【課題を解決するための手段】
【0011】
本発明の第1の技術的教示によると、この技術的課題は、制御ロールが圧延方向においてワークロールの圧延ギャップの上流に配置され、ストリップが制御ロールによってロールスタンドの圧延ギャップ内にパスラインに対して進入角度βで案内され、パスラインに対する制御ロールの位置決めに応じて進入角度βが選択されることによってストリップの表面構造が制御される、ストリップの圧延方法によって解決される。
【0012】
本発明による方法に使用されるロールスタンドは、第1ワークロールと第2ワークロールとを有する。本方法が実施されるとき、両ワークロールはストリップに接触する。例えば、第1ワークロールはストリップの上面に接触し、第2ワークロールはストリップの下面に接触する。この場合、これらワークロールの少なくとも一方は、構造化された表面を有する。ストリップを両ワークロールの間の圧延ギャップに通すと、ストリップの厚さが圧下され、構造化された表面を有する少なくとも一方のワークロールによって、対応する構造化された圧延パターンがストリップの表面に型押しされる。このロールスタンドによって冷間圧延パスが実施されることが好ましい。このロールスタンドでの圧延中、通常、潤滑剤が使用される。
【0013】
通常、それぞれの軸線が平行な2つのワークロールが使用される。この場合、両回転軸線は互いに上下に平行であり、両回転軸線に対して垂直に配置された両回転軸線間の接続線と共に、圧延ギャップの出口面を形成する。
【0014】
圧延対象のストリップの中立面に存在する両ワークロールの出口面に対して直角な表面は、パスラインと称される。この出口面に垂直な圧延ギャップ内にストリップが導入される場合、そのストリップはパスラインに対して進入角度β=0°を有する。このように、進入角度βは、出口面に直角な表面に対して決定される。出口面に直角な表面に対してストリップ取入れ口が傾斜している場合、進入角度βはゼロに等しくない値を有する。
【0015】
本発明によると、ストリップは制御ロールによってロールスタンドの圧延ギャップ間に案内される。このため、パスラインに対する制御ロールの位置決めによって進入角度βが変わり、これにより、ストリップに対する表面構造の転写が制御される。制御ロールの位置決めによって進入角度βを変えることは、圧延エンボス加工パスにおけるストリップの表面構造を制御するための単純かつ確実な可能性を表すことが認識されている。ロールスタンドを交換しなくとも、あるいは、ロールスタンドの前に設置された、特に進入角度βを変えるための、他の設備、例えばガイドロール、を適合化させる必要なしに、進入角度βを変えることによって所望の表面構造に関して圧延パスを調整できる。特に、特定の条件下においては、ストリップの一方の面へのエンボス加工にのみ影響を及ぼすことも可能であるので、或る程度の摩耗が生じた際の両ワークロールの交換を省けることが多い。ワークロールが摩耗しても、制御ロールによる進入角度βの調整によって圧延パターンを一様に維持できる。また、圧延セクションを変えるために、曲げ装置のない単純なワークロールを使用できる。特に、両面の表面粗さが同じストリップを製造するために、表面粗さが互いに異なる2つのワークロールを使用できる。また、位置決め可能な制御ロールによって既存の圧延機列をアップグレードでき、ひいては既存の圧延機列の使用範囲を簡単に拡張できる。
【0016】
制御ロールの位置決め、または進入角度βの変化、の技術的効果は、特に、圧延ギャップへの潤滑剤の供給の制御に基づく。潤滑剤の供給は、以下の3つの寄与によってほぼ決定される。すなわち、
− 潤滑剤を両ワークロールおよび/またはストリップの表面に積極的に結合する表面活性剤による供給、
− ワークロールおよびストリップの表面上のジオメトリ状態、特に表面粗さとその結果としての潤滑用ポケット、による供給、および
− 流体力学的供給、
である。
【0017】
