特許 6459580 光配向用偏光光照射装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6459580

(24)【登録日】2019年1月11日

(45)【発行日】2019年1月30日

(54)【発明の名称】光配向用偏光光照射装置

(51)【国際特許分類】

   G02F 1/1337 20060101AFI20190121BHJP

【ＦＩ】

   G02F1/1337

【請求項の数】4

【全頁数】16

(21)【出願番号】特願2015-22699(P2015-22699)

(22)【出願日】2015年2月6日

(65)【公開番号】特開2016-145912(P2016-145912A)

(43)【公開日】2016年8月12日

【審査請求日】2017年9月12日

(73)【特許権者】

【識別番号】000003757

【氏名又は名称】東芝ライテック株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】110002147

【氏名又は名称】特許業務法人酒井国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】田中 貴章

(72)【発明者】

【氏名】田内 亮彦

【審査官】 磯崎 忠昭

(56)【参考文献】

【文献】 特開２０１６−０３５５２０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１６−１１８７１８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特許第５３４４１０５（ＪＰ，Ｂ２）

【文献】 特許第５６４８７３３（ＪＰ，Ｂ２）

【文献】 米国特許出願公開第２０１４／０１６０４５７（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０２Ｆ １／１３３７

Ｇ０２Ｆ １／１３

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

対象物に偏光光を照射する照射領域を有する照射ユニットと；
前記対象物を搭載する各搭載位置が前記照射領域の両側に配置された一組のステージと；
前記照射領域を通して前記各搭載位置を結ぶ搬送路を有し、前記搭載位置と、前記ステージが前記照射領域を通過して前記照射領域に隣接する通過位置との間で、前記一組のステージを交互に前記搬送路に沿って往復させる搬送機構と；
前記搭載位置に位置する、前記一組のステージの一方のステージを、他方のステージが前記通過位置に搬送されるときに、前記通過位置から離れた退避位置に移動させる退避機構と；を具備し、
前記搭載位置に位置する前記一方のステージと、前記通過位置に位置する他方のステージの少なくとも一部とが、同一平面上で重なるように、前記通過位置に対して前記搭載位置が配置され、
前記搬送路の、前記各搭載位置が配置された両端側は、前記照射領域と前記通過位置とを結ぶ方向に対して、前記同一平面上で曲げられている、光配向用偏光光照射装置。

【請求項2】

対象物に偏光光を照射する照射領域を有する照射ユニットと；
前記対象物を搭載する各搭載位置が前記照射領域の両側に配置された一組のステージと；
前記照射領域を通して前記各搭載位置を結ぶ搬送路を有し、前記搭載位置と、前記ステージが前記照射領域を通過して前記照射領域に隣接する通過位置との間で、前記一組のステージを交互に前記搬送路に沿って往復させる搬送機構と；
前記搭載位置に位置する、前記一組のステージの一方のステージを、他方のステージが前記通過位置に搬送されるときに、前記通過位置から離れた退避位置に移動させる退避機構と；を具備し、
前記搭載位置に位置する前記一方のステージと、前記通過位置に位置する他方のステージの少なくとも一部とが、同一平面上で重なるように、前記通過位置に対して前記搭載位置が配置され、
前記退避機構は、前記一方のステージを、前記搭載位置から上下方向に離れた前記退避位置へ退避させる、光配向用偏光光照射装置。

【請求項3】

前記一方のステージは、同一平面上において、前記搭載位置に位置するときに、前記通過位置に位置する他方の前記ステージ全体に重なるように、前記通過位置に対して前記搭載位置が配置されている、請求項１または２に記載の光配向用偏光光照射装置。

【請求項4】

前記退避機構は、前記一方のステージを、前記一方のステージが往復搬送される搬送方向と同一方向に沿って前記退避位置に移動させる、請求項１または２に記載の光配向用偏光光照射装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明の実施形態は、光配向用偏光光照射装置に関する。

【背景技術】

【0002】

液晶パネル等の製造工程では、液晶パネルの配向膜や視野角補償フィルムの配向層等の対象物の配向処理が行われている。配向処理では、配向膜に所定の波長の偏光光を照射することによって配向を行う、いわゆる光配向を行うために用いる光配向用偏光光照射装置が知られている。

【0003】

この種の光配向用偏光光照射装置としては、例えば、偏光光を照射する照射ユニットと、配向膜が形成された基板が搭載されるステージと、ステージが照射ユニットの照射領域を通過するようにステージを搬送する搬送機構と、を備える構成がある。

【0004】

また、上述した光配向用偏光光照射装置に類似する装置としては、基板が搭載された第１及び第２のステージが、基板に対して露光する露光部を通過するように、第１及び第２のステージを搬送する露光装置が知られている。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００８−１９１３０２号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

ところで、液晶パネル等の対象物が大型化する傾向にあり、それに伴って、光配向用偏光光照射装置での対象物に対する照射時間が増える。このため、１つの対象物あたりの処理時間（以下、タクトタイムと称する。）が長くなり、生産性の低下を招く問題がある。また、対象物の大型化に伴って、光配向用偏光光照射装置が大型化する問題がある。

