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特許 6444843出願番号 特願 2015-209945
基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体
出願人 東京エレクトロン株式会社（識別番号 219967）
2026年 特許公開件数ランキング 33位 457件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 27位 486件（※）
公報発行日 2018年12月26
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6444843 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
超臨界状態の流体を用いて基板の表面に付着した液体を除去する基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、ウエハの表面に付着した液体を除去するために、超臨界処理によりウエハ表面に付着した液体を除去することができ、かつウエハにおけるパターン倒壊を防止することができる基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体を提供することを目的とする。課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明は、乾燥防止用の液体で液盛りされた被処理体を超臨界処理ユニット用容器内へ搬送する工程と、前記超臨界処理ユニット用容器内へ、前記乾燥防止用の液体より低い沸点をもつ超臨界処理用流体を供給して乾燥防止用の液体と超臨界処理用流体の混合液を形成する工程と、前記超臨界処理ユニット用容器内の前記混合液を加熱して超臨界状態の流体を形成する工程とを備え、前記乾燥防止用の液体と前記超臨界処理用流体は互いに・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本実施の形態によれば、ウエハの表面に付着した液体をパターン倒壊を生じさせることなく、超臨界処理により除去することができる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】図１は液処理装置の横断平面図。
【図2】図２は液処理装置に設けられている液処理ユニットの縦断側面図。
【図3】図３は液処理装置に設けられている超臨界処理ユニットの構成図。
【図4】図４は超臨界処理ユニットの処理容器の外観斜視図。
【図5】図５は本実施の形態の倒壊結果を示す図。
【図6】図６は本実施の形態の倒壊結果を示すウエハの平面図。
選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図
Ｗ ウエハ
１ 液処理装置
２ 液処理ユニット
３ 超臨界処理ユニット
３Ａ 処理容器
５ 制御部
５ａ 記憶部
２１ アウターチャンバー
１２１ 第１の搬送機構
１６１ 第２の搬送機構
２０１ 処理液供給部
２０２ リンス液供給部
２０３ａ 第１のフッ素含有有機溶剤供給部
２０３ｂ 第２のフッ素含有有機溶剤供給部
３１１ 容器本体
３２２ ヒーター
４１４ 超臨界処理用流体供給部
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