基に対しオルト位（「電子的生成物」と呼ばれる、電子的に有利な反応生成物）において好ましくは触媒する、イリジウム触媒の能力を検討した。

【0353】

１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンのホウ素化の一般手順
以下のスキームは、代表的な１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンのホウ素化に使用した反応条件を例示している。

【0354】

【化87】

【0355】

窒素雰囲気のグローブボックス中、２０ミリリットル（ｍＬ）のバイアル中に、ビス（ピナコラト）ジボロン（Ｂ_２Ｐｉｎ_２；２５４ミリグラム（ｍｇ）、１．０ミリモル（ｍｍｏｌ））を秤量し、ＴＨＦ（２ｍＬ）に溶解した。得られた溶液を１０ｍＬのメスフラスコに移した。バイアルをＴＨＦ（３×１ｍＬ）により洗浄し、得られた溶液を上記のメスフラスコに移した。ＴＨＦを用いて、このメスフラスコ中の溶液を１０ｍＬの印まで希釈し、Ｂ_２Ｐｉｎ_２の０．１０モル濃度（Ｍ）の保存溶液を得た。ビス（１，５−シクロオクタジエン）ジ−μ−メトキシジイリジウム（Ｉ）（［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２；３３．１ｍｇ、０．０５０ｍｍｏｌ）を２０ｍＬバイアルに秤量し、ＴＨＦ（２ｍＬ）に溶解した。得られた溶液を１０ｍＬのメスフラスコに移した。バイアルをＴＨＦ（３×１ｍＬ）により洗浄し、得られた溶液を上記のメスフラスコに移した。ＴＨＦを用いて、メスフラスコ中の溶液を１０ｍＬの印まで希釈し、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２の０．００５０Ｍの保存溶液を得た。配位子（０．１０ｍｍｏｌ）を２０ｍＬのバイアルに秤量し、ＴＨＦ（２ｍＬ）に溶解した。得られた溶液を１０ｍＬのメスフラスコに移した。バイアルをＴＨＦ（３×１ｍＬ）により洗浄し、得られた溶液を上記のメスフラスコに移した。ＴＨＦを用いて、メスフラスコ中の溶液を１０ｍＬの印まで希釈し、配位子の０．０１０Ｍの保存溶液を得た。

【0356】

Ｊ−Ｙｏｕｎｇ ＮＭＲチューブに、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（２００マイクロリットル（μＬ）、０．００１ｍｍｏｌ）の０．００５０Ｍ保存溶液、Ｂ_２Ｐｉｎ_２（１．０ｍＬ、０．１ｍｍｏｌ）の０．１０Ｍ保存溶液、および配位子（２００μＬ、０．００２ｍｍｏｌ）の０．０１０Ｍ保存溶液を投入した。このチューブに基質（１．０ｍｍｏｌ）を加えた。Ｊ−Ｙｏｕｎｇ ＮＭＲチューブに栓をし、十分に振盪してこの液体を混合し、グローブボックスから取り出して、８０℃の油浴中で加熱した。反応の進行は、時々、油浴からチューブを取り出して、^１９Ｆおよび^１１Ｂ ＮＭＲスペクトルを得ることによりモニタリングした。反応が完了したと判断した後、揮発物をロータリーエバポレーションによって除去した。次に、残渣をクーゲルロール蒸留により精製すると、ホウ素化生成物の位置化学混合物が得られた。立体的生成物と電子的生成物との比は、^１９Ｆ ＮＭＲ分光法およびＧＣ−ＦＩＤによって決定した。

【0357】

２−クロロ−６−フルオロトルエンのホウ素化
２−クロロ−６−フルオロトルエンは、上記の一般手順を使用し、配位子としてジ（ピリジン−２−イル）メタンを使用してホウ素化した。この反応を９６時間、実施すると、７６：２４の比の２−（３−クロロ−５−フルオロ−４−メチルフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（立体的生成物）および２−（４−クロロ−２−フルオロ−３−メチルフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（電子的生成物）が、白色固体（４９．３ｍｇ、ホウ素基準で９１％）として得られた。

【0358】

２−（３−クロロ−５−フルオロ−４−メチルフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（主要）：¹H NMR (500 MHz, アセトン-d₆) δ 7.51 (s, 1H), 7.30 (d, J = 9.3 Hz, 1H), 2.31 (d, J = 2.5 Hz, 3H), 1.34 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, アセトン-d₆) δ-115.0 (dt, J = 9.3, 2.5 Hz); ¹³C NMR (125 MHz, アセトン-d₆) δ 162.3 (d, J = 247.0 Hz), 136.5 (d, J = 4.8 Hz), 132.0 (d, J = 2.9 Hz), 128.4 (d, J = 20.0 Hz), 120.2, (d, J = 21.9 Hz), 85.3, 25.2, 12.2 (d, J = 4.3 Hz).

【0359】

２−（４−クロロ−２−フルオロ−３−メチルフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（少量）：¹H NMR (500 MHz, アセトン-d₆) δ 7.51 (m, 1H), 7.23 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 2.23 (d, J = 2.5 Hz, 3H), 1.34 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, アセトン-d₆) δ-102.4 (m); ¹³C NMR (125 MHz, アセトン-d₆) δ 166.9 (d, J = 252.7 Hz), 136.9 (d, J = 6.7 Hz), 135.8 (d, J = 9.5 Hz), 126.0 (d, J = 3.8 Hz), 125.0 (d, J = 21.0 Hz), 84.8, 25.2, 11.8 (d, J = 4.8 Hz).

【0360】

２−クロロ−６−フルオロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンのホウ素化
２−クロロ−６−フルオロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンを、上記の一般手順を使用し、配位子として４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ビピリジンを使用してホウ素化した。この反応を６時間、実施すると、６９：３１の比の２−クロロ−６−フルオロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アニリン（立体的生成物）および６−クロロ−２−フルオロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アニリン（電子的生成物）が、無色油状物（５３．８ｍｇ、ホウ素基準で９０％）として得られた。

【0361】

２−クロロ−６−フルオロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アニリン（主要）：¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.51 (s, 1H), 7.28 (d, J = 12.2 Hz, 1H), 2.83 (d, J = 2.5 Hz, 6H), 1.26 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ -120.2 (d, J = 11.6 Hz).

【0362】

６−クロロ−２−フルオロ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）アニリン（少量）：¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.31 (dd, J = 7.8, 5.9 Hz, 1H), 7.08 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 2.79 (d, J = 2.5 Hz, 6H), 1.30 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ -108.4 (br).

【0363】

混合物：¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 165.4 (d, J = 255.6 Hz), 159.7 (d, J = 250.8 Hz), 140.4 (d, J = 12.4 Hz), 137.7 (d, J = 16.2 Hz), 137.0 (d, J = 7.6 Hz), 132.0 (d, J = 2.9 Hz), 131.9, 131.8 (d, J = 10.5 Hz), 125.3 (d, J = 3.8 Hz), 121.0 (d, J = 20.0 Hz), 84.1, 83.9, 43.4 (d, J = 4.5 Hz), 43.2 (d, J = 4.8 Hz), 24.7.

【0364】

１−クロロ−２−エトキシ−３−フルオロベンゼンのホウ素化
１−クロロ−２−エトキシ−３−フルオロベンゼンを、上記の一般手順を使用し、配位子として４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ビピリジンを使用してホウ素化した。この反応を１２時間、実施すると、６４：３６の比の２−（３−クロロ−４−エトキシ−５−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（立体的生成物）および２−（４−クロロ−３−エトキシ−２−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（電子的生成物）が、無色油状物（５３．５ｍｇ、ホウ素基準で８９％）として得られた。

【0365】

２−（３−クロロ−４−エトキシ−５−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（主要）：¹H NMR (500 MHz, アセトン-d₆) δ 7.52 (s, 1H), 7.37 (m, 1H), 4.22 (q, J = 6.9 Hz, 2H), 1.38 (t, J = 6.9 Hz, 3H, 別の異性体と重複), 1.33 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, アセトン-d₆) δ -129.3 (d, J = 10.0 Hz).

【0366】

２−（４−クロロ−３−エトキシ−２−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（少量）：¹H NMR (500 MHz, アセトン-d₆) δ 7.37 (m, 1H), 7.24 (dd, J = 8.3, 1.4 Hz, 1H), 4.14 (q, J = 6.9 Hz, 2H), 1.38 (t, J = 6.9 Hz, 3H), 1.34 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, アセトン-d₆) δ -117.9 (d, J = 5.0 Hz).

【0367】

混合物：¹³C NMR (125 MHz, アセトン-d₆) δ 161.5 (d, J = 254.2 Hz), 156.8 (d, J = 248.9 Hz), 146.7 (d, J = 13.9 Hz), 144.3 (d, J = 15.7 Hz), 132.8 (d, J = 3.8 Hz), 132.4 (d, J = 3.1 Hz), 131.6 (d, J = 9.1 Hz), 126.1 (d, J = 3.6 Hz), 121.7 (d, J = 18.1 Hz), 85.3, 84.9, 70.9 (d, J = 5.1 Hz), 70.8 (d, J = 4.3 Hz), 25.2, 25.0, 15.9, 15.9.

【0368】

１，２−ジクロロ−３−フルオロベンゼンのホウ素化
１，２−ジクロロ−３−フルオロベンゼンを、上記の一般手順を使用し、配位子として４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ビピリジンを使用してホウ素化した。この反応を６時間、実施すると、６０：４０の比の２−（３，４−ジクロロ−５−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（立体的生成物）および２−（３，４−ジクロロ−２−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（電子的生成物）が、白色固体（５４．５ｍｇ、ホウ素基準で９４％）として得られた。

【0369】

２−（３，４−ジクロロ−５−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（主要）：¹H NMR (500 MHz, CD₃CN) δ 7.53 (s, 1H), 7.34 (dd, J = 8.8, 1.5 Hz, 1H), 1.28 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CD₃CN) δ -120.0 (d, J = 8.3 Hz); ¹³C NMR (125 MHz, CD₃CN) δ159.4 (d, J = 250.8 Hz), 134.3, 132.2 (d J = 2.9 Hz), 123.8 (d, J = 20.0 Hz), 120.8 (d, J = 20.0 Hz), 85.7, 25.2.

【0370】

２−（３，４−ジクロロ−２−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（少量）：¹H NMR (500 MHz, CD₃CN) δ 7.48 (dd, J = 7.8, 5.9 Hz, 1H), 7.25 (dd, J = 7.8, 1.0 Hz, 1H), 1.30 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CD₃CN) δ -100.7 (d, J = 5.0 Hz); ¹³C NMR (125.72 MHz, CD₃CN) δ 163.4 (d, J = 254.6 Hz), 137.5, 135.5 (d, J = 9.5 Hz), 126.6 (d, J = 3.8 Hz), 121.1 (d, J = 21.9 Hz), 85.4, 25.2.

【0371】

１−クロロ−２，３−ジフルオロベンゼンのホウ素化
１−クロロ−２，３−ジフルオロベンゼンを、上記の一般手順を使用し、配位子として４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ビピリジンを使用してホウ素化した。この反応を１２時間、実施すると、５５：４５の比の２−（３−クロロ−４，５−ジフルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（立体的生成物）および２−（４−クロロ−２，３−ジフルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（電子的生成物）が、白色固体（５０．５ｍｇ、ホウ素基準で９２％）として得られた。

【0372】

２−（３−クロロ−４，５−ジフルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（主要）：¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.58 (dt, J = 6.9, 1.5 Hz, 1H), 7.46 (m, 1H), 1.31 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CD₃CN) δ -134.5 (m, 1F), -135.9 (dd, J = 21.6, 10.0 Hz, 1F).

【0373】

２−（４−クロロ−２，３−ジフルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（少量）：¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.38 (m, 1H), 7.13 (m, 1H), 1.33 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CD₃CN) δ -125.5 (dd, J = 21.6, 5.0 Hz, 1F), -139.9 (dd, J = 20.7, 5.8 Hz, 1F).

【0374】

混合物：¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 155.0 (dd, J = 255.7, 11.6 Hz), 150.7 (dd, J = 251.9, 12.0 Hz), 149.0 (dd, J = 254.5, 14.7 Hz), 147.1 (dd, J = 251.3, 16.5 Hz), 131.8 (d, J = 3.3 Hz), 130.6 (dd, J = 8.1, 5.2 Hz), 125.6 (dd, J = 14.4, 1.8 Hz), 125.1, (dd, J = 3.7, 1.5 Hz), 122.3 (d, J = 14.3 Hz), 121.5 (d, J = 15.7 Hz), 84.6, 84.4, 24.8, 24.8.

