特許 6467684 蛍光Ｘ線分析装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6467684

(24)【登録日】2019年1月25日

(45)【発行日】2019年2月13日

(54)【発明の名称】蛍光Ｘ線分析装置

(51)【国際特許分類】

   G01N 23/223 20060101AFI20190204BHJP

【ＦＩ】

   G01N23/223

【請求項の数】3

【全頁数】11

(21)【出願番号】特願2015-146528(P2015-146528)

(22)【出願日】2015年7月24日

(65)【公開番号】特開2017-26511(P2017-26511A)

(43)【公開日】2017年2月2日

【審査請求日】2018年4月18日

(73)【特許権者】

【識別番号】000250339

【氏名又は名称】株式会社リガク

(74)【代理人】

【識別番号】100087941

【弁理士】

【氏名又は名称】杉本 修司

(74)【代理人】

【識別番号】100086793

【弁理士】

【氏名又は名称】野田 雅士

(74)【代理人】

【識別番号】100112829

【弁理士】

【氏名又は名称】堤 健郎

(72)【発明者】

【氏名】原 真也

(72)【発明者】

【氏名】堂井 真

(72)【発明者】

【氏名】山田 康治郎

【審査官】 蔵田 真彦

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００８−３０４４０５（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００４−４１０２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１０−０１９８１２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１０−３８５３９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 米国特許出願公開第２００３／０１１８１４８（ＵＳ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０１Ｎ ２３／００−２３／２２７６

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

試料に１次Ｘ線を照射するＸ線源と、
前記試料から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定する検出手段と、
前記試料について前記検出手段で測定した測定強度を記憶し、前記試料について仮定した組成に基づいて、前記１次Ｘ線により励起されて前記試料から発生する蛍光Ｘ線の理論強度を計算し、その理論強度と前記試料について記憶した測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、前記試料について仮定した組成を逐次近似的に修正計算して、前記試料の組成を算出する算出手段と、
組成が前記算出手段に算出され記憶されたモニター試料と、
前記試料の測定面がフィルムで覆われる場合の前記フィルムについて組成が入力される入力手段とを備え、
前記算出手段が、
前記フィルムで測定面が覆われた前記モニター試料について前記検出手段で測定した測定強度を記憶し、
前記モニター試料について記憶した組成、前記フィルムについて入力された組成および前記フィルムについて仮定した厚さに基づいて、前記フィルムで減衰した１次Ｘ線により励起され前記モニター試料から発生して前記フィルムで減衰する蛍光Ｘ線の理論強度を計算し、その理論強度と前記フィルムで測定面が覆われた前記モニター試料について記憶した測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、前記フィルムについて仮定した厚さを逐次近似的に修正計算して、前記フィルムの厚さを算出するとともに記憶し、
前記フィルムで測定面が覆われた組成が未知の未知試料について前記検出手段で測定した測定強度を記憶し、
前記未知試料について仮定した組成、前記フィルムについて入力された組成および前記フィルムについて記憶した厚さに基づいて、前記フィルムで減衰した１次Ｘ線により励起され前記未知試料から発生して前記フィルムで減衰する蛍光Ｘ線の理論強度を計算し、その理論強度と前記フィルムで測定面が覆われた前記未知試料について記憶した測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、前記未知試料について仮定した組成を逐次近似的に修正計算して、前記未知試料の組成を算出する蛍光Ｘ線分析装置。