【0007】

そこで、本発明は、タクトタイムの長大化を抑制すると共に、装置全体の設置スペースの増大を抑制することができる光配向用偏光光照射装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

実施形態に係る光配向用偏光光照射装置は、対象物に偏光光を照射する照射領域を有する照射ユニットと、前記対象物を搭載する各搭載位置が前記照射領域の両側に配置された一組のステージと、前記照射領域を通して前記各搭載位置を結ぶ搬送路を有し、前記搭載位置と、前記ステージが前記照射領域を通過して前記照射領域に隣接する通過位置との間で、前記一組のステージを交互に前記搬送路に沿って往復させる搬送機構と、前記搭載位置に位置する、前記一組のステージの少なくとも一方のステージを、他方のステージが前記通過位置に搬送されるときに、前記通過位置から離れた退避位置に移動させる退避機構と、を具備し、前記搭載位置に位置する前記少なくとも一方のステージと、前記通過位置に位置する他方のステージの少なくとも一部とが、同一平面上で重なるように、前記通過位置に対して前記搭載位置が配置されている。

【発明の効果】

【0009】

本発明によれば、タクトタイムの長大化を抑制して生産性を向上すると共に、装置全体の設置スペースの増大を抑制することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0010】

【図1】図１は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す側面図である。

【図2】図２は、第１の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。

【図3】図３は、第１の実施形態の変形例に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。

【図4】図４は、第１の実施形態の変形例に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。

【図5】図５は、第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す側面図である。

【図6】図６は、第２の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。

【図7】図７は、第３の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す側面図である。

【図8】図８は、第４の実施形態に係る光配向用偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。

【発明を実施するための形態】

【0011】

以下で説明する実施形態に係る光配向用偏光光照射装置（以下、偏光光照射装置と称する。）１は、照射ユニット１０と、一組の第１及び第２のステージ１１，１２と、搬送機構１５と、退避機構１７とを具備する。照射ユニット１０は、対象物に偏光光を照射する照射領域Ａを有する。一組の第１及び第２のステージ１１，１２は、対象物を搭載する各搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂが照射領域Ａの両側に配置されている。搬送機構１５は、照射領域Ａを通して各搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂを結ぶ搬送路１６を有する。また、搬送機構１５は、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂと、ステージ１１，１２が照射領域Ａを通過して照射領域Ａに隣接する通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂとの間で、一組の第１及び第２のステージ１１，１２を交互に搬送路１６に沿って往復させる。退避機構１７は、搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）に位置する、一組の第１及び第２のステージ１１，１２の少なくとも一方のステージ１１（１２）を、他方のステージ１２（１１）が通過位置Ｐ２ｂ（Ｐ２ａ）に搬送されるときに、通過位置Ｐ２ｂ（Ｐ２ａ）から離れた退避位置Ｐ３ａ（Ｐ３ｂ）に移動させる。搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）に位置する少なくとも一方のステージ１１（１２）と、通過位置Ｐ２ｂ（Ｐ２ａ）に位置する他方のステージ１２（１１）の少なくとも一部とが、同一平面上で重なるように、通過位置Ｐ２ｂ（Ｐ２ａ）に対して搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）が配置されている。

【0012】

また、以下で説明する実施形態に係る少なくとも一方のステージ１１（１２）は、退避位置Ｐ３ａ（Ｐ３ｂ）が、搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）と同一平面上に位置する。

【0013】

また、以下で説明する実施形態に係る少なくとも一方のステージ１１（１２）は、退避位置Ｐ３ａ（Ｐ３ｂ）が、搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）と異なる平面上に位置する。

【0014】

また、以下で説明する実施形態に係る少なくとも一方のステージ１１（１２）は、同一平面上において、搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）に位置するときに、通過位置Ｐ２ｂ（Ｐ２ａ）に位置する他方のステージ１２（１１）全体に重なるように、通過位置Ｐ２ｂ（Ｐ２ａ）に対して搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）が配置されている。

【0015】

また、以下で説明する実施形態に係る退避機構１７は、少なくとも一方のステージ１１（１２）を、一方のステージ１１（１２）が往復搬送される搬送方向と同一方向に沿って退避位置Ｐ３ａ（Ｐ３ｂ）に移動させる。

【0016】

以下、実施形態に係る偏光光照射装置について、図面を参照して説明する。

【0017】

（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係る偏光光照射装置を模式的に示す側面図である。図２は、第１の実施形態に係る偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。本実施形態に係る偏光光照射装置は、例えば、対象物である配向膜に直線偏光光等の偏光光を照射することで、光配向するために用いられる。本実施形態に係る偏光光照射装置は、例えば液晶パネルの配向膜や、視野角補償フィルムの配向膜等の製造に用いられる。

【0018】

（偏光光照射装置の構成）
図１に示すように、第１の実施形態の偏光光照射装置１は、照射ユニット１０と、一組の第１及び第２のステージ１１，１２と、搬送機構１５と、退避機構１７と、を備える。

【0019】

照射ユニット１０は、対象物としての配向膜が形成された基板９（以下、単に基板９と称する。）に偏光光を照射する照射領域Ａを有する。また、照射ユニット１０は、紫外線を含む光を発する管状の光源１０ａと、光源１０ａが発した光の配向を制御する反射板１０ｂと、を有する。また、照射ユニット１０は、光源１０ａが発した光と、反射板１０ｂで配向が制御された光とが入射して偏光光を出射する偏光素子（不図示）を有する。

