特許6437134半導体装置用の膜を生成するための組成物、半導体装置用の膜を生成するための組成物の製造方法、半導体用部材の製造方法、半導体用工程材の製造方法及び半導体装置

発明の名称　半導体装置用の膜を生成するための組成物、半導体装置用の膜を生成するための組成物の製造方法、半導体用部材の製造方法、半導体用工程材の製造方法及び半導体装置

出願人　三井化学株式会社　（識別番号 5887）

　　　　特許公開件数ランキング 87 位（332件）（共同出願を含む）

　　　　特許取得件数ランキング 107 位（248件）（共同出願を含む）

公報番号　特許-6437134

公報発行日　2018年12月12

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6437134

知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特許-6437134「半導体装置用の膜を生成するための組成物、半導体装置用の膜を生成するための組成物の製造方法、半導体用部材の製造方法、半導体用工程材の製造方法及び半導体装置」の公報全文を閲覧することができます。

ログインはこちら　ログイン・ユーザー登録