【0375】

１−クロロ−２−エトキシ−３−フルオロベンゼンのホウ素化
以下のスキームは、１−クロロ−２−エトキシ−３−フルオロベンゼンのホウ素化に使用した反応方法を例示している。

【0376】

【化88】

【0377】

窒素雰囲気のグローブボックス中、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３３．１ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）を２０ｍＬのバイアルに入れた。固体がＮ−メチルピロリジン−２−オン（ＮＭＰ；１ｍＬ）に部分的に溶解し、１０ｍＬのメスフラスコに移した。バイアル中に残った残渣をＮＭＰ（４×１ｍＬ）により処理し、得られた溶液を上記のメスフラスコに移した。次に、この混合物を１０ｍＬの印までＮＭＰにより希釈し、０．００５Ｍの［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２保存溶液にした。４，４’，５，５’−テトラヒドロ−２，２’−ビオキサゾール（ｂｏｘ；１４．０ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）を２０ｍＬのバイアルに入れた。固体がＮＮＭＰ（１ｍＬ）に部分的に溶解し、１０ｍＬのメスフラスコに移した。バイアル中に残った残渣をＮＭＰ（４×１ｍＬ）により処理し、得られた溶液を上記のメスフラスコに移した。この混合物を１０ｍＬの印までＮＭＰにより希釈し、０．０１Ｍのｂｏｘ保存溶液にした。

【0378】

マイクロ撹拌子を備えた、Ｂ_２Ｐｉｎ_２（２５４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を含有する２０ｍＬのガラス製バイアルに、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２保存溶液（２．０ｍＬ、０．０１ｍｍｏｌの［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２）およびｂｏｘ保存溶液（２．０ｍＬ、０．０２ｍｍｏｌのｂｏｘ）を加えた。この混合物を３０分間（ｍｉｎ）、撹拌した。１−クロロ−２−エトキシ−３−フルオロベンゼン（７５０μＬ、５ｍｍｏｌ）を加えた。この反応物を室温（ｒｔ）で２４時間（ｈ）、撹拌した。ガスクロマトグラフ−質量分光法（ＧＣ−ＭＳ）分析により、Ｂ_２Ｐｉｎ_２が完全に消費したことが示された。ＧＣ−ＦＩＤにより、電子的生成物：立体的生成物が６５：３５の比であることが示された。この粗製反応混合物を水（２０ｍＬ）と撹拌し、ジエチルエーテル（Ｅｔ_２Ｏ；３×５ｍＬ）により抽出した。エーテル相を硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ_４）により脱水してろ過し、溶媒を減圧下で除去した。残渣をクーゲルロール蒸留（２ｍｍＨｇ）により精製した。第１のフラクション（室温）は、原料の１−クロロ−２−エトキシ−３−フルオロベンゼンであり、無色油状物（４１１ｍｇが得られた。基質基準で４７％）として単離された。第２のフラクション（約１００℃）は、２−（４−クロロ−３−エトキシ−２−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランと２−（３−クロロ−４−エトキシ−５−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（^１９Ｆ ＮＭＲによる電子的生成物：立体的生成物の比は６６：３４、ＧＣ−ＦＩＤによる電子的生成物：立体的生成物の比は６６：３４）との混合物を、無色油状物（１５２ｍｇ、ホウ素基準で２５．３％）として含有した。

【0379】

２−（３−クロロ−４−エトキシ−５−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（少量）：¹H NMR (500 MHz, アセトン-d₆) δ 7.52 (s, 1H), 7.37 (m, 1H, 別の異性体と重複), 4.22 (q, J = 6.9 Hz, 2H), 1.38 (t, J = 6.9 Hz, 3H, 別の異性体と重複), 1.33 (s, 12H, 別の異性体と重複); ¹⁹F NMR (470 MHz, アセトン-d₆) δ -129.3 (d, J = 10.0 Hz).

【0380】

２−（４−クロロ−３−エトキシ−２−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（主要）：¹H NMR (500 MHz, アセトン-d₆) δ 7.37 (m, 1H, 別の異性体と重複), 7.24 (dd, J = 8.3, 1.4 Hz, 1H), 4.14 (q, J = 6.9 Hz, 2H), 1.38 (t, J = 6.9 Hz, 3H, 別の異性体と重複), 1.34 (s, 12H, 別の異性体と重複); ¹⁹F NMR (470 MHz, アセトン-d₆) δ -117.9 (d, J = 5.0 Hz).

【0381】

混合物：¹³C NMR (125 MHz, アセトン-d₆) δ 161.5 (d, J = 254.2 Hz), 156.8 (d, J = 248.9 Hz), 146.7 (d, J = 13.9 Hz), 144.3 (d, J = 15.7 Hz), 132.8 (d, J = 3.8 Hz), 132.4 (d, J = 3.1 Hz), 131.6 (d, J = 9.1 Hz), 126.1 (d, J = 3.6 Hz), 121.7 (d, J = 18.1 Hz), 85.3, 84.9, 70.9 (d, J = 5.1 Hz), 70.8 (d, J = 4.3 Hz), 25.2, 25.0, 15.9, 15.9.

【0382】

様々な条件下での、１，２−ジクロロ−３−フルオロベンゼンおよび２−クロロ−６−フルオロトルエンのホウ素化
上記のホウ素化方法をさらに評価するために、様々な配位子を使用し、上記の一般的方法を使用して、１，２−ジクロロ−３−フルオロベンゼンおよび２−クロロ−６−フルオロトルエンをホウ素化した。以下のスキームは、１，２−ジクロロ−３−フルオロベンゼンおよび２−クロロ−６−フルオロトルエンのホウ素化に使用した反応方法を例示している。

【0383】

【化89】

【0384】

これらの試験の結果を表１にまとめている。表１に示されている通り、ホウ素化反応において、４，４’，５，５’−テトラヒドロ−２，２’−ビオキサゾール（ｂｏｘ）などの電子不足配位子を使用することにより、電子的生成物が有利になり得た。ホウ素化反応の分析により、ホウ素化反応において、立体的なかさ高さがより小さな配位子を使用することにより、電子的生成物が有利になり得ることも示唆された。

【0385】

【表1】

【0386】

２−クロロ−６−フルオロベンゾニトリルのホウ素化
以下のスキームは、２−クロロ−６−フルオロベンゾニトリルのホウ素化に使用した反応方法を例示している。

【0387】

【化90】

【0388】

窒素雰囲気のグローブボックス中、撹拌子を含有する２０ｍＬのバイアル中で、Ｂ_２Ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）および［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）をＨｕｎｉｇ塩基（２ｍＬ）に溶解した。４，４’−ビス（トリフルオロメチル）−２，２’−ビピリジン（ｂｔｆｂｐｙ；２．９ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）を加えた。得られた溶液を室温で１時間、撹拌した。２−クロロ−６−フルオロベンゾニトリル（７７．５ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加えた。この反応物を室温で２４時間、撹拌した。ＧＣ−ＭＳにより、基質は残存していないこと、および２つの一ホウ素化生成物が形成していることが示された。揮発物は、ロータリーエバポレーションにより除去した。この残渣を水（１０ｍＬ）およびＥｔ_２Ｏ（２ｍＬ）と撹拌した。エーテル相を分離し、水相をＥｔ_２Ｏ（約２×２ｍＬ）により抽出した。合わせたエーテル溶液をＭｇＳＯ_４で脱水し、溶媒をロータリーエバポレーションにより除去した。

【0389】

この残渣をクーゲルロール蒸留により精製すると、２−クロロ−６−フルオロ−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾニトリル（立体的生成物）および６−クロロ−２−フルオロ−３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾニトリル（電子的生成物）からなる、ホウ素化生成物の位置化学混合物が４１：５９の比で、白色固体（１０５．１ｍｇ、アレーン基準で７４％）として得られた。

【0390】

２−クロロ−６−フルオロ−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾニトリル（少量）：¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.67 (s, 1H), 7.47 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 1.32 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CD₃CN) δ -104.2 (d, J = 7.8 Hz).

【0391】

６−クロロ−２−フルオロ−３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾニトリル（主要）：¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.86 (dd, J = 8.3, 6.4 Hz, 1H), 7.31 (d, J = 8.3 Hz, 1H), 1.31 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CD₃CN) δ-92.2 (d, J = 4.2 Hz).

【0392】

混合物：¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 167.8 (d, J = 266.8 Hz), 163.1 (d, J = 263.0 Hz), 141.4 (d, J = 10.3 Hz), 140.6 (d, J = 2.1 Hz), 137.2, 131.1 (d, J = 3.3 Hz), 125.2 (d, J = 3.6 Hz), 119.7 (d, J = 18.1 Hz), 111.3 (d, J = 2.1 Hz), 104.9 (d, J = 18.1 Hz), 103.1 (d, J = 20.3 Hz), 85.1, 84.7, 24.8, 24.7.

【0393】

ハイ−スループット基質／配位子スクリーニング
上記のホウ素化反応の分析により、ホウ素化反応において、４，４’−ビス（トリフルオロメチル）−２，２’−ビピリジン（ｂｔｆｂｐｙ）、４，４’，５，５’−テトラキス（トリフルオロメチル）−２，２’−ビピリジン（ｔｔｆｂｐｙ）、または４，４’，５，５’−テトラヒドロ−２，２’−ビオキサゾール（ｂｏｘ）などの電子不足配位子を使用することにより、電子的生成物が有利になり得ることが示唆された。上記のホウ素化反応の分析により、ホウ素化反応において、立体的なかさ高さがより小さな配位子を使用することにより、電子的生成物が有利になり得ることも示唆された。

【0394】

ハイ−スループットスクリーニングアッセイを使用して、２種の電子不足ビピリジン配位子（すなわち、電子吸引性置換基を含有する２種のビピリジン）をさらに評価した。以下のスキームは、ハイ−スループットスクリーニングアッセイにおいて、基質／配位子のペアを評価するために使用したホウ素化反応条件を例示している。

【0395】

【化91】

【0396】

窒素雰囲気のグローブボックス中、Ｂ_２Ｐｉｎ_２（４２３．３ｍｇ、１．６７ｍｍｏｌ）、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（１１．１ｍｇ、０．０１６７ｍｍｏｌ）、および配位子（ｂｔｆｂｐｙ（９．７ｍｇ、０．０３３２ｍｍｏｌ）またはｔｔｆｂｐｙ（１４．３ｍｇ、０．０３３２ｍｍｏｌ））を２０ｍＬのバイアルに入れた。固体がＨｕｎｉｇ塩基（１ｍＬ）に部分的に溶解し、１０ｍＬのメスフラスコに移した。バイアル中に残った残渣をＨｕｎｉｇ塩基（４×１ｍＬ）により処理し、得られた溶液を上記のメスフラスコに移した。この混合物を１０ｍＬの印までＨｕｎｉｇ塩基により希釈した。このフラスコにマイクロ撹拌子を加え、この混合物を室温で１時間、撹拌し、Ｂ_２Ｐｉｎ_２／Ｉｒ／配位子の保存溶液を得た。マイクロ撹拌子を備え、基質（２位において、−ＣＨ_３、−ＮＭｅ_２、−ＯＥｔ、−Ｃｌ、−Ｆまたは−ＣＮにより置換されている、１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼン、０．１ｍｍｏｌ）を含有する７００μＬのガラス製バイアルに、Ｂ_２Ｐｉｎ_２／Ｉｒ／配位子の保存溶液（３００μＬ、５０．０μｍｏｌのＢ_２Ｐｉｎ_２、０．５０μｍｏｌの［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２、１．０μｍｏｌの配位子）を加えた。この方法で調製した各バイアルを、２４ウェルのハイ−スループットスクリーニングブロックに入れた。このブロックを密閉し、グローブボックスから取り出して、磁気撹拌しながら、６０℃で１２時間、加熱プレート上で加熱した。この時点で、試料アリコートを各バイアルから抜き取り、転化率および立体／電子的生成物の比を、^１９Ｆ ＮＭＲ分光法およびＧＣ−ＦＩＤにより決定した。

【0397】

ハイ−スループットスクリーニングの結果を表２に示している。大部分の場合に、１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンのフルオロ置換基に対しオルトでのホウ素化（電子的に有利な反応生成物）が有利であった。