流体力学的供給は、潤滑剤の供給のために優勢な寄与をなす。これは、それぞれのワークロールの表面とストリップの表面との間の接触角度に依存する。進入角度βを変えることによって、ワークロールの接触角度、ひいては潤滑剤の流体力学的供給、を変えることができる。例えば、両面に一様な圧延パターンを実現するために、および2つのワークロールのそれぞれ異なる表面構造と表面構造のそれぞれ異なる摩耗度とに対応するために、特に、進入角度を変えることによって、ストリップの上面および下面の圧延パターンに影響を及ぼすことができる。
【0018】
したがって、ストリップの上面および下面への、ひいては更に圧延パターンへの、ロールスタンドにおける潤滑剤の供給は、パスラインに対する制御ロールの対応する位置決めによって直接影響が及ぼされ得る。
【0019】
第1の実施形態によると、進入角度αは±2αの調整範囲内に設定されることが好ましい。ここで、αは、所与の圧延パスにおけるワークロール(2、4)の噛み込み角度である。
α=arccos[1−(Δh/D
W)]
式中、Δhは圧延前のストリップの厚さと圧延後のストリップの厚さの単位mmの差であり(パス圧下)、D
Wはワークロール(2、4)の単位mmの直径である。角度βのために相応に制限された調整範囲を使用すると、一方では、関連する角度範囲をカバーし、他方では、この範囲内の角度の超微細な調整の実現を可能にする。
【0020】
この噛み込み角度αを超える進入角度βでストリップが給送されると、このストリップは、圧延ギャップ内で変形される前に、それぞれのワークロールの表面に既に接線方向に接している。したがって、本発明による方法の好適な一実施形態においては、一方のワークロールの噛み込み角度α=arccos[1−(Δh/D
W)]より大きい進入角度βが選択される。式中、Δhは、圧延前のストリップの厚さと圧延後のストリップの厚さの単位mmの差であり(パス圧下)、D
Wは、当該ワークロールの単位mmの直径である。特に圧延エンボス加工中、通常、より小さなパス圧下Δhがもたらされ、その結果、噛み込み角度αが相応に小さくなる。
【0021】
噛み込み角度αより大きい進入角度βで一方のワークロールが作動される場合は、進入角度βを変えると、圧延パターンはストリップの第1の面においてのみ変化する。その理由は、もう一方の面が噛み込み角度を超える接触角度でワークロールに接触しているからである。すなわち、給送角度βを変えることによって、ストリップの第2の面の圧延パターンを第1の面とは無関係に実際に調整できる。その結果、特にこの設計においては、簡略化された制御によって一様な圧延パターンをストリップの両面にもたらすことができる。ストリップの上面および下面の表面粗さに対して極めて精確に影響を及ぼすことができるように、進入角度βの増分は、0.1°毎、特に好ましくは0.05°毎、で変えられることが好ましい。
【0022】
圧延されたストリップの表面凹凸は、特に両ワークロールの表面に依存する。ただし、2つのワークロールの表面粗さはそれぞれ異なることもできる。表面凹凸の性状は、それぞれ異なる特性値によって決定され得る。通常の特性値は、DIN EN ISO 4287およびDIN EN ISO 4288による平均粗さ値R
aである。この特性値は、以下の方程式によって規定される。
【0023】
【数1】
【0024】
Z(x)は、表面のプロファイル、換言すると、関数Z(x,y)による一次元セクションである。Lは、積分区間の長さである。実際には、表面の表面品質を決定するために、表面上のさまざまな位置で一次元プロファイルZ(x)が直線走査によって測定され、対応する値R
aが求められる。
【0025】
S
aの値は、表面の二次元測定、すなわち凹凸Z(x,y)、から導き出される。値S
aは、以下の方程式に基づき算出される。式中、Aは集積面のサイズである。
【0026】
【数2】
【0027】
両ワークロールの表面粗さR
aまたはS
aは、例えば、少なくとも0.1μmから最大10.0μmまで、好ましくは少なくとも0.4μmから最大4.0μmまで、特に好ましくは少なくとも0.6μmから最大3.0μmまで、の範囲内に含まれ得る。両ワークロールの表面粗さR
aまたはS
aの差は、特に進入角度βに関連して、0.1μmより大きく、特に0.3μmより大きく、なり得る。構造化された表面が一方のワークロールにのみ存在することも考えられる。