【請求項2】

請求項１に記載の蛍光Ｘ線分析装置において、
前記算出手段が、前記フィルムの厚さを算出するにあたり、
前記モニター試料について記憶した組成に基づいて、前記１次Ｘ線により励起され前記モニター試料中の各成分から発生する蛍光Ｘ線である測定線の理論強度を各測定線のフィルムなし理論強度として計算するとともに、
前記モニター試料について記憶した組成、前記フィルムについて入力された組成および前記フィルムについて仮定した厚さに基づいて、前記フィルムで減衰した１次Ｘ線により励起され前記モニター試料から発生して前記フィルムで減衰する各測定線の理論強度を各測定線のフィルムあり理論強度として計算し、
各測定線の前記フィルムなし理論強度および前記フィルムあり理論強度に基づいて、各測定線における前記フィルムによる減衰率を計算するとともに、
各測定線の前記フィルムあり理論強度に基づいて、各測定線における標準偏差および変動係数を計算し、
前記減衰率と前記変動係数の積が最も小さい測定線を最適測定線として選択し、
前記フィルムで測定面が覆われた前記モニター試料について前記検出手段で測定した前記最適測定線の測定強度を記憶し、
前記モニター試料について記憶した組成、前記フィルムについて入力された組成、および、前記フィルムあり理論強度を計算した際に仮定した厚さを初期値とする前記フィルムについて仮定した厚さに基づいて、前記フィルムで減衰した１次Ｘ線により励起され前記モニター試料から発生して前記フィルムで減衰する前記最適測定線の理論強度を計算し、その理論強度と前記フィルムで測定面が覆われた前記モニター試料について記憶した前記最適測定線の測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、前記フィルムについて仮定した厚さを逐次近似的に修正計算して、前記フィルムの厚さを算出するとともに記憶する蛍光Ｘ線分析装置。

【請求項3】

請求項２に記載の蛍光Ｘ線分析装置において、
前記算出手段が、前記フィルムの厚さを算出するにあたり、
算出した前記フィルムの厚さと、前記フィルムあり理論強度を計算した際に仮定した厚さとの差が所定の範囲内に収まるまで、算出した前記フィルムの厚さを前記フィルムについて仮定した厚さとして、前記フィルムあり理論強度の計算から前記フィルムの厚さの算出までを繰り返し行う蛍光Ｘ線分析装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、フィルムで測定面が覆われた試料の組成を求める蛍光Ｘ線分析装置に関する。

【背景技術】

【0002】

従来、蛍光Ｘ線分析において、そのままでは真空中で飛散してしまう液体試料、粉体試料については、フィルムで測定面を覆い、試料にフィルムを介して１次Ｘ線を照射して、試料から発生する蛍光Ｘ線の強度を、フィルムを介して測定している。Ｘ線はフィルムを透過する際に減衰する（吸収される）ので、正確な分析のためには何らかの補正が必要であるところ、従来技術として、例えば、以下のような蛍光Ｘ線分析方法がある（特許文献１参照）。

【0003】

この蛍光Ｘ線分析方法では、まず、主たる構成元素が既知で相異なる複数の標準試料について、真空中でその試料表面（測定面）が露出している第１の測定条件、不活性ガス雰囲気中でその試料表面が露出している第２の測定条件、および真空中でその試料表面が保護膜（フィルム）に覆われている第３の測定条件において、１次Ｘ線を照射して前記主たる構成元素から発生した蛍光Ｘ線の強度を測定する。そして、蛍光Ｘ線ごとに、第１の測定条件での蛍光Ｘ線の強度に対する第２および第３の測定条件での蛍光Ｘ線の強度の減衰率を算出して、それらの減衰率を記憶しておく。

【0004】

次に、構成元素の含有率が未知である分析対象試料すなわち未知試料について、１次Ｘ線を照射して発生した蛍光Ｘ線の強度を測定し、蛍光Ｘ線ごとに、その強度を、未知試料の測定条件に応じて前記減衰率によって補正する。例えば、フィルムで測定面が覆われた未知試料を真空中で測定する場合には、第１の測定条件での蛍光Ｘ線の強度に対する第３の測定条件での蛍光Ｘ線の強度の減衰率によって補正する。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開平８−１０５８４９号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

しかし、フィルムによるＸ線の減衰率は、フィルムの組成および厚さ、Ｘ線の波長によって異なり、また、蛍光Ｘ線のみならず１次Ｘ線もフィルムを透過する際に減衰するので、フィルムで測定面が覆われた未知試料について上記の従来技術により正確な分析を行うためには、あらかじめ、未知試料の測定に用いるのと同じ組成および厚さのフィルムならびに同じ波長分布の１次Ｘ線を用いて、標準試料について測定を行い、蛍光Ｘ線ごとに減衰率を算出して記憶しておく必要がある。フィルムは多種多様であり、未知試料によって１次Ｘ線を切り換えて用いることもあるので、想定されるすべての減衰率について算出して記憶しておくのは多大な手間がかかり、現実的でない。