【0398】

【表2】

【実施例2】

【0399】

１−クロロ−３−フルオロ−２−置換ベンゼンのタンデムホウ素化／Ｓｕｚｕｋｉカップリング
ホウ素化アレーンは、有用な合成中間体となり得る。例えば、ホウ素化アレーンは、Ｓｕｚｕｋｉ型クロスカップリング反応などの様々なクロスカップリング反応に関与して、幅広い範囲の高度に官能基化された有機化合物を入手することができる。したがって、本明細書に記載されているホウ素化方法とその後のＳｕｚｕｋｉクロスカップリングとの適合性を検討した。

【0400】

１，２−ジクロロ−３−フルオロベンゼンのタンデムＣ−Ｈ活性化／ホウ素化およびＳｕｚｕｋｉカップリング

【0401】

【化92】

【0402】

窒素のグローブボックス中、２０ｍＬのバイアル中で、Ｂ_２Ｐｉｎ_２（２５４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（６．６ｍｇ、０．０１０ｍｍｏｌ、０．０２ｍｍｏｌのＩｒ）、ｂｔｆｂｐｙ（６．３ｍｇ、０．０２０ｍｍｏｌ）および１，２−ジクロロ−３−フルオロベンゼン（１１７μＬ、１．０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２ｍＬ）に溶解し、６０℃で１２時間、撹拌した。粗製反応混合物の^１９Ｆ ＮＭＲ分析により、６７：３３の比の生成物に９３％で転化したことが示された。溶媒をロータリーエバポレーションにより除去した。クーゲルロール蒸留（０．２ｍｍＨｇ、１５０℃）により、２−（３，４−ジクロロ−２−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランおよび２−（３，４−ジクロロ−５−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランの固体の混合物が得られた（２５６ｍｇ、８８％、６７：３３の比）。

【0403】

撹拌子を有するスクリューキャップ付きチューブに、４−ヨード安息香酸メチル（２２８ｍｇ、０．８７ｍｍｏｌ）、Ｋ_２ＣＯ_３（２１８ｍｇ、１．５８ｍｍｏｌ）およびビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_２Ｃｌ_２；５．５ｍｇ、０．００８ｍｍｏｌ）を秤量した。水（１．６ｍＬ）を加えてＫ_２ＣＯ_３を溶解し、ＴＨＦ（６．４ｍＬ）中の２−（３，４−ジクロロ−２−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランおよび２−（３，４−ジクロロ−５−フルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（合わせて、２３２ｍｇ、０．８０ｍｍｏｌ、６７：３３）からなる混合物の溶液をスクリューキャップ付きチューブに加えた。この二相の混合物にアルゴンを３０分間、スパージングし、このチューブに栓をして６０℃の油浴中で加熱した。４時間後、ＧＣ−ＭＳ分析により、少量のヨウ素の存在、原料のボロン酸エステルが存在しないこと、およびＳｕｚｕｋｉカップリング生成物の重なりピークが示された。粗製反応混合物の^１９Ｆ ＮＭＲ分析により、１％の未同定ピークを含む、６８：３２の比の２つのＳｕｚｕｋｉ生成物が示された。

【0404】

粗製反応混合物を塩基性アルミナの短いプラグによりろ過し、このプラグをＥｔＯＡｃにより洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーションにより除去した。ヘキサンとＥｔ_２Ｏ（５０：１）との混合物を用いるシリカゲルカラム上で残渣を精製すると、３つのフラクション、すなわち３’，４’−ジクロロ−５’−フルオロ−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチル（８３．７ｍｇ、３３％）、３’，４’−ジクロロ−２’−フルオロ−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチル（４３．６ｍｇ、１７％）、および混合フラクション（５６．３ｍｇ、１５％、７％、６７：３３）が得られた。

【0405】

３’，４’−ジクロロ−２’−フルオロ−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチルを白色固体（５２．２ｍｇ、原料のアレーンから１７．４％）として単離した。ｍｐ１５０〜１５２℃；¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 8.10 (AABB, 実測J = 8.5 Hz, 2H), 7.56 (AABBの二重線, 実測J = 8.5, 1.7 Hz, 2H), 7.34 (m, ddに分割されている, 結合定数J = 8.5, 1.5 Hz, 1H), 7.28 (t, ddに分割されている, 結合定数J = 8.6, 7.3 Hz, 1 H), 3.93 (s, 3H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ -112.9 (dd, dqに分割されている, J = 7.5, 1.6 Hz); ¹³C NMR (126 MHz, CDCl₃) δ 166.6, 155.8 (d, J = 253.2 Hz), 138.6 (d, J = 1.9Hz), 133.7, 129.9, 129.9, 128.8 (d, J = 3.1 Hz), 128.4 (d, J = 4.1 Hz), 127.8 (d, J = 14.1 Hz), 125.6 (d, J = 4.3 Hz), 121.7 (d, J = 20.7 Hz), 52.3.

【0406】

３’，４’−ジクロロ−５’−フルオロ−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチルを白色固体（８７．６ｍｇ、原料のアレーンから２９．３％）として単離した。ｍｐ１３４〜１３６℃；¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 8.09 (AABB, 実測J = 8.5 Hz, 2H), 7.57 (AABBの二重線, 実測J = 8.5, 2H), 7.50 (t, J = 1.9 Hz, 1H), 7.30 (dd, J = 9.4, 2.0 Hz, 1H), 3.93 (s, 3H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ -109.2 (dd, J = 9.5, 1.6 Hz); ¹³C NMR (126 MHz, CDCl₃) δ 166.5, 159.0 (d, J = 251.1 Hz), 142.0 (d, J = 2.4 Hz), 140.2 (d, J = 8.3 Hz), 134.6 (d, J = 1.4 Hz), 130.4, 130.2, 126.8, 124.3 (d, J = 3.1 Hz), 120.4 (d, J = 19.8 Hz), 113.5 (d, J = 22.7 Hz), 52.3.

【0407】

１−クロロ−２，３−ジフルオロベンゼンのタンデムＣ−Ｈ活性化／ホウ素化およびＳｕｚｕｋｉカップリング

【0408】

【化93】

【0409】

窒素のグローブボックス中、撹拌子を有するシュレンクフラスコ中で、Ｂ_２Ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（６．６ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）およびｔｔｆｂｐｙ（８．５ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）をＨｕｎｉｇ塩基（２．０ｍＬ）に溶解し、この混合物を室温で１時間、撹拌した。１−クロロ−２，３−ジフルオロベンゼン（９３μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。シュレンクフラスコをグローブボックスから取り出して、アルゴン雰囲気下に置き、６０℃の油浴中で６時間、加熱した。粗製反応混合物の^１９Ｆ ＮＭＲ分析により、出発材料の転化率が８５％、および８２：１８の比の２つの生成物であることが示された。溶媒をロータリーエバポレーションにより除去した。クーゲルロール蒸留（０．２ｍｍＨｇ、１５０℃）により、２−（４−クロロ−２，３−ジフルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランおよび２−（３−クロロ−４，５−ジフルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランの混合物が、無色油状物として得られ、これを冷却すると固化した（２１７ｍｇ、７９％、８２：１８の比）。

【0410】

撹拌子を有するスクリューキャップ付きチューブに、４−ヨード安息香酸メチル（２２８ｍｇ、０．８７ｍｍｏｌ）、Ｋ_２ＣＯ_３（２１８ｍｇ、１．５８ｍｍｏｌ）およびＰｄ（ＰＰｈ_３）_２Ｃｌ_２（５．５ｍｇ、０．００８ｍｍｏｌ）を秤量した。水（１．６ｍＬ）を加えてＫ_２ＣＯ_３を溶解し、ＴＨＦ（６．４ｍＬ）中の２−（４−クロロ−２，３−ジフルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランおよび２−（３−クロロ−４，５−ジフルオロフェニル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランからなる混合物溶液をスクリューキャップ付きチューブに加えた。この二相の混合物にアルゴンを３０分間、スパージングし、このチューブに栓をして６０℃の油浴中で加熱した。４時間後、ＧＣ−ＭＳ分析により、少量のヨウ素の存在、原料のボロン酸エステルが存在しないこと、およびＳｕｚｕｋｉカップリング生成物の重なりピークが示された。粗製反応混合物の^１９Ｆ ＮＭＲ分析により、主要なＳｕｚｕｋｉ生成物であるボロン酸エステルが７２％、少量のＳｕｚｕｋｉ生成物であるボロン酸エステルが１３％（８５：１５の比）、および未同定ピークが１５％であることが示された。

【0411】

粗製反応混合物を塩基性アルミナの短いプラグによりろ過し、このプラグをＥｔＯＡｃにより洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーションにより除去した。ヘキサンとＥｔ_２Ｏ（２０：１）との混合物を用いるシリカゲルカラム上で残渣を精製すると、３’−クロロ−４’，５’−ジフルオロ−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチルおよび４’−クロロ−２’，３’−ジフルオロ−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチルの混合物が得られた。

【0412】

３’−クロロ−４’，５’−ジフルオロ−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチルを白色固体（２１ｍｇ、１−クロロ−２，３−ジフルオロベンゼン基準で７％）として単離した。ｍｐ１０４℃；¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 8.09 (AA’BB’, J = 8.6, 2H), 7.55 (AA’BB’, J = 8.6 Hz, 2H), 7.41 (dt, J = 5.9, 2.0 Hz, 1H), 7.31 (ddd, J = 10.5, 6.6, 2.2 Hz, 1H), 3.93 (s, 3H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ -137.5 (ddd, J = 20.7, 10.7, 2.1 Hz, 1F), -139.2 (dt, J = 20.8, 6.2 Hz, 1F); ¹³C NMR (126 MHz, CDCl₃) δ 166.6, 151.1 (dd, J = 251.8, 13.4 Hz), 146.0 (dd, J = 251.8, 15.3 Hz), 142.2, 136.8 (dd, J = 7.6, 4.8 Hz), 130.3, 129.9, 126.9, 124.2 (d, J = 2.9 Hz), 123.2 (dd, J = 14.3, 1.9 Hz), 114.6 (d, J = 18.1 Hz), 52.3.

【0413】

４’−クロロ−２’，３’−ジフルオロ−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチルを白色固体（１１７ｍｇ、１−クロロ−２，３−ジフルオロベンゼン基準で４１％）として単離した。ｍｐ１０１℃；¹H NMR (500 MHz, DMSO-d₆) δ 8.08 (AA’BB’, J = 8.8, 2H), 7.74 (AA’BB’の二重線, J = 8.8, 1.6 Hz, 2H), 7.57 (ddd, J = 8.7, 6.9, 2.0 Hz, 1H), 7.47 (ddd, J = 8.7, 7.3, 2.0 Hz, 1H), 3.89 (s, 3H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ -137.5 (ddd, J = 20.5, 6.4, 2.1 Hz, 1F), -139.0 (ddq, J = 20.4, 7.0, 1.7 Hz, 1F); ¹³C NMR (126 MHz, CDCl₃) δ 166.6, 148.5 (dd, J = 253.7, 13.4 Hz) 147.7 (dd, J = 251.8, 15.3 Hz) 138.3, 130.0, 129.9, 128.8 (d, J = 3.8 Hz), 128.7 (d, J = 10.5 Hz), 125.2 (d, J = 4.8 Hz), 124.6 (t, J = 2.9 Hz), 122.2 (d, J = 15.3 Hz), 52.3.

