特許第6452356号(P6452356)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6452356ふっ素を含有する配位高分子錯体、その製造方法、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置
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  • 特許6452356-ふっ素を含有する配位高分子錯体、その製造方法、ガス吸着材、これを用いたガス分離装置およびガス貯蔵装置 図000018
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