【0020】

なお、ここでいう「照射領域Ａ」とは、照射ユニット１０の最下面の開口、すなわち、照射ユニット１０において、最も対象物に近い位置にある開口を指す。例えば、照射ユニット１０の最下面が偏光素子であれば、偏光素子の開口が照射領域Ａに該当し、偏光素子よりも対象物側に遮光板（不図示）があれば遮光板の開口が照射領域Ａに該当する。更に、遮光板に保護ガラス（不図示）があれば、保護ガラスの開口が照射領域Ａに該当する。

【0021】

光源１０ａは、例えば、紫外線透過性のガラス管内に、水銀、アルゴン、キセノンなどの希ガスが封入された高圧水銀ランプや、高圧水銀ランプに鉄やヨウ素等のメタルハライドが更に封入されたメタルハライドランプ等の管型ランプが用いられており、直線状の発光部を有する。光源１０ａは、発光部の長手方向が、照射ユニット１０に対する各ステージ１１，１２の搬送方向と直交しており、発光部の長さが、基板９の一辺の長さよりも長くされている。光源１０ａは、直線状の発光部から、例えば波長が２００ｎｍから４００ｎｍまでの紫外線を含む光を発することが可能とされている。光源１０ａが発する光は、さまざまな偏光軸成分を有する、いわゆる非偏光の光である。

【0022】

反射板１０ｂは、光源１０ａに対向する面に、光源１０ａが発した光を反射する反射面を有しており、反射面が楕円の一部をなす形状に形成されている。これにより、反射板１０ｂは、光源１０ａが発した光を集光する、いわゆる集光型の反射板として構成されている。偏光素子は、光源１０ａが発し、一様にあらゆる方向に振動したさまざまな偏光軸成分を含む光から基準方向のみに振動した偏光軸の光を取り出すことが可能とされている。なお、基準方向のみに振動した偏光軸の光を、一般に直線偏光という。また、偏光軸とは、光の電場及び磁場の振動方向である。

【0023】

一組の第１及び第２のステージ１１，１２は、矩形状の板状に形成されており、配向膜が形成された基板９が搭載される。第１及び第２のステージ１１，１２は、搬送機構１５によって移動可能に支持されている。

【0024】

図１及び図２に示すように、第１及び第２のステージ１１，１２に基板９を搭載する各第１及び第２の搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂは、照射領域Ａの両側に配置されている。搬送機構１５は、照射領域Ａを通して各第１及び第２の搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂを結ぶ搬送路１６を有する。搬送機構１５は、第１及び第２のステージ１１，１２を移動可能に支持するガイド軸１５ａと、第１及び第２のステージ１１，１２をガイド軸１５ａに沿って移動させる駆動機構（不図示）と、を有している。ガイド軸１５ａは、直線状の搬送路１６を構成する。また、搬送機構１５は、第１及び第２の搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂのそれぞれと、第１及び第２のステージ１１，１２が照射領域Ａを通過して照射領域Ａに隣接する通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂとの間で、第１及び第２のステージ１１，１２を交互に搬送路１６に沿って往復させる。

【0025】

また、退避機構１７は、図１に示すように、第１及び第２の搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに隣接して配置されており、いわゆる産業用ロボットが用いられている。退避機構１７は、各ステージ１１，１２を水平方向に搬送するためのアーム１７ａを有する。退避機構１７は、一組の第１及び第２のステージ１１，１２が通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂに搬送されるときに、第１及び第２の搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに位置する一組の第１及び第２のステージ１１，１２を、通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂから離れた退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂに移動させる。

【0026】

そして、図２に示すように、第１の搭載位置Ｐ１ａに位置する第１のステージ１１と、通過位置Ｐ２ｂに位置する第２のステージ１２の一部とが、同一平面上で重なる。同様に、第２の搭載位置Ｐ１ｂに位置する第２のステージ１２と、通過位置Ｐ２ａに位置する第１のステージ１１の一部とが、同一平面上で重なる。このような位置関係で、第１及び第２のステージ１１，１２は、通過位置Ｐ２ｂ（Ｐ２ａ）に対して搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）が配置されている。

【0027】

本実施形態では、第１の搭載位置Ｐ１ａに位置する第１のステージ１１は、水平面上において、通過位置Ｐ２ｂに位置する第２のステージ１２の搬送方向における一端部に重なる。また、第２の搭載位置Ｐ１ｂに位置する第２のステージ１２は、水平面上において、通過位置Ｐ２ａに位置する第１のステージ１１の搬送方向における一端部に重なる。すなわち、第１のステージ１１における第１の搭載位置Ｐ１ａが、第２のステージ１２における通過位置Ｐ２ｂに近づけて配置されると共に、第２のステージ１２における第２の搭載位置Ｐ１ｂが、第１のステージ１１における通過位置Ｐ２ａに近づけて配置されている。