【0028】
両ワークロールの表面粗さが互いに異なる場合は、例えば、粗くない方のワークロールとストリップとの間の接触角度が噛み込み角度αを超えるように、ひいてはストリップのこの面が進入角度βの更なる変化に実際に依存しない圧延パターンを受けるように、進入角度βを調整できる。この場合、粗い方のワークロールに接触しているストリップの面の圧延パターンは、進入角度βによって制御可能である。
【0029】
本発明による方法の別の実施形態においては、少なくとも1つのガイドロールが使用され、ストリップはこのガイドロールを通過してから制御ロールを通過する。1つのガイドロール、またはいくつかのガイドロールから成る構成、の役割は、ストリップを案内し、ストリップにかかる張力を調整することである。この場合、ストリップは、特に、いくつかのガイドロールを通過し、これらガイドロール間で交互に曲げられる。制御ロールと組み合わされると、少なくとも1つのガイドロールは、進入角度βを事前に設定する可能性をもたらす。したがって、制御ロールによって進入角度βの増分を極めて小さい角度で調整できると同時に、制御ロールが十分な牽引力を有することと、ストリップの表面損傷を回避できることとが少なくとも1つのガイドロールによって保証される。
【0030】
本発明による方法の別の実施形態においては、制御ロールがストリップに接触せず、進入角度βが制御ロールの位置決めによって設定される場合は、進入角度β
Bが少なくとも1つのガイドロールによって設定されるように、少なくとも1つのガイドロールが位置決めされる。この場合、進入角度βおよびβ
B間の差は、少なくとも0.5°、好ましくは1.0°、である。この範囲を限定することなく、より良好な理解のために、以下においては、一例として、ほぼ水平のパスラインを想定する。この場合、マイナスの進入角度βはパスラインより上方の位置からのストリップの進入を表し、プラスの進入角度βはパスラインより下方の位置からのストリップの進入を表す。最初に、制御ロールがストリップに接触することなく進入角度β
Bが設定されるように、少なくとも1つのガイドロールが位置決めされる。この例において、制御ロールはストリップの経路より上流に位置付けられる。換言すると、この場合、制御ロールは、ストリップの上面に接触するように、位置決めされる。次に、ガイドロールとロールスタンドとの間に位置付けられた制御ロールによって、進入角度βを設定できる。進入角度βおよびβ
B間の差が少なくとも0.5°、好ましくは1.0°、であると、制御ロールはストリップと制御ロールとの間の滑りを回避するために十分な牽引力をストリップに対して有する。これにより、制御ロールによって引き起こされるストリップの表面に対する望ましくない摩擦作用または引っ掻き作用が回避される。
【0031】
本発明による方法の別の実施形態においては、二段式ロールスタンドがロールスタンドとして使用される。二段式ロールスタンドは構造が単純であり、相応に経済的である。制御ロールを二段式ロールスタンドの上流で使用すると、小さい噛み込み角度にも拘らず、ストリップに対する圧延パターンを制御ロールによって十分適切に制御できる。すなわち、より複雑で、保守が厄介で、高価な四段式および六段式ロールスタンドを使用せずに済む。
【0032】
特に、2つの同じワークロールを有するロールスタンドが使用される。したがって、両ワークロールは直径および長さの点で同一設計にできるが、同じ構造化された表面、例えば同じ粗さを有するプロファイル、を必ずしも有する必要はない。これにより、1種類のワークロールのみを設ければよいので、両ワークロールの交換が容易になる。本発明による方法では、進入角度βを変えることによって、ストリップへのエンボス加工におけるむらを均等化できる。すなわち、上側および下側ロールの表面の作製における品質のばらつきも均等化できる。
【0033】
