特許6436037IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

繊維状炭素ナノ構造体の製造方法に関するものである。

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

ここで、従来の技術では、触媒基材の再利用による製造コストの低減はある程度期待できると考えられる。一方で、製造される繊維状炭素ナノ構造体の品質が十分に確保できない場合があり、また更に効率良く且つ安定的に繊維状炭素ナノ構造体を製造するという観点からも改善の余地があった。 そこで、本発明は、高品質な繊維状炭素ナノ構造体を低コストで安定的に製造しうる、繊維状炭素ナノ構造体の製造方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明者は、目的を達成するために鋭意検討を行った。そして、本発明者は、繊維状炭素ナノ構造体の製造に使用した触媒基材を再利用してCVD法により繊維状炭素ナノ構造体を再度合成するに当たり、繊維状炭素ナノ構造体を主として合成する触媒基材の表面(以下、「合成主面」という。)として、再利用直前の合成に使用した合成主面とは反対側の表面を使用することで、高品質な繊維状炭素ナノ構造体を、継続して安定的に・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明によれば、高品質な繊維状炭素ナノ構造体を低コストで安定的に製造しうる、繊維状炭素ナノ構造体の製造方法を提供することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】基材を再利用しつつ繊維状炭素ナノ構造体を繰り返し合成する、本発明の繊維状炭素ナノ構造体の製造方法の一例のフローチャートである。

【図2】再利用基材の構成を模式的に示す図である。

【図3】(a)は、初期化工程を実施する前の使用済み基材の状態を模式的に示す図であり、(b)は、初期化工程を実施した後の使用済み基材の状態を模式的に示す図である。

【図4】初期化工程を実施する前の使用済み基材に対するジェット流の噴射角度を模式的に示す図である。

【図5】繊維状炭素ナノ構造体生成用触媒基材の構成を模式的に示す図である。

【図6】図5に示す繊維状炭素ナノ構造体生成用触媒基材を使用して繊維状炭素ナノ構造体を合成した後に基材から繊維状炭素ナノ構造体を剥離して得られる使用済み基材の構成を模式的に示す図である。

【図7】繊維状炭素ナノ構造体生成用触媒基材の別の構成を模式的に示す図である。

【図8】繊維状炭素ナノ構造体生産装置の一例の構成を模式的に示す図である。

【図9】繊維状炭素ナノ構造体の合成回数に対して、基材の単位面積当たりの繊維状炭素ナノ構造体合成量をプロットしたグラフである。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

10 基材   11 浸炭防止層   12,22,92 下地層   13,23,93 触媒層   14,24 不純物   20 再利用基材   100 繊維状炭素ナノ構造体製造装置   101〜103 ガス混入防止手段   110 入口パージ部   120 フォーメーションユニット   130 成長ユニット   140 冷却ユニット   150 出口パージ部   160 搬送ユニット   170〜190 接続部   200 触媒基材

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