【0028】

これを言い換えると、平面上において、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに位置する各ステージ１１，１２と、照射ユニット１０との間は、１つのステージ１１（１２）が占めるスペースよりも小さいことを意味する。この構成により、照射ユニット１０に対して往復する各ステージ１１，１２の搬送距離が短縮されており、タクトタイムの長大化が抑制されると共に、設置スペースの増大が抑制されている。

【0029】

搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）に位置する一方のステージ１１（１２）と、通過位置Ｐ２ｂ（Ｐ２ａ）に位置する他方のステージ１２（１１）とが重なる領域が大きい方が、搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）と照射領域Ａとの間の搬送距離が短くなる。このため、タクトタイムの長大化を抑制し、設置スペースの増大を抑制する観点で好ましい。一方で、搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）に位置する一方のステージ１１（１２）と、通過位置Ｐ２ｂ（Ｐ２ａ）に位置する他方のステージ１２（１１）とが重なる領域が少ない方が、ステージ１１（１２）が搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）から退避するために要する時間が短くなる。このため、ステージ１１（１２）を容易に退避させることができる。しかし、この場合、搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）と照射領域Ａとの間の搬送距離が長くなるので、タクトタイムの長大化を抑制し、設置スペースの増大を抑制する観点では、得られる効果が少なくなる。したがって、搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）に位置する一方のステージ１１（１２）と、通過位置Ｐ２ｂ（Ｐ２ａ）に位置する他方のステージ１２（１１）とが重なる領域は、ステージ１１（１２）が搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）から退避する速度等に応じて、適宜設定される。

【0030】

本実施形態では、搬送機構１５と退避機構１７とが独立した機構として構成されたが、搬送機構１５が退避機構を兼ねるように構成されてもよい。この場合、搬送機構は、各ステージ１１，１２を往復搬送すると共に、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂと退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂとの間で各ステージ１１（１２）を往復搬送する。

【0031】

（偏光光の照射時の各ステージの動作）
以上のように構成された偏光光照射装置１について、照射ユニット１０に対して第１及び第２のステージ１１，１２を搬送し、基板９に偏光光を照射する動作について説明する。

【0032】

まず、第１の搭載位置Ｐ１ａに位置する第１のステージ１１上に、基板９が搭載される。続いて、第１のステージ１１は、搬送機構１５によって照射ユニット１０に向かって搬送され、照射領域Ａを通過して通過位置Ｐ２ａまで搬送される。次に、第１のステージ１１は、通過位置Ｐ２ａから第１の搭載位置Ｐ１ａに向かって搬送され、照射領域Ａを通過した通過位置Ｐ２ａを通り、第１の搭載位置Ｐ１ａに戻る。このように、第１のステージ１１上の基板９の配向膜は、照射領域Ａを往復することで所定量の偏光光が照射され、所望の光配向が行われる。

【0033】

一方、搬送機構１５によって第１のステージ１１が搬送されているとき、第２の搭載位置Ｐ１ｂに位置する第２のステージ１２上に、基板９が搭載される。第１のステージ１１が第１の搭載位置Ｐ１ａに向かって搬送されたときに、所定のタイミングで、第２のステージ１２は、搬送機構１５によって照射ユニット１０に向かって搬送され、照射領域Ａを通過して通過位置Ｐ２ｂまで搬送される。

【0034】

このように、搬送機構１５は、第１及び第２のステージ１１，１２を交互に往復搬送することで、第１のステージ１１上の基板９の配向膜に偏光光を照射する動作と、第２のステージ１２上の基板９の配向膜に偏光光を照射する動作とを連続的に行う。これにより、一方のステージ１１（１２）を搬送している間に、他方のステージ１２（１１）に対して基板９を搭載したり、基板９を取り外したりする作業が可能になり、タクトタイムの長大化が抑制されている。

【0035】

なお、第２のステージ１２における通過位置Ｐ２ｂが、第１のステージ１１における照射開始位置及び照射終了位置に相当している。同様に、第１のステージ１１における通過位置Ｐ２ａが、第２のステージ１２における照射開始位置及び照射終了位置に相当している。

【0036】

そして、第１の搭載位置Ｐ１ａに位置する第１のステージ１１は、第２のステージ１２が通過位置Ｐ２ｂに搬送されるときに、退避機構１７によって第１の搭載位置Ｐ１ａから退避位置Ｐ３ａに退避させる。続いて、第２のステージ１２が第２の搭載位置Ｐ１ｂに向かって搬送された後、退避機構１７によって、第１のステージ１１は、退避位置Ｐ３ａから第１の搭載位置Ｐ１ａに戻される。これによって、第１のステージ１１は、第２の搭載位置Ｐ１ｂと通過位置Ｐ２ｂとの間で往復搬送される第２のステージ１２との干渉を避けることができる。

【0037】

また同様に、第２の搭載位置Ｐ１ｂに位置する第２のステージ１２は、第１のステージ１１が通過位置Ｐ２ａに搬送されるときに、退避機構１７によって第２の搭載位置Ｐ１ｂから退避位置Ｐ３ｂに退避させる。続いて、第１のステージ１１が第１の搭載位置Ｐ１ａに向かって搬送された後、退避機構１７によって、第２のステージ１２は、退避位置Ｐ３ｂから第２の搭載位置Ｐ１ｂに戻される。

