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公報発行日 2018年12月26
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【図1】1つまたは複数の実施形態による構造の典型的な図である。
【図2】図1に示された線A−A’に沿った図1の構造の正面の斜視図である。
【図3】図1に示された線B−B’に沿った図1の構造の側面の斜視図である。
【図4】1つまたは複数の実施形態によるアニール処理後の図1の構造の典型的な図である。
【図5】図4に示された線A−A’に沿った図4の構造の正面の斜視図である。
【図6】図4に示された線B−B’に沿った図4の構造の側面の斜視図である。
【図7】1つまたは複数の実施形態によるエピタキシ(エピ)層の成長/挿入後の、図4の構造の典型的な図である。
【図8】図7に示された線A−A’に沿った図7の構造の正面の斜視図である。
【図9】図7に示された線B−B’に沿った図7の構造の側面の斜視図である。
【図10】1つまたは複数の実施形態による典型的な方法のフローチャートである。
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