【0414】

２−クロロ−６−フルオロベンゾニトリルのタンデムＣ−Ｈ活性化／ホウ素化およびＳｕｚｕｋｉカップリング

【0415】

【化94】

【0416】

窒素のグローブボックス中、撹拌子を有するシュレンクフラスコ中で、Ｂ_２Ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（６．６ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）およびｔｔｆｂｐｙ（８．５ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）をＨｕｎｉｇ塩基（２．０ｍＬ）に溶解し、この混合物を室温で１時間、撹拌した。２−クロロ−６−フルオロベンゾニトリル（１５６ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。シュレンクフラスコをグローブボックスから取り出して、アルゴン雰囲気下に置き、６０℃の油浴中で６時間、加熱した。粗製反応物の^１９Ｆ ＮＭＲ分析により、出発材料の転化率が８０％、および２つの生成物が６４：３６の比であることが示された。溶媒をロータリーエバポレーションにより除去した。クーゲルロール蒸留（０．２ｍｍＨｇ、１５０℃）により、６−クロロ−２−フルオロ−３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾニトリル、２−クロロ−６−フルオロ−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゾニトリルおよび原料の２−クロロ−６−フルオロベンゾニトリルの混合物が、白色固体として得られた（２１３ｍｇ、６４：３２：４、ホウ素化生成物７４％）。

【0417】

撹拌子を有するスクリューキャップ付きチューブに、４−ヨード安息香酸メチル（２１３ｍｇ、０．８１ｍｍｏｌ）、Ｋ_２ＣＯ_３（２０４ｍｇ、１．４８ｍｍｏｌ）およびＰｄ（ＰＰｈ_３）_２Ｃｌ_２（５．２ｍｇ、０．００７４ｍｍｏｌ）を秤量した。水（１．５ｍＬ）を加えてＫ_２ＣＯ_３を溶解し、上記の混合物のＴＨＦ（６．０ｍＬ）溶液をスクリューキャップ付きチューブに加えた。この二相の混合物にアルゴンを３０分間、スパージングし、このチューブに栓をして６０℃の油浴中で加熱した。４時間後、ＧＣ−ＭＳ分析により、ボロン酸エステルが存在しないこと、およびＳｕｚｕｋｉカップリング生成物の重なりピークが示された。粗製反応混合物の^１９Ｆ ＮＭＲ分析により、主要なＳｕｚｕｋｉ生成物であるボロン酸エステルが４６％、少量のＳｕｚｕｋｉ生成物であるボロン酸エステルが２２％（６８：３２の比）、未ホウ素化アレーンが１３％、および未同定ピークが１９％であることが示された。

【0418】

粗製反応混合物を塩基性アルミナの短いプラグによりろ過し、このプラグをＥｔＯＡｃにより洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーションにより除去した。ヘキサンとＥｔＯＡｃ（５：１）との混合物を用いるシリカゲルカラム上で残渣を精製すると４’−クロロ−３’−シアノ−２’−フルオロ−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチル、３’−クロロ−４’−シアノ−５’−フルオロ−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチル、および２つの生成物の混合物と決定されたフラクションが得られた（４６ｍｇ、最初の生成物が１２％、２番目の生成物が４％）。

【0419】

４’−クロロ−３’−シアノ−２’−フルオロ−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチルを白色固体（４９ｍｇ、２−クロロ−６−フルオロベンゾニトリル基準で１７％）として単離した。ｍｐ２０９〜２１１℃；¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 8.14 (AA’BB’, J = 8.3, 2H), 7.62 (AA’BB’, J = 8.3 Hz, 2H), 7.56 (t, J = 1.5 Hz, 1H), 7.36 (dd, J = 9.3, 1.5 Hz, 1H), 3.94 (s, 3H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ-102.2 (dd, J = 9.5, 0.8 Hz); ¹³C NMR (126 MHz, CDCl₃) δ 166.2, 163.9 (d, J = 262.3 Hz), 147.2 (d, J = 8.6 Hz), 141.1, 138.3 (d, J = 2.9 Hz), 131.3, 130.6, 127.2, 124.4 (d, J = 2.9 Hz), 113.3 (d, J = 20.0 Hz), 111.2, 102.4 (d, J = 18.1 Hz), 52.4.

【0420】

３’−クロロ−４’−シアノ−５’−フルオロ−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチルを白色固体（２３ｍｇ、２−クロロ−６−フルオロベンゾニトリル基準で８％）として単離した。ｍｐ１４８〜１５０℃；¹H NMR (500 MHz, DMSO-d₆) δ 8.18 (AA’BB’, J = 8.3, 2H), 7.63 (t, J = 8.3 Hz, 1H), 7.56 (AA’BB’のd, J = 8.3, 2.0 Hz, 2H), 7.41 (dd, J = 8.3, 1.0 Hz, 1H), 3.94 (s, 3H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ-106.6 (dt, J = 8.3, 1.7 Hz); ¹³C NMR (126 MHz, CDCl₃) δ 166.4, 160.6 (d, J = 264.2 Hz), 137.3 (br s), 137.0 (d, J = 1.9 Hz), 135.2 (d, J = 5.7 Hz), 130.6, 130.1, 128.8 (d, J = 2.9 Hz), 127.7 (d, J = 13.4 Hz), 126.0 (d, J = 3.8 Hz), 111.2, 104.2 (d, J = 19.1 Hz), 52.4.

【0421】

２−クロロ−６−フルオロトルエンのタンデムＣ−Ｈ活性化／ホウ素化およびＳｕｚｕｋｉカップリング

【0422】

【化95】

【0423】

窒素のグローブボックス中、撹拌子を有するシュレンクフラスコ中で、Ｂ_２Ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（６．６ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）およびｔｔｆｂｐｙ（８．５ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２．０ｍＬ）に溶解し、室温で１時間、撹拌した。２−クロロ−６−フルオロトルエン（１３１μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。シュレンクフラスコをグローブボックスから取り出し、アルゴン雰囲気下に置いた。この混合物を６０℃の油浴中で６時間、加熱した。粗製反応混合物の^１９Ｆ ＮＭＲ分析により、出発材料の転化率が８７％、および２つの生成物が２５：７５の比であることが示された。溶媒をロータリーエバポレーションにより除去した。クーゲルロール蒸留（０．２ｍｍＨｇ、１５０℃）により、６−クロロ−２−フルオロ−３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエンおよび２−クロロ−６−フルオロ−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）トルエンの混合物が、白色固体として得られた（２２２ｍｇ、８２％、２６：７４）。

【0424】

撹拌子を有するスクリューキャップ付きチューブに、４−ヨード安息香酸メチル（２３６ｍｇ、０．９０ｍｍｏｌ）、Ｋ_２ＣＯ_３（４０７ｍｇ、１．６２ｍｍｏｌ）およびＰｄ（ＰＰｈ_３）_２Ｃｌ_２（５．８ｍｇ、０．００８２ｍｍｏｌ）を秤量した。水（２．０ｍＬ）を加えてＫ_２ＣＯ_３を溶解し、上記の混合物のＴＨＦ（８．０ｍＬ）溶液をスクリューキャップ付きチューブに加えた。この二相の混合物にアルゴンを３０分間、スパージングし、このチューブに栓をして６０℃の油浴中で加熱した。４時間後、ＧＣ−ＭＳ分析により、ボロン酸エステルが存在しないこと、およびＳｕｚｕｋｉカップリング生成物の重なりピークが示された。粗製反応混合物の^１９Ｆ ＮＭＲ分析により、電子的に有利なＳｕｚｕｋｉ生成物であるボロン酸エステルが１６％、立体的に有利なＳｕｚｕｋｉ生成物であるボロン酸エステルが７１％（１８：８２の比）、および未同定ピークが１３％であることが示された。

【0425】

粗製反応混合物を塩基性アルミナの短いプラグによりろ過し、このプラグをＥｔＯＡｃにより洗浄した。溶媒をロータリーエバポレーションにより除去した。ヘキサンとＥｔＯＡｃ（５：１）との混合物を用いるシリカゲルカラム上で、残渣を精製した。しかし、２つの生成物が１つのフラクションとして溶出した。３’−クロロ−５’−フルオロ−４’−メチル−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチルと４’−クロロ−２’−フルオロ−３’−メチル−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチルとの混合物が白色固体（１６４ｍｇ、基質基準で５９％、１４：８６）として単離された。

【0426】

３’−クロロ−５’−フルオロ−４’−メチル−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチルおよび４’−クロロ−２’−フルオロ−３’−メチル−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボン酸メチルの混合物：¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 8.08 (d, J = 8.3 Hz, 2H, ２つの生成物が重複), 7.58 (d, J = 8.3 Hz, 2H, 立体支配生成物), 7.56 (d, J = 8.3 Hz, 2H, 電子支配生成物), 7.42 (s, 1H, 立体支配生成物), 7.22-7.18 (m, 重複), 3.92 (s, 3H、２つの生成物が重複), 2.36 (d, J = 2.0 Hz, 3H, 電子支配生成物), 2.33 (d, J = 2.0 Hz, 3H, 立体支配生成物); ¹³C NMR (126 MHz, CDCl₃) δ 166.7, 166.6, 161.5 (d, J = 247.0 Hz), 158.0 (d, J = 249.9 Hz), 142.9 (d, J = 2.9 Hz), 139.8, 139.4 (d, J = 9. Hz), 136.0 (d, J = 7.6 Hz), 135.2 (d, J = 5.7 Hz), 130.2, 129.6, 129.6, 129.3, 128.8 (d, J = 2.9 Hz), 127.8 (d, J = 3.8 Hz), 126.7, 126.3 (d, J = 14.3 Hz), 124.8 (d, J = 3.8 Hz), 124.6 (d, J = 20.0 Hz), 123.7 (d, J = 19.1 Hz), 123.2 (d, J = 3.8 Hz), 112.2 (d, J = 24.8 Hz), 52.1, 12.5 (d, J = 5.7 Hz), 11.7 (d, J = 3.8 Hz); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ -112.3 (d, J = 10.0 Hz, 立体支配生成物), -116.4 (m, 電子支配生成物).

【0427】

３，５−ビス（トリフルオロメチル）安息香酸２−クロロ−６−フルオロフェニルのタンデムＣ−Ｈ活性化／ホウ素化およびＳｕｚｕｋｉカップリング

【0428】

【化96】

【0429】

窒素のグローブボックス中、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（６．６ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）およびＢ_２Ｐｉｎ_２（２５４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）をシュレンクフラスコに加えた。このフラスコにＨｕｎｉｇ塩基（１．０ｍＬ）を加えた。ｔｔｆｂｐｙ（８．５ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）のＨｕｎｉｇ塩基（１．０ｍＬ）の溶液を加えた。得られた混合物を１時間、室温で撹拌した。シュレンクフラスコにＨｕｎｉｇ塩基（１．０ｍＬ）中の基質（３８６ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加え、これをグローブボックスから取り出し、コンデンサを取り付け、アルゴン雰囲気下に置いた。この反応混合物を室温で１８時間、撹拌した。１５時間時で採取したＮＭＲ試料の分析により、ホウ素化の形跡またはＡｒ−Ｆ副生成物の形成は示されなかった。この反応混合物を６０℃の油浴中で２４時間、加熱した。この時点において、ＮＭＲ分光分析により、反応は５９％の転化率で進行し、１７：８３のモル比の立体的ホウ素化生成物と電子的ホウ素化生成物が得られたことが示された。次に、揮発物をロータリーエバポレーションにより除去した。この反応残渣をＥｔ_２Ｏに溶解し、水により洗浄した。有機層をＭｇＳＯ_４で脱水してろ過し、蒸発させた。

【0430】

６−クロロ−２−フルオロ−３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニル３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾエート（主要）：¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 8.64 (s, 2H), 8.15 (s, 1H), 7.62 (dd, J = 8.3, 5.9 Hz, 1H), 7.28 (dd, J = 8.1, 1.2 Hz, 1H), 1.34 (s, 12H); ¹⁹F NMR (500 MHz, CDCl₃) δ -63.1, -115.6.

【0431】

２−クロロ−６−フルオロ−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニル３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾエート（少量）：¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 8.66 (s, 2H), 8.15 (重複したピーク, 1H), 7.72 (t, J = 1.2 Hz, 1H), 7.56 (dd, J = 9.3, 1.0 Hz, 1H), 1.34 (s, 12H); ¹⁹F NMR (500 MHz, CDCl₃) δ -63.1, -126.1.

【0432】

次に、粗製ホウ素化生成物をＴＨＦ（２ｍＬ）に溶解し、ｐ−ヨード安息香酸メチル（１８５ｍｇ、０．７１ｍｍｏｌ）を含有するスクリューキャップ付きチューブに入れた。第三リン酸カリウム二水和物（Ｋ_３ＰＯ_４・２Ｈ_２Ｏ；２９８ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ）を加え、このチューブにアルゴンを５分間、パージした後、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］ジクロロパラジウム（ＩＩ）（ＰｄＣｌ_２・ｄｐｐｆ；１３ｍｇ、０．０１８ｍｍｏｌ）を加えた。このチューブに栓をして６０℃の油浴中で１２時間、加熱した。粗製反応混合物のＧＣ−ＭＳ分析により、ホウ素化アレーンが消費されたことが示された。次に、この粗製反応混合物を、塩基性アルミナの短いプラグに通し、Ｅｔ_２Ｏにより洗浄した。ろ液をＭｇＳＯ_４で脱水してろ過し、蒸発させた。ジクロロメタンにより溶出したシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製すると、６−クロロ−２−フルオロ−３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニル３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾエート−カップリング生成物が白色固体（７９ｍｇ、１５％（２ステップ））として得られた。

【0433】

メチル３’−（（３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイル）オキシ）−４’−クロロ−２’−フルオロ−［１，１’−ビフェニル］−４−カルボキシレート：ｍｐ１５２〜１５４℃；¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 8.68 (br s, 2H), 8.18 (br s 1H), 8.11 (AABB, J = 8.3 Hz, 2H), 7.60 (dd, J = 8.3, 1.5 Hz, 2H), 7.41-7.36 (重複した多重線, 2H), 3.93 (s, 3H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ -63.0 (s, 6F), -129.1 (dt, J = 5.1, 1.7 Hz, 1F); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 166.6, 160.8, 152.2 (d, J = 254.6 Hz), 138.3 (d, J = 1.7 Hz), 135.8, 135.7, 132.7 (q, J = 34.3 Hz), 130.5 (q, J = 3.8 Hz), 130.1 (d, J = 24.8 Hz), 129.9, 128.9 (d, J = 3.1 Hz), 128.4 (d, J = 12.4 Hz), 128.2 (d, J = 3.6 Hz), 128.1 (d, J = 1.4 Hz), 127.6 (m), 125.6 (d, J = 4.1 Hz), 122.7 (q, J = 273.7 Hz, CF₃), 52.3.