【0038】

なお、退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂから搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに戻る移動と、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂから照射領域Ａに対して往復する移動は、各ステージ１１，１２を搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂで一旦停止させることなく連続的に移行するように制御されてもよい。

【0039】

上述したように、本実施形態では、第１の搭載位置Ｐ１ａに位置する第１のステージ１１が、通過位置Ｐ２ｂに位置する第２のステージ１２に同一平面上で重なるように、通過位置Ｐ２ｂに対して第１の搭載位置Ｐ１ａが近づけられている。同様に、第２の搭載位置Ｐ１ｂに位置する第２のステージ１２は、通過位置Ｐ２ａに位置する第１のステージ１１に同一平面上で重なるように、通過位置Ｐ２ａに対して第１の搭載位置Ｐ１ｂが近づけられている。その結果、照射領域Ａに対して往復する第１及び第２のステージ１１，１２の搬送距離が短縮されるので、タクトタイムの長大化が抑制される。

【0040】

（第１の実施形態の効果）
第１の実施形態は、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂと通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂとの間で各ステージ１１，１２を交互に搬送路１６に沿って往復させる搬送機構１５と、通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂから離れた退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂに移動させる退避機構１７とを備える。搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）に位置する一方のステージ１１（１２）と、通過位置Ｐ２ｂ（Ｐ２ａ）に位置する他方のステージ１２（１１）の一部とが、同一平面上で重なるように、通過位置Ｐ２ｂ（Ｐ２ａ）に対して搭載位置Ｐ１ａ（Ｐ１ｂ）が配置されている。これにより、照射ユニット１０に対して往復する各ステージ１１，１２の搬送距離を短縮することが可能になる。その結果、タクトタイムの長大化を抑制すると共に、装置全体の設置スペースの増大を抑制することができる。

【0041】

また、第１の実施形態における第１及び第２のステージ１１，１２は、退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂが、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂと同一平面上に位置する。これにより、搬送機構１５の簡素化が図られ、第１及び第２のステージ１１，１２上に基板９の位置ずれを抑制することが可能になる。

【0042】

なお、本実施形態では、第１及び第２のステージ１１，１２の両方が、第１及び第２の搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂと通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂとが重なるように配置されたが、この構成に限定されるものではない。設置スペースや搬送動作の制御等の必要に応じて、第１及び第２のステージ１１，１２の少なくとも一方について、搭載位置に位置するステージと、通過位置に位置するステージとが重なるように配置されることで、上述したタクトタイムの長大化を抑制すると共に、装置全体の設置スペースの増大を抑制する効果が得られる。

【0043】

また、第１の実施形態における退避機構１７は、第１及び第２のステージ１１，１２が往復搬送される搬送方向と同一方向に沿って退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂに移動させる。これにより、第１及び第２のステージ１１，１２は、退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂから円滑に搬送動作に移行することが可能になり、動作信頼性が高められ、タクトタイムの増大を抑制することができる。

【0044】

また、本実施形態では、照射領域Ａと、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに位置する各ステージ１１，１２との間の領域は、１つのステージ１１（１２）の搭載面の大きさよりも小さくされている。このため、各ステージ１１，１２の搬送距離が短縮されており、タクトタイムの増大を抑制することができる。

【0045】

また、第１の実施形態では、第１及び第２の搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに位置する第１及び第２のステージ１１，１２が、第１及び第２のステージ１１，１２の搬送方向（搬送路１６）に沿って退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂに移動するように構成された、この構成に限定されるものではない。例えば、設置スペースが制約される等の必要に応じて、第１及び第２の搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに位置する第１及び第２のステージ１１，１２を、第１及び第２のステージ１１，１２の搬送方向と交差する方向、すなわち図２における左右、斜め上向きに退避するように構成されてもよい。

【0046】

以下、他の実施形態の偏光光照射装置について図面を参照して説明する。なお、他の実施形態において、第１の実施形態と同一の構成部材には、第１の実施形態と同一符号を付して説明を省略する。

【0047】

（第１の実施形態の変形例１）
図３は、第１の実施形態の変形例１に係る偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。第１の実施形態の変形例１は、通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂに対する搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂの配置や、第１及び第２のステージ１１，１２が搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂから退避する方向が、第１の実施形態と異なる。

【0048】

図３に示すように、第１の実施形態の変形例の偏光光照射装置２は、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂと通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂとの間で、第１及び第２のステージ１１，１２を交互に搬送路２６に沿って往復させる搬送機構２５を備える。搬送路２６は、図３に示すように、長手方向の両端部が、通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂの間を結ぶ方向に対して、同一平面上で交差する方向に、例えば４５度程度の角度をなして曲げられている。また、搬送路２６の両端部は、通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂの間を結ぶ直線に対して、互いに同じ向きに曲げられている。搬送路２６は、搬送機構２５のガイド軸２５ａに沿って構成されている。