本発明による方法の別の実施形態においては、圧延中の制御ロールの位置決めをストリップの表面粗さの測定と組み合わせて進入角度βを調整することによって、ストリップの少なくとも一方の表面の表面粗さが制御される。制御ロールの位置決めによって進入角度βを変えることができるので、圧延動作の進行中に制御ロールを位置決めすることによって、進入角度βひいては圧延パターンに影響を及ぼすことも可能である。特に、圧延中の進入角度βの変化は、更なるプロセスパラメータ、特に測定値、によって決定される。入ってくる、および/または出て行く、ストリップの表面粗さの測定が行われることが好ましい。この測定は、ストリップの上面および下面において行われることがより好ましい。ストリップの表面粗さの変化または所望値からのずれが測定された場合は、進入角度βを変えることによって一様な圧延パターンを再び実現できる。
【0034】
ロールスタンドと制御ロールとは、直列に配置することも、または先行する冷間および熱間圧延ロールスタンドを有する圧延機列内に配置することもできる。これにより、制御ロールは、圧延機列または先行する複数の圧延パスのプロセスパラメータへの圧延エンボス加工パスの柔軟な適合を可能にする。
【0035】
本発明による方法の別の実施形態においては、ストリップの厚さの相対変化(圧下度)が10%未満、好ましくは1〜6%、である圧延エンボス加工パスが実施される。圧下度が小さい結果として、伸びが小さく維持されるため、ロールの表面構造の転写が向上される。同時に、硬化作用を制限できるので、ストリップの機械的特性に好都合に影響を及ぼすことができる。圧延エンボス加工パスは、直径が少なくとも200mmから最大1200mmまでのワークロールによって行われることが好ましい。
【0036】
本発明による方法の別の実施形態においては、制御ロールの位置決めと進入角度βの調整とによって、ストリップの少なくとも一方の表面の表面粗さR
aまたはS
aの範囲を少なくとも0.1μmから最大10.0μmまで、好ましくは少なくとも0.4μmから最大4.0μmまで、特に好ましくは少なくとも0.5μmから最大2.0μmまで、に設定できる。粗さR
aまたはS
aの上記範囲は、ストリップから製造された金属薄板の成形挙動に有利であることが判明している。同じ粗さを有する構造、すなわちR
aまたはS
aの値がほぼ同一である構造、がストリップの両面に適用されることが好ましい。
【0037】
ストリップの粗さ値は、特に、圧延中、測定デバイスによって監視可能である。無接触の測定を可能にし、上記の粗さ値に十分な精度をもたらす光学式測定デバイスが使用されることが好ましい。
【0038】
本発明による方法の別の実施形態においては、少なくとも一方のワークロールがEDT表面構造またはEBT表面構造を有する。「放電ダル加工」(EDT)によって製造された表面構造は、多数のピークを表面プロファイルにもたらす。「電子ビームダル加工」(EBT)では、制御された方法で表面全体に分散された複数の窪みを設けることができる。両方法を用いて製造されたワークロールの表面構造は、エンボス圧延のために極めて適している。更に、「ショットブラストダル加工」(SBT)も表面の構造化のために使用できる。更に、構造化されたクロム層またはレーザダル加工された表面も表面構造として考えられる。
【0039】
本発明による方法の別の実施形態においては、アルミニウムまたはアルミニウム合金から成るストリップが使用される。特に、
AA5000系または
AA6000系のアルミニウム合金が使用される。アルミニウム合金の他の好適なタイプは、AA6014、AA6016、AA6022、AA6111、またはAA6060、ならびにAA5005、AA5005A、AA5754、またはAA5182である。前記各合金は、高い成形要件と高強度とが組み合わされた用途に極めて適している。これら合金から製造されたストリップの成形特性は、本発明による方法によって更に向上され得る。
【0040】
本発明の第2の教示によると、上記の技術的課題は、ストリップを圧延するための、特に本発明による方法を実施するための、制御ロールが移送方向においてロールスタンドの圧延ギャップの上流に配置され、ストリップのパスラインに対して制御ロールを位置決めするための手段が設けられた、装置によって解決される。
【0041】