【実施例3】

【0434】

１−クロロ−４−フルオロ−３−置換−および１−ブロモ−４−フルオロ−３−置換ベンゼンのタンデムホウ素化／脱ハロゲン化
電子吸引基により置換されているアレーンのオルト−ホウ素化に関する戦略として、タンデムホウ素化／脱ハロゲン化も検討した。以下のスキームは、検討したタンデムホウ素化／脱ハロゲン化方法を例示している。上で議論した通り、電子吸引基により置換されているアレーンの場合、イリジウム触媒によるアレーンのＣ−Ｈ活性化−ホウ素化は、通常、立体効果によって支配される。タンデムホウ素化／脱ハロゲン化では、基質は、電子吸引基、およびこの電子吸引基に対して普通なら立体的に有利なメタ位におけるイリジウム触媒の攻撃を立体的に妨害するよう、電子吸引基に対しパラ位に配置されている犠牲的原子（例えば、ＣｌまたはＢｒなどのハロゲン）をさらに含むことができる。結果として、イリジウム触媒によるアレーンのＣ−Ｈ活性化−ホウ素化は、オルトでホウ素化された（電子的）生成物をもっぱら生成する。続く脱ハロゲン化により、所望の電子的生成物をもっぱら得ることができる。

【0435】

【化97】

【0436】

ホウ素化の一般手順
窒素雰囲気のグローブボックス中、磁気撹拌子を含有する２０ｍＬのバイアルにＢ_２Ｐｉｎ_２（１４０ｍｇ、０．５５ｍｍｏｌ）を秤量した。２個の個別の試験管に［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（６．６ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）および４，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ジピリジル配位子（５．４ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）を秤量し、各々をＴＨＦ（２ｍＬ）により希釈した。Ｂ_２Ｐｉｎ_２を含有する２０ｍＬのバイアルに、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２溶液を移した。黄金色の濁りのない溶液が得られるまで、この混合物を撹拌した。配位子を含有する溶液をこのバイアルに移し、暗褐色の溶液になるまで、この混合物を撹拌した。このバイアルに基質（１ｍｍｏｌ）を加え、次に、密封した。この反応混合物を室温で２４時間、撹拌し、この後、このバイアルをグローブボックスから取り出した。１０：１ヘキサン／ＥｔＯＡｃ溶液（２×１０ｍＬ）により溶出したシリカの短いプラグに反応混合物を通した。揮発物をロータリーエバポレーションにより除去すると生成物が得られ、標準的方法を使用して、この生成物を特性決定した。

【0437】

水素化脱ハロゲン化の一般手順
オーブンで乾燥した丸底フラスコに、上記の方法を使用して調製したホウ素化アレーン（０．３６８ｇ、１ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）_２（０．０１１ｇ、０．０５ｍｍｏｌ）および新しく蒸留したＴＨＦ（５ｍＬ）を投入した。セプタムを用いてこの丸底フラスコを密封し、窒素でフラッシュした。フラッシュしている間に、ＫＦ（０．１１６ｇ、２ｍｍｏｌ）の脱気した水（２ｍＬ）をシリンジにより導入した。窒素の入り口を取り去り、窒素を充填した風船をこのフラスコに取り付けた。ポリメチルヒドロシロキサン（ＰＭＨＳ；０．２４ｍＬ、４ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下注入した。^１Ｈおよび^１９Ｆ ＮＭＲスペクトル分析により出発材料の消失が示されるまで（４時間）、この最終反応混合物を撹拌した。この反応混合物をＥｔ_２Ｏにより希釈し、層を分離した。エーテル層を６０ｍＬのシリンジ中で、セライトのプラグによりろ過した。このセライトにＥｔＯＡｃでフラッシュした。次に、揮発物をロータリーエバポレーションにより除去すると生成物が得られ、標準的方法を使用してこの生成物を特性決定した。

【0438】

４−ブロモ−１−フルオロ−２−（トリフルオロメチル）ベンゼンのタンデムホウ素化／脱ハロゲン化

【0439】

【化98】

【0440】

上記の一般手順を使用して、４−ブロモ−１−フルオロ−２−（トリフルオロメチル）ベンゼンをホウ素化した。このホウ素化反応により、生成物が無色油状物（０．２２９ｇ、６２％）として得られた。¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 8.02 (dd, J = 2.5, 3.5 Hz, 1H), 7.78 (dd, J = 2.5, 6.5 Hz, 1H), 1.36 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 162.9 (dd, J = 1.9, 259.7 Hz), 143.1 (d, J = 8.5 Hz), 132.8 (qd, J = 1.9, 4.7Hz), 121.7 (q, J = 270.3 Hz), 120.0 (qd, J = 33.1, 16.1, Hz), 116.3 (d, J = 3.5 Hz), 84.7, 24.8; ¹⁹F NMR (470MHz, CDCl₃) δ 61.9, 106.4; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 29.3 (br s).

【0441】

【化99】

【0442】

上記の一般手順を使用して、得られたホウ素化アレーンを水素化脱ハロゲン化した。水素化脱ハロゲン化反応により、脱ハロゲン化生成物が白色固体（０．２２８ｇ、７９％）として得られた。ｍｐ７６〜７７℃；¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.93 (ddd, J = 1.5, 5.5, 7.0 Hz, 1H), 7.70 (ddd, J = 1.5, 6.0, 7.5 Hz, 1H), 7.23 (dd, J = 6.5, 8.5 Hz, 1H), 1.37 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 164.0 (dd, J = 1.9, 260.3 Hz), 140.7 (d, J = 9.5 Hz), 130.8 (qd, J = 2.5, 4.7 Hz), 123.5 (d, J = 4.1 Hz), 122.7 (q, J = 271.0Hz), 118.3 (m), 84.3, 24.8; ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ 61.6, 104.2; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 29.8 (br s).

【0443】

１−ブロモ−４−フルオロ−２−（トリフルオロメチル）ベンゼンのタンデムホウ素化／脱ハロゲン化

【0444】

【化100】

【0445】

上記の一般手順を使用して、１−ブロモ−４−フルオロ−２−（トリフルオロメチル）ベンゼンを１０ｍｍｏｌスケールでホウ素化した。ホウ素化反応により、生成物が白色固体（２．６１０ｇ、７１％）として得られた。ｍｐ６６〜７７℃；¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 8.03 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 7.37 (d, J = 8.5 Hz, 1H), 1.37 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 165.4 (d, J = 253.1 Hz), 142.8 (d, J = 8.5 Hz), 134.0 (qd, J = 8.5, 32.2 Hz), 121.9 (q, J = 272.2 Hz), 115.6 (m), 113.8, 84.8, 24.8; ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ 63.5, 102.9; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 29.5 (br s).

【0446】

【化101】

【0447】

上記の一般手順を使用して、得られたホウ素化アレーンを水素化脱ハロゲン化した。この水素化脱ハロゲン化反応により、脱ハロゲン化生成物が無色油状物（０．２３２ｇ、８０％）として得られた。¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.87 (dd, J = 6.5, 6.5 Hz, 1H), 7.40 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.30 (d, J = 9.0 Hz, 1H), 1.38 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 166.7 (d, J = 251.4 Hz), 137.6 (d, J = 8.5 Hz), 135.1 (m), 123.2 (q, J = 271.2 Hz), 120.3 (m), 112.3 (m), 84.8, 24.8; ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ 63.2, 100.6; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 30.1 (br s).

【0448】

４−ブロモ−１−フルオロ−２−メトキシベンゼンのタンデムホウ素化／脱ハロゲン化

【0449】

【化102】

【0450】

上記の一般手順を使用して、４−ブロモ−１−フルオロ−２−メトキシベンゼンをホウ素化した。ホウ素化反応により、生成物が白色固体（０．２８３ｇ、８６％）として得られた。ｍｐ７９〜８０℃；¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.37 (dd, J = 2.5, 4.0 Hz, 1H), 7.14 (dd, J = 2.5, 7.5 Hz, 1H), 3.85 (s, 3H), 1.34 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 155.8 (d, J = 251.2 Hz), 148.3 (d, J = 13.2 Hz), 129.4 (d, J = 7.6 Hz), 119.6 (d, J = 2.9 Hz), 116.0 (d, J = 3.7 Hz), 84.3, 56.6, 24.8; ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ 126.6; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 29.7 (br s).

【0451】

【化103】

【0452】

上記の一般手順を使用して、得られたホウ素化アレーンを水素化脱ハロゲン化した（反応時間５時間）。この水素化脱ハロゲン化反応により、脱ハロゲン化生成物が無色油状物（０．２２８ｇ、９１％）として得られた。¹H NMR (500 MHz, アセトン-d₆) δ 7.23 (m, 2H), 7.12 (dd, J = 8.0, 7.5 Hz, 1H), 3.87 (s, 3H), 1.34 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, アセトン-d₆) δ 156.5 (d, J = 250.4 Hz), 147.7 (d, J = 12.4 Hz), 127.0 (d, J = 6.6 Hz), 123.9 (d, J = 3.9 Hz), 116.7 (d, J = 2.9 Hz), 83.7, 55.6, 24.3; ¹⁹F NMR (470 MHz, アセトン-d₆) δ 125.6; ¹¹B NMR (160 MHz, ( アセトン-d₆) δ 30.2 (br s).

【0453】

１−ブロモ−４−フルオロ−２−メトキシベンゼンのタンデムホウ素化／脱ハロゲン化

【0454】

【化104】

【0455】

上記の一般手順を使用して、１−ブロモ−４−フルオロ−２−メトキシベンゼンをホウ素化した。後処理の後、白色固体（０．３１３ｇ、９５％）が得られた。ｍｐ１０４〜１０５℃；¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.89 (d, J = 6.5 Hz, 1H), 6.61 (d, J = 11.0 Hz, 1H), 3.72 (s, 3H), 1.35 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 167.6 (d, J = 251.2 Hz), 159.5 (d, J = 11.4 Hz), 140.2 (d, J = 10.4 Hz), 108.3 (d, J = 22.7 Hz), 105.9 (d, J = 2.9 Hz), 83.9, 56.4, 24.8; ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ 100.4; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 29.5 (br s).

【0456】

【化105】

【0457】

上記の一般手順を使用して、得られたホウ素化アレーンを水素化脱ハロゲン化した（反応時間５時間）。この水素化脱ハロゲン化反応により、脱ハロゲン化生成物が無色油状物（０．１５２ｇ、６１％）として得られた。¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.66 (dd, J = 7.5, 7.5 Hz, 1H), 6.70 (dd, J = 2.5, 8.0 Hz, 1H), 6.58 (dd, J = 2.5, 12.0 Hz, 1H), 3.83 (s, 3H), 1.36 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 168.6 (d, J = 249.4 Hz), 163.9 (d, J = 11.2 Hz), 137.7 (d, J = 10.5 Hz), 109.9 (d, J = 2.9 Hz), 101.1 (d, J = 27.5 Hz), 83.6, 55.4, 24.8; ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ 100.5; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 29.9 (br s).

【0458】

４−クロロ−１−フルオロ−２−メチルベンゼンのタンデムホウ素化／脱ハロゲン化

【0459】

【化106】

【0460】

上記の一般手順を使用して、４−クロロ−１−フルオロ−２−メチルベンゼンをホウ素化した。後処理の後、白色固体が得られた（０．１７３ｇ、６４％）。ｍｐ６４〜６５℃；¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.49 (dd, J = 3.0, 6.5 Hz, 1H), 7.22 (dd, J = 2.0, 6.5 Hz, 1H), 2.23 (d, J = 2.0 Hz, 3H), 1.34 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 163.9 (d, J = 247.5 Hz), 134.2 (d, J = 5.7 Hz), 133.4 (d, J = 8.5 Hz), 128.4 (d, J = 2.9 Hz), 126.6 (d, J = 21.9 Hz), 84.1, 24.7, 14.5 (d, J = 3.9 Hz); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ 109.9; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 29.8 (br s).