【0049】

そして、第１の搭載位置Ｐ１ａに位置する第１のステージ１１は、通過位置Ｐ２ｂに位置する第２のステージ１２の角部に、同一平面上で重なるように、通過位置Ｐ２ｂに対して第１の搭載位置Ｐ１ａが配置されている。また同様に、第２の搭載位置Ｐ１ｂに位置する第２のステージ１２は、通過位置Ｐ２ａに位置する第１のステージ１１の角部に、同一平面上で重なるように、通過位置Ｐ２ａに対して第２の搭載位置Ｐ１ｂが配置されている。これによって、照射ユニット１０に対して往復する各ステージ１１，１２の搬送距離が短縮されている。

【0050】

（第１の実施形態の変形例１の効果）
第１の実施形態の変形例１においても、第１の実施形態と同様に、各ステージ１１，１２の搬送距離を短縮することが可能になるので、タクトタイムの増大化を抑制、及び設置スペースの増大を抑制する効果が得られる。

【0051】

（第１の実施形態の変形例２）
図４は、第１の実施形態の変形例２に係る偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。第１の実施形態の変形例２は、通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂに対する搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂの配置や、第１及び第２のステージ１１，１２が搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂから退避する方向が、第１の実施形態と異なる。

【0052】

図４に示すように、第１の実施形態の変形例２の偏光光照射装置３は、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂと通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂとの間で、第１及び第２のステージ１１，１２を交互に搬送路３６に沿って往復させる搬送機構３５を備える。搬送路３６は、図４に示すように、長手方向の両端部が、通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂの間を結ぶ方向に対して、同一平面上で直交する方向に曲げられている。また、搬送路３６の両端部は、通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂの間を結ぶ直線に対して、互いに同じ向きに曲げられている。搬送路３６は、搬送機構３５のガイド軸３５ａに沿って構成されている。

【0053】

そして、第１の搭載位置Ｐ１ａに位置する第１のステージ１１は、通過位置Ｐ２ｂに位置する第２のステージ１２の端部に、同一平面上で重なるように、通過位置Ｐ２ｂに対して第１の搭載位置Ｐ１ａが配置されている。また同様に、第２の搭載位置Ｐ１ｂに位置する第２のステージ１２は、通過位置Ｐ２ａに位置する第１のステージ１１の端部に、同一平面上で重なるように、通過位置Ｐ２ａに対して第２の搭載位置Ｐ１ｂが配置されている。これによって、照射ユニット１０に対して往復する各ステージ１１，１２の搬送距離が短縮されている。

【0054】

（第１の実施形態の変形例２の効果）
第１の実施形態の変形例２においても、第１の実施形態と同様に、各ステージ１１，１２の搬送距離を短縮することが可能になるので、タクトタイムの増大化を抑制、及び設置スペースの増大を抑制する効果が得られる。

【0055】

（第２の実施形態）
図５は、第２の実施形態に係る偏光光照射装置を模式的に示す側面図である。図６は、第４の実施形態に係る偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。第２の実施形態は、通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂに位置する各ステージ１１，１２に対して、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに位置する各ステージ１１，１２全体が重なる点が、第１の実施形態と異なる。また、第２の実施形態は、第１及び第２のステージ１１，１２が搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂから上下方向に対して退避する点が、第１の実施形態と異なる。

【0056】

図５及び図６に示すように、第２の実施形態の偏光光照射装置４は、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂと通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂとの間で、第１及び第２のステージ１１，１２を交互に搬送路４６に沿って往復させる搬送機構４５を備える。搬送路４６は、図５に示すように、第１及び第２のステージ１１，１２を搬送させるガイドレール４５ａを有する。ガイドレール４５ａの両端部は、上方に向かって湾曲されて、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂから退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂまで延ばされている。また、搬送路４６は、図６に示すように、各ステージ１１，１２の搭載面に対向する方向から見たとき、ガイドレール４５ａに沿って直線状に構成されている。

【0057】

そして、第２の実施形態の偏光光照射装置４では、搬送機構４５によって、第１の搭載位置Ｐ１ａに位置する第１のステージ１１を退避位置Ｐ３ａに移動させると共に、第２の搭載位置Ｐ１ｂに位置する第２のステージ１２を退避位置Ｐ３ｂに移動させる。また、搬送機構４５は、退避位置Ｐ３ａに位置する第１のステージ１１を第１の搭載位置Ｐ１ａに戻すと共に、退避位置Ｐ３ｂに位置する第２のステージ１２を第２の搭載位置Ｐ１ｂに戻す。したがって、本実施形態では、各ステージ１１，１２を往復動作させる搬送機構４５が、各ステージ１１，１２を搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂから退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂに退避させる退避機構を兼ねている。

【0058】

また、第１の搭載位置Ｐ１ａに位置する第１のステージ１１は、通過位置Ｐ２ｂに位置する第２のステージ１２全体に、同一平面上で重なるように、通過位置Ｐ２ｂに対して第１の搭載位置Ｐ１ａが配置されている。また同様に、第２の搭載位置Ｐ１ｂに位置する第２のステージ１２は、通過位置Ｐ２ａに位置する第１のステージ１１全体に、同一平面上で重なるように、通過位置Ｐ２ａに対して第２の搭載位置Ｐ１ｂが配置されている。これによって、照射ユニット１０に対して往復する各ステージ１１，１２の搬送距離が更に短縮されている。

