特許6438370IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

プリント配線板の製造方法、表面処理銅箔、積層体、プリント配線板、半導体パッケージ及び電子機器

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、従来の銅箔表面のプロファイルを用いたセミアディティブ工法では、銅箔表面のプロファイルを損なうこと無く良好に樹脂基材の表面に転写すること、及び、良好なコストで当該銅箔を除去することについて、いまだ検討の余地がある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明者は鋭意検討の結果、銅箔に離型層を設けて、当該銅箔を樹脂基材に貼り合わせたときの樹脂基材の物理的な剥離を可能にすることで、銅箔を樹脂基材から除去する工程において、樹脂基材の表面に転写した銅箔表面のプロファイルを損なうこと無く、良好なコストで銅箔を除去することが可能となることを見出した。
【発明の効果】
銅箔に離型層を設けて、当該銅箔を樹脂基材に貼り合わせたときの樹脂基材の物理的な剥離を可能にすることで、銅箔を樹脂基材から除去する工程において、樹脂基材の表面に転写した銅箔表面のプロファイルを損なうこと無く、良好なコストで銅箔を除去することが可能なプリント配線板の製造方法及び表面処理銅箔を提供する。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】凸部(くびれ部がない場合とある場合)を有する銅箔の断面模式図である。

【図2】粗化粒子(ノジュール)を有する銅箔の断面模式図である。

【図3】図2の銅箔を粗化粒子側表面から樹脂基材に貼り合わせた状態の断面模式図である。

【図4】図3において銅箔を除去した後の樹脂基材表面にメッキパターンを形成した状態の断面模式図である。

【図5】本発明で形成される樹脂基材上にメッキパターンを形成した状態の断面模式図である。

【図6】銅箔のプロファイルを使用したセミアディティブ工法の概略例を示す。

【図7】サンプルのNo.58に係る表面処理銅箔の離型層側表面の顕微鏡観察写真である。

【図8】サンプルのNo.55に係る表面処理銅箔の離型層側表面の顕微鏡観察写真である。

【図9】表面処理銅箔の離型層側表面の凸部の評価方法を示すためのサンプル(銅箔)及びステージの模式図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

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