【0461】

【化107】

【0462】

上記の一般手順を使用して、得られたホウ素化アレーンを水素化脱ハロゲン化した（反応時間５時間）。この水素化脱ハロゲン化反応により無色油状物（０．２１１ｇ、８９％）が得られた。¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.56 (ddd, J = 1.5, 5.0, 7.5 Hz, 1H), 7.29 (ddd, J = 1.0, 6.0, 7.0 Hz, 1H), 7.04 (dd, J = 7.5, 7.5 Hz, 1H), 2.28 (d, J = 2.5 Hz, 3H), 1.37 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 165.6 (d, J = 248.4 Hz), 134.7 (d, J = 5.6 Hz), 134.1 (d, J = 8.6 Hz), 124.6 (d, J = 19.8 Hz), 123.4 (d, J = 2.9 Hz), 83.8, 24.8, 14.6; ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ 106.9; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 30.4 (br s).

【0463】

１−クロロ−４−フルオロ−２−メチルベンゼンのタンデムホウ素化／脱ハロゲン化

【0464】

【化108】

【0465】

上記の一般手順を使用して、１−クロロ−４−フルオロ−２−メチルベンゼンをホウ素化した。後処理の後、白色固体（２．３８ｇ、８８％）が得られた。ｍｐ４８〜４９℃；¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.66 (d, J = 5.5 Hz, 1H), 6.91 (d, J = 9.5 Hz, 1H), 2.35 (s, 3H), 1.34 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 165.4 (d, J = 249.4 Hz), 141.7 (d, J = 9.5 Hz), 136.5 (d, J = 8.5 Hz), 129.1 (d, J = 2.9 Hz), 117.7 (d, J = 25.6 Hz), 84.1, 24.7, 20.4 (d, J = 1.9 Hz); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ 106.5; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 29.8 (br s).

【0466】

【化109】

【0467】

上記の一般手順を使用して、得られたホウ素化アレーンを水素化脱ハロゲン化した（反応時間５時間）。この水素化脱ハロゲン化反応により白色固体（０．１８９ｇ、８０％）が得られた。ｍｐ５８〜６０℃；¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.63 (dd, J = 7.0, 7.5 Hz, 1H), 6.96 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 6.86 (d, J = 10.5 Hz, 1H), 2.37 (s. 3H), 1.37 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 167.3 (d, J = 249.4 Hz), 144.4 (d, J = 8.5 Hz), 136.6 (d, J = 8.6 Hz), 124.5 (d, J = 2.9 Hz), 115.8 (d, J = 23.7 Hz), 83.7, 24.8, 21.5; ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ 103.8; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 30.3 (br s).

【0468】

４−ブロモ−１，２−ジフルオロベンゼンのタンデムホウ素化／脱ハロゲン化

【0469】

【化110】

【0470】

上記の一般手順を使用して、４−ブロモ−１，２−ジフルオロベンゼンをホウ素化した。後処理の後、白色固体（０．２７４ｇ、８６％）が得られた。ｍｐ４１〜４２℃；¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.57 (ddd, J = 2.0, 4.0, 5.0 Hz, 1H), 7.37 (ddd, J = 2.5, 7.0, 9.0 Hz, 1H), 1.34 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 153.7 (dd, J = 11.4, 252.2 Hz), 150.3 (dd, J = 16.1, 253.2 Hz), 133.7 (dd, J = 4.0, 7.0 Hz), 123.4 (d, J = 20.0 Hz), 115.6 (dd, J = 4.0, 7.0 Hz), 84.6, 24.7; ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ 130.0, 134.9; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 29.3 (br s).

【0471】

【化111】

【0472】

上記の一般手順を使用して、得られたホウ素化アレーンを水素化脱ハロゲン化した（反応時間５時間）。この水素化脱ハロゲン化反応により無色油状物（０．１５１ｇ、６３％）が得られた。¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.45 (m, 1H), 7.23 (m, 1H), 7.06 (m, 1H), 1.36 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 154.6 (dd, J = 11.5, 251.5 Hz), 150.5 (dd, J = 14.3, 247.6 Hz), 131.1 (dd, J = 3.7, 6.6 Hz), 124.1(dd, J = 3.9, 5.7 Hz), 120.2 (d, J = 17.1 Hz), 84.2, 24.8; ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ 129.1, 139.1; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 29.8 (br s).

【0473】

１−ブロモ−４−フルオロ−２−メトキシベンゼンのワンポットホウ素化／脱ハロゲン化
ワンポットホウ素化／脱ハロゲン化方法も検討した。以下のスキームは、検討した１つの（one）ホウ素化／脱ハロゲン化方法を例示している。

【0474】

【化112】

【0475】

上記の一般手順を使用して、１−ブロモ−４−フルオロ−２−メトキシベンゼンをホウ素化した。ＮＭＲ分光法により判断したところ、２４時間後にホウ素化反応が完了した。反応容器を窒素雰囲気のグローブボックスに移し、この反応溶液をオーブンで乾燥した丸底フラスコに移した。ゴム製セプタムを使用してこのフラスコを密封し、グローブボックスから取り出した。

【0476】

粗製反応混合物に、上記の一般的な水素化脱ハロゲン化手順（反応時間２４時間）を施した。この反応混合物をＥｔ_２Ｏにより希釈し、層を分離した。エーテル層をシリカゲルのプラグによりろ過した。シリカゲルにヘキサン（２×１０ｍＬ）およびヘキサン／ＥｔＯＡｃ混合物（１０ｍＬ）でフラッシュした。溶出した溶液をロータリーエバポレーションにより濃縮した。得られた溶液を別のシリカゲルのプラグによりろ過した。プラグをヘキサン（４×１０ｍＬ）でフラッシュし、最後の微量のホウ素およびＰｄの副生成物を除去した。揮発物をロータリーエバポレーションにより除去すると、明オレンジ色油状物（０．１５９７ｇ、６３％）が得られた。¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.66 (dd, J = 7.5, 7.5 Hz, 1H), 6.70 (dd, J = 2.5, 8.0 Hz, 1H), 6.58 (dd, J = 2.5, 11.5 Hz, 1H), 3.82 (s, 3H), 1.36 (s, 12H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 168.6 (d, J = 249.4 Hz), 163.9 (d, J = 11.4 Hz), 137.7 (d, J = 10.4 Hz), 109.9 (d, J = 2.9 Hz), 101.1 (d, J = 27.5 Hz), 83.6, 55.4, 24.8; ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ 100.4; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 29.9 (br s).

【実施例4】

【0477】

ピリジンのホウ素化
ピリジンのホウ素化の一般手順
置換ピリジンのイリジウム触媒によるホウ素化を検討した。［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）およびｄｔｂｐｙ（２．７ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）を含む、オーブンにより乾燥した３ｍＬのスクリューキャップ付きＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルを、窒素を満たしたグローブボックス内に入れた。ＴＨＦ（１．０〜１．５ｍＬ）、続いてＢ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）およびピリジン基質（０．５または１．０ｍｍｏｌ）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスの外で８０℃で１８〜２２時間、加熱した。次に、ＧＣおよび／またはＮＭＲ分析を行うため、アリコートを採取した。生成物の単離は、フラッシュカラムクロマトグラフィーにより実施した。

【0478】

２，６−ジクロロピリジンのホウ素化

【0479】

【化113】

【0480】

［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）およびｄｔｂｐｙ（２．７ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）を含む、オーブンにより乾燥した３ｍＬのスクリューキャップ付きＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルを、窒素を満たしたグローブボックス内に入れた。ＴＨＦ（１．５ｍＬ）、続いてＢ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）および２，６−ジクロロピリジン（１４７ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。バイアルに栓をして、グローブボックスの外で８０℃で１９時間、加熱した。反応溶媒をロータリーエバポレーター上で除去し、溶離液としてヘキサン−ＥｔＯＡｃ混合物を使用するフラッシュカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製すると、２，６−ジクロロ−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジンが白色固体（１６０ｍｇ、５８％）として得られた。¹H NMR (300 MHz, CDCl₃) δ 7.57 (s, 1H), 1.33 (s, 12H).

【0481】

２−メトキシピリジンのホウ素化

【0482】

【化114】

【0483】

［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）およびｄｔｂｐｙ（２．７ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）を含む、オーブンにより乾燥した３ｍＬのスクリューキャップ付きＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルを、窒素を満たしたグローブボックス内に入れた。ＴＨＦ（１．５ｍＬ）、続いてＢ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）および２−メトキシピリジン（１０５μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスの外で８０℃で１９時間、加熱した。反応溶媒をロータリーエバポレーター上で除去し、溶離液としてヘキサン−ＥｔＯＡｃ混合物を使用するフラッシュカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製すると、４−および５−Ｂｐｉｎ異性体である２−メトキシ−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジンと２−メトキシ−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジンとの１：１．４混合物が無色油状物（１５３ｍｇ、６７％）として得られた。¹H NMR (300 MHz, CDCl₃) δ 8.55 (s, 1H, H_d), 8.18 (d, J= 5.1 Hz, 1H, H_a), 7.95 (dd, J= 8.4, 1.8 Hz, 1H, H_e), 7.25-7.12 (m, 2H, H_bおよびH_c), 6.73 (d, J= 8.4 Hz, 1H, H_f), 3.99 (s, 3H, 5-Bpin異性体), 3.96 (s, 3H, 4-Bpin異性体), 1.32 (s, 12H, 4-Bpin異性体), 1.31 (s, 12H, 5-Bpin異性体).

【0484】

２−フルオロ−６−メチルピリジンのホウ素化

【0485】

【化115】

【0486】

［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）およびｄｔｂｐｙ（２．７ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）を含む、オーブンにより乾燥した３ｍＬのスクリューキャップ付きＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルを、窒素を満たしたグローブボックス内に入れた。ＴＨＦ（１．５ｍＬ）、続いてＢ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）および２−フルオロ−６−メチルピリジン（１０３μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスの外で８０℃で１８時間、加熱した。粗製反応混合物の^１９Ｆ ＮＭＲ分析により、出発材料の転化率が７８％、および化合物の３−Ｂｐｉｎ：４−Ｂｐｉｎが１：１．８の比で形成していることが示された。反応溶媒をロータリーエバポレーター上で除去し、溶離液としてペンタン−ＥｔＯＡｃ混合物を使用するフラッシュカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製すると、３−および４−Ｂｐｉｎ異性体である２−フルオロ−６−メチル−３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジンおよび２−フルオロ−６−メチル−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジンとの１：３混合物が無色油状物（１７７ｍｇ、７５％）として得られた。¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 8.04 (dd, J = 8.1, 7.8 Hz, 1H, H_a), 7.36 (d, J = 2.3 Hz, 1H, H_c), 7.07-7.06 (s, 1H, H_d), 7.02 (dd, J = 7.8, 2.2 Hz, 1H, H_b), 2.50 (s, 3H, 3-Bpin異性体), 2.49 (s, 3H, 4-Bpin異性体), 1.34 (s, 12H, 両異性体); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ -58.43 (d, J= 8.1 Hz, 3-Bpin異性体), -69.80 (4-Bpin異性体).