【0059】

（第２の実施形態の効果）
第２の実施形態は、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに位置する各ステージ１１，１２が、通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂに位置する各ステージ１１，１２全体が重なるので、第１ないし第３の実施形態に比べて、各ステージ１１，１２の搬送距離が更に短縮される。その結果、更なるタクトタイムの増大化を抑制、及び更なる設置スペースの増大を抑制することができる。

【0060】

また、第２の実施形態における第１及び第２のステージ１１，１２の退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂが、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂと異なる平面上に位置する。これにより、水平方向に対する設置スペースを確保することが難しい場合に好ましく、水平方向である設置面内方向に対して設置スペースの増大を抑制することが可能になる。

【0061】

なお、第２の実施形態では、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂから各ステージ１１，１２が上方に向かって退避するように構成されたが、搭載位置Ｐ１ａ、Ｐ１ｂから各ステージ１１，１２が下方に向かって退避するように構成されてもよい。

【0062】

また、必要に応じて、第２の実施形態において、第１及び第２のステージ１１，１２の搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂが、通過位置Ｐ２ｂ，Ｐ２ａから上方に離れた退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂと同一位置に設定されてもよい。これによって、ステージ１１，１２を搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂから退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂまで退避させる移動を省くことが可能になる。

【0063】

また、第２の実施形態における搬送機構４５は、各搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに位置する各ステージ１１，１２を上下方向に対して退避させるように構成されたが、第１の実施形態のように、各ステージ１１，１２を水平方向における所定の方向に退避させるように構成されてもよい。また、第１の実施形態において、各搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに位置する各ステージ１１，１２が上下方向に対して退避するように構成されてもよい。また、上下方向に退避させる退避機構よりも水平方向に退避させる退避機構の方が、構成が簡素化されると共に、各ステージ１１，１２に搭載された基板９の位置決め精度を容易に保つことができるので好ましい。

【0064】

（第３の実施形態）
図７は、第３の実施形態に係る偏光光照射装置を模式的に示す側面図である。第３の実施形態は、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに位置する第１及び第２のステージ１１，１２を上下方向に退避させる退避機構が、第２の実施形態と異なる。

【0065】

図７に示すように、第３の実施形態の偏光光照射装置５は、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂと通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂとの間で、第１及び第２のステージ１１，１２を交互に搬送路５６に沿って往復させる搬送機構５５を備える。搬送路５６は、図７に示すように、第１及び第２のステージ１１，１２を搬送させるガイド軸５５ａを有する。搬送路５６は、ガイド軸５５ａに沿って直線状に構成されている。

【0066】

また、第３の実施形態の偏光光照射装置５は、第１及び第２のステージ１１，１２を通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂから離れた退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂに移動させる退避機構５７を備える。退避機構５７は、図７に示すように、第１及び第２の搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに隣接して配置されており、いわゆる産業用ロボットが用いられている。退避機構５７は、各ステージ１１，１２を上下方向に搬送するためのアーム５７ａを有する。

【0067】

そして、退避機構５７は、第１及び第２のステージ１１，１２が通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂに搬送されるときに、第１及び第２の搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂに位置する第１及び第２のステージ１１，１２を退避位置Ｐ３ａ，Ｐ３ｂに移動させる。また、退避機構５７は、退避位置Ｐ３ａに位置する第１のステージ１１を第１の搭載位置Ｐ１ａに戻すと共に、退避位置Ｐ３ｂに位置する第２のステージ１２を第２の搭載位置Ｐ１ｂに戻す。

【0068】

また、第１の搭載位置Ｐ１ａに位置する第１のステージ１１は、通過位置Ｐ２ｂに位置する第２のステージ１２全体に、同一平面上で重なるように、通過位置Ｐ２ｂに対して第１の搭載位置Ｐ１ａが配置されている。また同様に、第２の搭載位置Ｐ１ｂに位置する第２のステージ１２は、通過位置Ｐ２ａに位置する第１のステージ１１全体に、同一平面上で重なるように、通過位置Ｐ２ａに対して第２の搭載位置Ｐ１ｂが配置されている。これによって、照射ユニット１０に対して往復する各ステージ１１，１２の搬送距離が更に短縮されている。

【0069】

（第３の実施形態の効果）
第３の実施形態においても、第２の実施形態と同様に、第１および第２の実施形態と比べて更なるタクトタイムの長大化を抑制、及び更なる設置スペースの増大を抑制することができる。

【0070】

また、第３の実施形態においては、搬送路５６が同一平面上に構成され、すなわち、搬送路５６が搬送機構５５のみで構成されているにも拘わらず、各ステージ１１，１２を上下方向に搬送することができる。このため、搬送機構５５に各ステージ１１，１２を上下方向に搬送する機構を組み込む必要が無いので、搬送機構５５が複雑化することを抑制することができる。

【0071】

（第４の実施形態）
図８は、第４の実施形態に係る偏光光照射装置を模式的に示す平面図である。第４の実施形態は、第２の搭載位置Ｐ１ｂに位置する第２のステージ１２が、通過位置Ｐ２ａに位置する第１のステージ１１に重ならない点が、第１の実施形態と異なる。すなわち、第４の実施形態では、第１及び第２のステージ１１，１２のうち、第２の搭載位置Ｐ１ａに位置する第１のステージ１１側のみが、通過位置Ｐ２ｂに位置する第２のステージ１１に重なる。