これにより、制御ロールをパスラインに対して位置決めするための手段によって進入角度βを変えることができ、これにより、ストリップへの表面構造のエンボス加工を制御できる。制御ロールを位置決めするための手段によって進入角度βを変えることは、圧延エンボス加工パスにおいてストリップの表面構造を制御するための単純でプロセス信頼性が高い可能性を表す。これにより、ロールスタンドを交換せずに、特に両ワークロールを交換する必要なしに、進入角度βを変えることによって、所望の表面構造の観点から圧延エンボス加工パスを適合化できる。特に、一方のワークロールが摩耗によって損なわれていても、制御ロールによって進入角度βを変えることによって、圧延パターンを一様に維持できる。また、圧延セクションを変えるために、曲げ装置のない単純なワークロールを使用できる。
【0042】
本発明による装置の1つの実施形態においては、ストリップの移送方向において制御ロールの上流にガイドロールが位置決めされる。制御ロールと組み合わされると、少なくとも1つのガイドロールは、進入角度βを調整するために、ストリップの経路の更なる可能性および可変性をもたらす。
【0043】
特に、少なくとも1つのガイドロールをパスラインに対して位置決めするための手段が設けられる。これにより、主に、制御ロールを位置決めするための手段によって進入角度βを調整できるので、少なくとも1つのガイドロールの位置決めを所望の進入角度βにほぼ依存せずに行うことができる。
【0044】
更に、ワークロールを位置決めするための、またはパスラインを変化させるための、手段を設けることができる。これにより、ストリップの経路および進入角度βに関して装置の可変性が更に高まる。
【0045】
本発明による装置の別の実施形態において、制御ロールを位置決めするための手段は、±10°の間、±5°の間、±3°の間、または好ましくは最大±2αの間、の進入角度βを可能にする。ストリップの上面および下面の表面粗さに極めて精確に影響を及ぼすことができるように、制御ロールの位置は、進入角度βの0.1°毎で、特に好ましくは0.05°毎で変化させられることが好ましい。これは、特に、小さな噛み込み角度のみをもたらす二段式ロールスタンドとの組み合わせにおいて、有利であることが証明されている。進入角度βの上記角度範囲±10°、±5°、または±3°は、ストリップの表面構造に影響を及ぼすために十分な調整範囲を可能にする。角度範囲が±5°、±3°、または±2αに制限される場合は、角度調整のための特に小さな単位を簡単に実現可能である。
【0046】
本発明による装置の別の実施形態においては、二段式ロールスタンド、特に、同じ直径を有する2つのワークロールを有する二段式ロールスタンド、がロールスタンドとして設けられる。制御ロールを二段式ロールスタンドの上流に設けることは、噛み込み角度が小さい場合でも、主に、制御ロールを調整するための手段によってストリップ上の圧延パターンを制御できることを意味する。より複雑で、保守が厄介で、高価な四段式および六段式ロールスタンドを使用せずに済む。
【0047】
本発明による装置の別の実施形態においては、ストリップの少なくとも一方の表面の表面粗さを測定するために、少なくとも1つの測定デバイスが設けられる。無接触の測定を可能にし、上記粗さ値に十分な精度をもたらす光学式測定デバイスが使用されることが好ましい。測定デバイスは、特に、圧延エンボス加工パスの圧延パターンを測定するために、ストリップの移送方向においてロールスタンドの後方に配置可能である。
【0048】
特に、ストリップの少なくとも一方の表面の表面粗さの測定に応じて、制御ロールの位置決め、場合によっては少なくとも1つのガイドロールの位置決め、を制御できる制御手段が少なくとも1つ設けられる。この制御手段は、測定された表面粗さを評価でき、制御ロールを位置決めすることによって進入角度βを変えることができる。これにより、圧延動作中に圧延パターンの監視および制御が可能になる。
【0049】
本発明による装置の更なる実施形態および利点については、上記の説明、ならびに本発明による方法の従属請求項、ならびに添付の図面を参照されたい。