【0487】

４−アミノ−２−メチルピリジンのホウ素化

【0488】

【化116】

【0489】

４−アミノ−２−メチルピリジン（５４ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、次いでＴＨＦ（１．０ｍＬ）およびＨＢｐｉｎ（７３μＬ、０．５ｍｍｏｌ）を含む、オーブンにより乾燥した３ｍＬのスクリューキャップ付きＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルを、窒素を満たしたグローブボックス内に入れた。ゆっくりとしたガスの発生、および白色沈殿物の形成が観察された。この反応混合物を３０分間、撹拌した。［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、ｄｔｂｐｙ（２．７ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）、およびＢ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加えた。試験管をＴＨＦ（０．５ｍＬ）によりすすぎ、この溶液を上記の混合物に加えた。バイアルに栓をして、グローブボックスの外で８０℃で２２時間、加熱した。この反応混合物に、メチルアルコール（ＭｅＯＨ；３ｍＬ）をゆっくりと滴下添加し、得られた溶液を室温で３時間、撹拌した。この溶媒をロータリーエバポレーションにより除去し、ＧＣおよび^１Ｈ ＮＭＲ分光法による分析により、出発材料が、４−アミノ−２−メチル−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジンに完全に転化していることが示された。

【0490】

２−クロロ−４−トリフルオロメチルピリジンのホウ素化

【0491】

【化117】

【0492】

［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）およびｄｔｂｐｙ（２．７ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）を含む、オーブンにより乾燥した３ｍＬのスクリューキャップ付きＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルを、窒素を満たしたグローブボックス内に入れた。ＴＨＦ（１．０ｍＬ）、続いてＢ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）および２−クロロ−４−トリフルオロメチルピリジン（６４μＬ、０．５ｍｍｏｌ）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスの外で８０℃で１８時間、加熱した。反応溶媒をロータリーエバポレーションにより除去した。溶離液としてペンタン−ＥｔＯＡｃ混合物を使用するフラッシュカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製すると、２−クロロ−６−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）−４−トリフルオロメチルピリジンが無色油状物として得られ、経時的に固化した（１４５ｍｇ、９４％）。¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.96 (s, 1H), 7.59 (s, 1H), 1.40 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ -64.75。この構造は、メタノール−ｄ_４中、この化合物に［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（２ｍｏｌ％）を用いて８０℃で重水素化脱ホウ素化を施すことにより確認した。

【0493】

２−クロロ−４−フルオロピリジンのホウ素化
［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）およびｄｔｂｐｙ（２．７ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）を含む、オーブンにより乾燥した３ｍＬのスクリューキャップ付きＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルを、窒素を満たしたグローブボックス内に入れた。ＴＨＦ（１．５ｍＬ）、続いてＢ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）および２−クロロ−４−フルオロピリジン（９０μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスの外で８０℃で２０時間、加熱した。反応溶媒をロータリーエバポレーションにより除去した。溶離液としてペンタン−ＥｔＯＡｃ混合物を使用するフラッシュカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製すると、２−クロロ−４−フルオロ−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジンが無色油状物（１６５ｍｇ、６４％）として得られた。¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 8.67 (d, J = 8.9 Hz, 1H), 7.06 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 1.36 (s, 12H); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ -89.75- -89.85 (m)。この構造は、メタノール−ｄ_４中、この化合物に［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（２ｍｏｌ％）を用いて８０℃で重水素化脱ホウ素化を施すことにより確認した。

【0494】

２−クロロ−３−フルオロピリジンのホウ素化
［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）およびｄｔｂｐｙ（２．７ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）を含む、オーブンにより乾燥した３ｍＬのスクリューキャップ付きＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルを、窒素を満たしたグローブボックス内に入れた。ＴＨＦ（１．０ｍＬ）、続いてＢ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）および２−クロロ−３−フルオロピリジン（６６ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスの外で８０℃で１８時間、加熱した。粗製反応混合物の^１９Ｆ ＮＭＲ分析により、出発材料の完全な転化、および化合物の４−Ｂｐｉｎ：５−Ｂｐｉｎ：４，６−ジＢｐｉｎが３．６：２．０：１．０の比で形成していることが示された。反応溶媒をロータリーエバポレーションにより除去した。溶離液としてペンタン−ＥｔＯＡｃ混合物を使用するフラッシュカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製すると、４−および５−Ｂｐｉｎ異性体である２−クロロ−３−フルオロ−４−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジンおよび２−クロロ−３−フルオロ−５−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ピリジンとの１：１混合物（^１９Ｆ ＮＭＲによる）が無色油状物（８２ｍｇ、３２％）として得られた。¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 8.52 (s, 1H, H_c), 8.22 (d, J = 4.4 Hz, 1H, H_a), 7.81 (dd, J = 8.3, 1.4 Hz, 1H, H_d), 7.54 (dd, J = 4.4, 4.4 Hz, 1H, H_b), 1.38 (s, 12H, 4-Bpinまたは5-Bpin異性体), 1.36 (s, 12H, 4-Bpinまたは5-Bpin異性体); ¹⁹F NMR (470 MHz, CDCl₃) δ -109.38 (4-Bpin異性体), -120.30 (d, J = 8.3Hz, 5-Bpin異性体).

【0495】

３−ブロモ−５−フルオロピリジンのホウ素化
［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）およびｄｔｂｐｙ（２．７ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）を含む、オーブンにより乾燥した３ｍＬのスクリューキャップ付きＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルを、窒素を満たしたグローブボックス内に入れた。ＴＨＦ（１．０ｍＬ）、続いてＢ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）および３−ブロモ−５−フルオロピリジン（８８ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスの外で８０℃で２２時間、加熱した。^１９Ｆ ＮＭＲ分光法によって、粗製反応混合物から１６％の転化率が検出された。

【実施例5】

【0496】

単座のピリジン配位子を使用する、指向型Ｃ−Ｈ活性化によるホウ素化
指向性基により置換されているアレーンを含む、アレーンのホウ素化における、配位子の可能性としての単座ピリジンを検討した。アレーンのホウ素化反応において提案されている中間体に基づいた評価を行うため、ピリジンを選択した。イリジウム触媒および二座配位子の存在下での非指向型ホウ素化の間、金属中心は二座のピリジン配位子によって配位されており、こうして、基質が結合してＣ−Ｈ活性化のステップを受けるための開放した配位部位が１つ残される。ピリジン配位子などの単座配位子が使用される場合、金属中心にさらに空の配位部位が利用可能となる。以下に示されている通り、基質が金属中心に結合することができる基を有する場合、この基へのオルトＣ−Ｈ結合の活性化が起こり得る。

【0497】

【化118】

【0498】

以下のスキームにおいて、適度に好適なモノピリジン配位子により、中間体４よりも１４電子中間体である３の方が有利となり、こうして、指向型ホウ素化が可能になると仮説をたてた。特に、電子が不足しているかまたは立体障害のあるピリジンが候補となる可能性が高いと考えられる。

【0499】

【化119】

【0500】

まず、カルボニル含有基質に関してピリジン配位子を評価した。アセトフェノンをモデル基質として選んだ。アセトフェノンのホウ素化に関するピリジン配位子のスクリーニングを、ＴＨＦ中、１ｍｏｌ％［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２、２ｍｏｌ％ピリジン配位子、Ｂ_２ｐｉｎ_２１当量（ｅｑｕｉｖ）、およびケトン２当量を使用し、８０℃で行った（表３）。

【0501】

【表3】

【0502】

ピリジン環上の置換基の位置は、反応結果における重要な役割を果たした。良好な転化率と優れた位置選択性の両方をもたらす最良の配位子は、３，５−ジ（トリフルオロメチル）ピリジンであった（表３、エントリー１）。残念なことに、このピリジン配位子の価格は２５０ｍｇあたり＄４９と高価である。ホウ素化反応は、アルドール縮合の副生成物が形成した。ピリジンの２位にＣＦ_３基を導入すると反応が減速し、位置選択性が低下した（表３のエントリー１と２とを比較されたい）。しかし、４位にＣＦ_３基が配置されると転化率が改善され、位置選択性が中程度となった（表３のエントリー２と３とを比較されたい）。２位におけるフッ素またはメトキシなどのより小さな置換基により、−ＣＦ_３基と比べて、優れた転化率がもたらされるが、選択性はかなり低いものであった。興味深いことに、ピリジンの２位および６位に置換基を配置すると、位置選択性がかなり向上した。置換基の立体的なかさ高さによって、転化率は影響を受けた（表３のエントリー６、７および８を比較されたい）。過剰のホウ素試薬により、反応結果は劇的に改善された。アルドール縮合生成物は検出されず、オルトホウ素化生成物だけが観察された。

【0503】

次に、予備的な適用範囲の検討をケトンについて実施した。様々なアルキルおよびアリールケトンが首尾よくホウ素化された。支持配位子として２−メトキシピリジンを使用して実施した、イリジウム触媒によるシクロプロピルフェニルケトンのホウ素化により、オルトホウ素化生成物が５０％収率で得られた。３，５−ジフルオロアセトフェノンのホウ素化は、４−トリフルオロピリジンを配位子として使用すると、円滑に進行した。１６：１の比のオルト：パラホウ素化生成物を伴って、４７％の転化率がＧＣにより検出された。収率は最適化されておらず、ｄｔｂｐｙを配位子として使用した場合、両フッ素置換基の間の４位にホウ素化が起こることに留意すべきである。

【0504】

【化120】

【0505】

他のカルボニル含有基質を使用して、配位子の最適化検討を行った。３，５−ジ（トリフルオロメチル）ピリジンを配位子として使用した場合、安息香酸メチルは、許容できるオルト選択性（ｏ／（ｍ＋ｐ）＝１１．７：１）および良好な転化率を与えた。２−ＣＦ_３および４−ＣＦ_３置換ピリジンは、位置選択性に乏しかった。興味深いことに、２−メトキシピリジンを使用すると、非常に良好なオルト選択性（ｏ／（ｍ＋ｐ）＝１０．４：１）が得られた。Ａｌｄｒｉｃｈにおける２−メトキシピリジンの価格は、２５グラムあたり＄２９．７０であり、配位子として非常に魅力的な選択肢になる。比較すると、二座配位子ｄｔｂｐｙを使用すると、安息香酸メチルは、メタおよびパラ位においてもっぱらホウ素化され、オルトホウ素化生成物は検出されなかった。さらに、２−メトキシピリジンを支持配位子として使用した場合、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミドは良好な転化率および優れたオルト選択性を実現した。他の単座のピリジン配位子では、ベンズアミドのホウ素化は起こらないか、または低い転化率が得られた。これらの結果より、ある種の二座および単座のピリジン配位子を使用すると、反応結果に明確な差異があることが示唆される。

【0506】

指向性基が存在しない場合、単座のピリジン配位子はやはり、フッ素のオルトホウ素化の選択性を改善し得ると仮説をたてた。この仮説を評価するために、２−メトキシピリジンを使用する３−フルオロトルエンのホウ素化を検討し、２−（アミノメチル）ピリジンおよびｄｔｂｐｙを使用して実施したホウ素化と比較した。表４に示されている通り、配位子として２−メトキシピリジンを使用すると、優れた結果が得られた。異性体の比は４．７：１に改善され、フッ素置換基のオルトホウ素化が優先した。比較すると、二座のｄｔｂｐｙを配位子として使用すると、１；１の異性体比が検出された。

【0507】

【表4】

【0508】

この一式の配位子をやはり、１−クロロ−２，３−ジフルオロベンゼンのホウ素化において調査した。２−（アミノメチル）ピリジンを配位子として使用すると、良好な転化率および良好な選択性が得られ、フッ素置換基のオルトホウ素化が有利となった（表５）。同じ配位子を使用した場合、溶媒をＴＨＦからヘキサンに変更すると、選択性がわずかに改善された。この配位子は市販されている（Ａｌｄｒｉｃｈ、２５グラムあたり＄６０．９）。さらに、２−メトキシピリジン配位子を使用した場合、３．３：１の比のホウ素化生成物が検出された。他のモノおよびジホウ素化生成物が観察され、この基質の総転化率は、^１９Ｆ ＮＭＲ分析により決定すると、８５％であった。興味深いことに、上記の両方の配位子が、ｂｔｆｂｐｙビピリジン配位子よりも優れており、後者の配位子は、ＴＨＦ中で２．５：１の比のホウ素化生成物を与えた（表５）。このビピリジン配位子は市販されていない。しかし、２−クロロ−４−（トリフルオロメチル）ピリジン（Ｏａｋｗｏｏｄ Ｃｈｅｍｉｃａｌ、２５グラムあたり＄１１０）から１ステップ合成で調製することができる。

【0509】

【表5】

【0510】

重要なことに、以下のスキームにまとめられている通り、これらの方法は、他のホウ素化反応を、代替の配位子を利用して補うものである。

【0511】

【化121】

【0512】

実験方法
アセトフェノンのホウ素化の一般手順
窒素を満たしたグローブボックス中、３ｍＬのＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルに、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）およびＢ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、続いてＴＨＦ（１．５ｍＬ）を投入した。得られた溶液に、アセトフェノン（１１６μＬ、１．０ｍｍｏｌ）およびピリジン配位子（０．０１ｍｍｏｌ、２ｍｏｌ％）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスから取り出した。この反応混合物を８０℃で１５時間、加熱した。この反応混合物を室温まで冷却し、空気に開放してＧＣ分析のために試料を採取した。この結果を上の表３に示している。総転化率とは、アセトフェノンの総転化率に相当する。