【0072】

図８に示すように、第４の実施形態の偏光光照射装置６は、搭載位置Ｐ１ａ，Ｐ１ｂと通過位置Ｐ２ａ，Ｐ２ｂとの間で、第１及び第２のステージ１１，１２を交互に搬送路６６に沿って往復させる搬送機構６５を備える。搬送路６６は、図８に示すように、第１及び第２のステージ１１，１２を搬送させるガイド軸６５ａを有する。搬送路６６は、ガイド軸６５ａに沿って直線状に構成されている。

【0073】

また、第１の搭載位置Ｐ１ａに位置する第１のステージ１１は、通過位置Ｐ２ｂに位置する第２のステージ１２の一部に、同一平面上で重なるように、通過位置Ｐ２ｂに対して第１の搭載位置Ｐ１ａが配置されている。したがって、第４の実施形態における第１のステージ１１側の構成は、第１の実施形態と同様に構成されている。図示しないが、第１の搭載位置Ｐ１ａに隣接する位置には、第１の搭載位置Ｐ１ａに位置する第１のステージ１１を退避位置Ｐ３ａに退避させる退避機構が設けられている。

【0074】

一方、第２の搭載位置Ｐ１ｂに位置する第２のステージ１２は、通過位置Ｐ２ａに位置する第１のステージ１１と同一平面上で重ならずに隣接するように、通過位置Ｐ２ａに対して第２の搭載位置Ｐ１ｂが配置されている。これによって、第４の実施形態の偏光光照射装置６では、第２のステージ１２を退避させる退避機構が省かれている。また、第４の実施形態の偏光光照射装置６では、照射ユニット１０に対して往復する第１のステージ１１の搬送距離が、第２のステージ１２の搬送距離よりも短縮されている。

【0075】

（第４の実施形態の効果）
第４の実施形態では、第２のステージ１２の第２の搭載位置Ｐ１ｂと、照射ユニット１０との間に、通過位置Ｐ２ａに位置する第１のステージ１１が配置されるスペースを有する。このため、第４の実施形態では、第１のステージ１１の搬送距離に比べて、第２のステージ１２の搬送距離が長くなり、第１の実施形態よりもタクトタイムが遅くなる。しかし、第６の実施形態は、第２のステージ１２を退避位置に移動させる必要がないので、第１の実施形態と比べて、第２のステージ１２の退避機構を削減することができる。

【0076】

また、第４の実施形態においても、第１ないし第３の実施形態と同様に、タクトタイムの長大化を抑制及び設置スペースの増大を抑制する効果が得られる。

【0077】

なお、本実施形態における退避機構は、ステージを上下方向に搬送するために、産業用ロボットやガイドレールが用いられたが、他の昇降機構や、ステージを吊り下げて搬送する機構等が用いられてもよい。

【0078】

また、退避機構としては、通過位置に移動した第１のステージに連動して、搭載位置に位置した第２のステージを退避位置に移動させる構成が採られてもよい。退避機構として、例えば、通過位置に移動した第１のステージによって第２のステージが押し込まれることで、第２のステージが退避位置に移動する構成や、第２のステージの厚み方向が回転軸回りに回動する機構が採られてもよい。このような退避機構によれば、機構や制御の簡素化を図ることができる。

【0079】

また、第１のステージ及び第２のステージは、第１の搭載位置Ｐ１及び第２の搭載位置Ｐ２で対象物を搭載後、位置出しを行う、いわゆるアライメント機構を有していてもよい。

【0080】

また、第１のステージ及び第２のステージには、複数のピンや可動部が設けられており、複数のピンや可動部が昇降することにより対象物を第１のステージ及び第２のステージに搭載する搭載機構を有していてもよい。

【0081】

上述した各実施形態では、１つの照射ユニット１０のみを有して構成されたが、この構成に限定するものではない。例えば、複数の照射ユニット１０が、第１及び第２のステージの搬送方向に沿って所定の間隔をあけて配置されてもよい。この場合、照射領域Ａは、複数の照射ユニット１０の直下のみならず、一端側に配置された照射ユニット１０の最下面の開口の一端から、他端側に配置された照射ユニット１０の最下面の開口の他端までの間の領域としてもよい。

【0082】

本発明の実施形態を説明したが、実施形態は、例として提示したものであり、本発明の範囲を限定することを意図していない。実施形態は、その他の様々な形態で実施することが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。実施形態やその変形は、本発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。

【符号の説明】

【0083】

１ 偏光光照射装置
９ 基板
１０ 照射ユニット
１０ａ 光源
１１ 第１のステージ
１２ 第２のステージ
１５ 搬送機構
１５ａ ガイド軸
１６ 搬送路
１７ 退避機構
Ａ 照射領域
Ｐ１ａ 第１の搭載位置
Ｐ１ｂ 第２の搭載位置
Ｐ２ａ，Ｐ２ｂ 通過位置
Ｐ３ａ，Ｐ３ｂ 退避位置

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】

【図8】