【0513】

３−フルオロトルエンのホウ素化における、配位子検討の一般手順
窒素を満たしたグローブボックス中、３ｍＬのＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルに、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）、Ｂ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）およびｄｔｂｐｙ（２．７ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ、２ｍｏｌ％）、続いてヘキサン（１．５ｍＬ）を投入した。２−（アミノメチル）ピリジン（１．０μＬ、０．０１ｍｍｏｌ、２ｍｏｌ％）の場合、これは最後に加えた。得られた溶液に、３−フルオロトルエン（１１１μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスから取り出した。この反応混合物を７０℃で１５時間、加熱した。反応混合物を室温まで冷却し、空気に開放してＧＣ分析のために試料を採取した。この結果を上の表４に示している。

【0514】

２−メトキシピリジンを配位子として使用した場合、代替手順を用いた。窒素を満たしたグローブボックス中、３ｍＬのＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルに、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（６．６ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）およびＢ_２ｐｉｎ_２（２５４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）、続いてＴＨＦ（１．５ｍＬ）を投入した。得られた溶液に、３−フルオロトルエン（１１１μＬ、１．０ｍｍｏｌ）、次いで２−メトキシピリジン（２．１μＬ、０．０２ｍｍｏｌ、２ｍｏｌ％）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスから取り出した。この反応混合物を８０℃で２４時間、加熱した。この反応混合物を室温まで冷却し、空気に開放してＮＭＲ分析のために試料を採取した。

【0515】

１−クロロ−２，３−ジフルオロベンゼンのホウ素化の一般手順
窒素を満たしたグローブボックス中、３ｍＬのＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルに、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）およびＢ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。試験管に１−クロロ−２，３−ジフルオロベンゼン（１４８ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）を秤量し、適切な溶媒（１．５ｍＬ）を有する反応用バイアルに移した。次に、この反応混合物に２−（アミノメチル）ピリジン（１．０μＬ、０．０１ｍｍｏｌ、２ｍｏｌ％）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスから取り出した。この反応混合物を５０℃で１６時間、加熱した。反応混合物を室温まで冷却し、空気に開放してＧＣおよびＮＭＲ分析のために試料を採取した。この結果を上の表５に示している。

【0516】

シクロプロピルフェニルケトンのホウ素化
窒素を満たしたグローブボックス中、３ｍＬのＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルに、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（６．６ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）およびＢ_２ｐｉｎ_２（２５４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）、続いてＴＨＦ（１．５ｍＬ）を投入した。得られた溶液に、シクロプロピルフェニルケトン（１３８μＬ、１．０ｍｍｏｌ）および２−メトキシピリジン（２．１μＬ、０．０１ｍｍｏｌ、２ｍｏｌ％）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスから取り出した。この反応混合物を８０℃で１６時間、加熱した。溶媒をロータリーエバポレーションにより濃縮し、溶離液としてＥｔＯＡｃ−ペンタンを使用するフラッシュクロマトグラフィーによって油状残渣を精製した。シクロプロピル（２−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）フェニル）ケトンが白色固体（５３％）として得られた。¹H NMR (500 MHz, CDCl₃) δ 7.97 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.54-7.50 (m, 2H), 7.47-7.42 (m, 1H), 2.67-2.61 (m, 1H), 1.40 (s, 12H), 1.31-1.27 (m, 2H), 1.09-1.04 (m, 2H); ¹³C NMR (125 MHz, CDCl₃) δ 202.4, 141.9, 132.5, 132.2, 129.0, 127.6, 83.8, 25.1, 16.7, 12.4; ¹¹B NMR (160 MHz, CDCl₃) δ 30.8.

【0517】

３’，５’−ジフルオロアセトフェノンのホウ素化
窒素を満たしたグローブボックス中、３ｍＬのＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルに、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）およびＢ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、続いてＴＨＦ（１．５ｍＬ）を投入した。得られた溶液に、３’，５’−ジフルオロアセトフェノン（１５６ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）および４−トリフルオロメチルピリジン（１．１μＬ、０．０１ｍｍｏｌ、２ｍｏｌ％）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスから取り出した。この反応混合物を８０℃で１９時間、加熱した。溶媒をロータリーエバポレーションにより濃縮し、溶離液としてＥｔ_２Ｏ−ペンタンの混合物を使用するフラッシュクロマトグラフィーによって油状残渣を精製した。ペンタンから再結晶すると、１−アセチル−３，５−ジフルオロ−２−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン−２−イル）ベンゼンが白色結晶（３４％）として得られた。¹H NMR (300 MHz, CDCl₃) δ 7.33 (ddd, J = 8.4, 2.1, 0.4 Hz, 1H), 6.96 (ddd, J = 8.5, 8.0, 2.1 Hz, 1H), 2.56 (s, 3H), 1.42 (s, 12H); ¹⁹F NMR (283 MHz, CDCl₃) δ -101.18, -108.04.

【0518】

Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミドのホウ素化
窒素を満たしたグローブボックス中、３ｍＬのＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルに、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ、０．５ｍｏｌ％）、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンズアミド（１４９ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）およびＢ_２ｐｉｎ_２（２５４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）、続いてＴＨＦ（１．５ｍＬ）を投入した。得られた溶液に、２−メトキシピリジン（１．１μＬ、０．０１ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスから取り出した。得られた混合物を１１０℃で１７時間、加熱した。この反応混合物を室温まで冷却し、空気に開放してＧＣおよびＮＭＲ分析のために試料を採取した。ＧＣ分析により、オルトホウ素化生成物への転化率は８４％であり、他のホウ素化異性体はわずか微量であった。反応混合物の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおける共鳴は、文献で見いだされる、オルトホウ素化ベンズアミドのそれに一致する。

【0519】

安息香酸メチルのホウ素化を使用する、さらなる配位子のスクリーニング
窒素を満たしたグローブボックス中、３ｍＬのＷｈｅａｔｏｎ（登録商標）バイアルに、［Ｉｒ（ＯＭｅ）ｃｏｄ］_２（３．３ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ、１ｍｏｌ％）およびＢ_２ｐｉｎ_２（１２７ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）を投入した。このバイアルにＴＨＦ（１．５ｍＬ）、続いて安息香酸メチル（１２４μＬ、１．０ｍｍｏｌ）を加えた。適切なピリジン配位子（０．０１ｍｍｏｌ、２ｍｏｌ％）を加えた。ｄｔｂｐｙを配位子として使用した場合、これをバイアル中で秤量した後、溶媒を加えた。このバイアルに栓をして、グローブボックスから取り出した。この反応混合物を８０℃で１８時間、加熱した。反応混合物を室温まで冷却し、ＧＣ分析のために試料を採取した。この結果を表６に示している。

【0520】

【表6】

【実施例6】

【0521】

Ｐｄ／Ｃおよびギ酸アンモニウムを使用するワンポットホウ素化および水素化脱ハロゲン化
電子吸引基により置換されているアレーンのオルト−ホウ素化に関する戦略として、タンデムホウ素化／脱ハロゲン化を上で検討した。上で議論した通り、電子吸引基により置換されているアレーンの場合、イリジウム触媒によるアレーンのＣ−Ｈ活性化−ホウ素化は、通常、立体効果によって支配される。上記のタンデムホウ素化／脱ハロゲン化方法では、基質は、電子吸引基、およびこの電子吸引基に対して普通なら立体的に有利なメタ位におけるイリジウム触媒の攻撃を妨害するよう、電子吸引基のパラ位に配置されている犠牲的原子（例えば、ＣｌまたはＢｒなどのハロゲン）をさらに含むことができる。結果として、イリジウム触媒によるアレーンのＣ−Ｈ活性化−ホウ素化は、オルトホウ素化された（電子的）生成物をもっぱら生成する。続く脱ハロゲン化により、所望の電子的生成物をもっぱら得ることができる。

【0522】

上で検討したタンデムホウ素化−水素化脱ハロゲン化方法は、２つの個別の反応を含み、各生成物を単離し、次のステップに持ち込んだ。水素化脱ハロゲン化方法は、Ｐｄ（ＯＡｃ）_２、水素化脱ハロゲン化試薬としてポリメチルヒドロシロキサン（ＰＭＨＳ）およびフッ化カリウム（ＫＦ）を使用した。この反応もワンポットで行うことができ、この場合、Ｃ−Ｈ活性化ホウ素化反応を行い、次に、Ｐｄ（ＯＡｃ）_２、ＰＭＨＳおよびＫＦを加えて、水素化脱ハロゲン化反応を実施すると、所望の生成物が優れた収率で得られた。

【0523】

炭素担持パラジウム（Ｐｄ／Ｃ）、および水素化脱ハロゲン化試薬としてギ酸アンモニウムを使用する、ワンポットホウ素化−水素化脱ハロゲン化方法の改善を検討した。この方法は、普通なら、入手するのが困難なホウ素化された分子を調製するために使用することができる。この方法により、いくつかの利益率の高い農業化学分子のための鍵となる中間体である、高度に官能基化されたホウ素化分子を入手するための極低温条件の必要性が回避される。この方法により、こうしたホウ素化分子を入手するための慣用的なＬｉ−Ｈ交換反応を使用して形成される潜在的に反応性の高い中間体が、やはり排除される。

【0524】

実用的な観点から、ワンポット方法により、中間体の単離、精製の時間がなくなり、廃棄物および溶媒の使用量が制御される。さらに、Ｃ−Ｈ活性化および水素化脱ハロゲン化における官能基許容性は、本方法の合成的利便性を拡張し、これにより、より広範なホウ素化アレーンの入手が潜在的に可能になる。

【0525】

結果
ワンポットホウ素化−水素化脱ハロゲン化方法の一般的な合成方法は、以下に含まれる。

【0526】

【化122】

【0527】

上のスキームにおいて詳述されている一般的なホウ素化手順は、１ｍｍｏｌの原料のアレーン（表７におけるエントリー１〜６から選択される）で実施し、反応は、ＮＭＲ分光法により判断すると、２４時間後に完了した。反応容器を窒素雰囲気のグローブボックスから取り出し、この反応溶液をオーブンで乾燥した丸底フラスコに移した。このフラスコに還流コンデンサを連結し、ここに窒素を５分間、パージした。上のスキームにおいて詳述されている一般的な水素化脱ハロゲン化手順（Ｐｄ／Ｃおよびギ酸アンモニウムを使用）を、室温で、２４時間、行った。揮発物をロータリーエバポレーションにより除去すると、反応生成物が得られた。次に、この反応生成物をＮＭＲ分光法により特性決定した。これらの結果を以下の表７に示す。

【0528】

【表7】

【0529】

添付の特許請求の範囲の組成物および方法は、本明細書に記載されている具体的な組成物および方法によって範囲が限定されることはなく、これらの具体的な組成物および方法は、特許請求の範囲のいくつかの態様の例示として意図されている。機能的に等価物となる、いかなる組成物および方法も、特許請求の範囲内に収まることが意図されている。本明細書において示され、かつ記載されているものに加え、組成物および方法の様々な修正が、添付の特許請求の範囲内に収まることが意図されている。さらに、ある種の代表的な組成物および方法ステップしか本明細書において開示されていないが、該組成物および方法ステップの別の組合せも、具体的に列挙されていない場合でさえも、添付の特許請求の範囲内に収まることがやはり意図される。したがって、ステップ、要素、構成成分または構成物の組合せが本明細書において明確に明記されているか、またはそれほど明確ではないが、ステップ、要素、構成成分、構成物の他の組合せが、明確に述べられていない場合でさえも包含されている。

【0530】

用語「含んでいる（comprising）」およびその派生語は、本明細書で使用する場合、用語「含んでいる（including）」およびその派生語と同義的に使用され、オープンな非限定用語である。「含んでいる（comprising）」および「含んでいる（including）」という用語は、本明細書では、様々な実施形態を記載するために使用されているが、「から本質的になる（consisting essentially of）」および「からなる（consisting of）」は、「含んでいる（comprising）」および「含んでいる（including）」の代わりに使用されて、本発明の一層、具体的な実施形態を提示することができ、やはり開示もされている。明記されている以外に、本明細書および特許請求の範囲において使用されている、形状、寸法などを表す数字のすべてが少なくとも理解されるべきであり、特許請求の範囲に対する等価物の原理の適用を限定しようとしているものと理解すべきではなく、有効桁数および通常の四捨五入手順に照らし合わせて解釈すべきである。

【0531】

特に定義されていない限り、本明細書において使用されているすべての技術用語および科学用語は、開示されている発明が属する分野における当業者により一般に理解されるものと同じ意味を有する。本明細書において列挙されている刊行物、およびそのために刊行物が引用されている資料は、参照により具体的に組み込まれている。