【0007】

本発明は前記従来の問題に鑑みてなされたもので、フィルムで測定面が覆われた試料について、簡便かつ正確に組成を求めることができる蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

前記目的を達成するために、本発明の蛍光Ｘ線分析装置は、まず、試料に１次Ｘ線を照射するＸ線源と、前記試料から発生する蛍光Ｘ線の強度を測定する検出手段と、前記試料について前記検出手段で測定した測定強度を記憶し、前記試料について仮定した組成に基づいて、前記１次Ｘ線により励起されて前記試料から発生する蛍光Ｘ線の理論強度を計算し、その理論強度と前記試料について記憶した測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、前記試料について仮定した組成を逐次近似的に修正計算して、前記試料の組成を算出する算出手段と、組成が前記算出手段に算出され記憶されたモニター試料と、前記試料の測定面がフィルムで覆われる場合の前記フィルムについて組成が入力される入力手段とを備えている。

【0009】

そして、前記算出手段が、前記フィルムで測定面が覆われた前記モニター試料について前記検出手段で測定した測定強度を記憶し、前記モニター試料について記憶した組成、前記フィルムについて入力された組成および前記フィルムについて仮定した厚さに基づいて、前記フィルムで減衰した１次Ｘ線により励起され前記モニター試料から発生して前記フィルムで減衰する蛍光Ｘ線の理論強度を計算し、その理論強度と前記フィルムで測定面が覆われた前記モニター試料について記憶した測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、前記フィルムについて仮定した厚さを逐次近似的に修正計算して、前記フィルムの厚さを算出するとともに記憶する。

【0010】

前記算出手段は、さらに、前記フィルムで測定面が覆われた組成が未知の未知試料について前記検出手段で測定した測定強度を記憶し、前記未知試料について仮定した組成、前記フィルムについて入力された組成および前記フィルムについて記憶した厚さに基づいて、前記フィルムで減衰した１次Ｘ線により励起され前記未知試料から発生して前記フィルムで減衰する蛍光Ｘ線の理論強度を計算し、その理論強度と前記フィルムで測定面が覆われた前記未知試料について記憶した測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、前記未知試料について仮定した組成を逐次近似的に修正計算して、前記未知試料の組成を算出する。

【0011】

本発明の蛍光Ｘ線分析装置は、ファンダメンタルパラメーター法（以下、ＦＰ法ともいう）により試料の組成を算出する算出手段を備えているが、その算出手段が、まず、未知試料の測定に用いられるフィルムについて、そのフィルムで測定面が覆われた組成が既知のモニター試料の測定強度を利用して、蛍光Ｘ線のフィルムによる減衰のみならず１次Ｘ線のフィルムによる減衰も理論強度計算に組み込んだＦＰ法により、フィルムの厚さを算出して記憶する。この際、測定者が行うべき作業は、フィルムの組成の入力とフィルムで測定面が覆われたモニター試料の測定のみである。そして、算出手段は、フィルムで測定面が覆われた未知試料の測定強度を利用して、フィルムについて入力された組成および記憶した厚さに基づき、蛍光Ｘ線のフィルムによる減衰のみならず１次Ｘ線のフィルムによる減衰も理論強度計算に組み込んだＦＰ法により、未知試料の組成を算出する。

【0012】

つまり、未知試料の測定に用いられるフィルムの組成が変わったり、未知試料の測定に用いられる１次Ｘ線が切り換えられたりしても、測定者があらかじめ行うべき作業は、フィルムの組成の入力とフィルムで測定面が覆われたモニター試料の測定のみであって、従来技術のように、未知試料の測定に用いるのと同じ組成および厚さのフィルムならびに同じ波長分布の１次Ｘ線を用いて、測定面が露出している場合とフィルムで覆われる場合の両方において標準試料について測定を行い、蛍光Ｘ線ごとに減衰率を算出して記憶しておく、というような多大な手間は要しない。

【0013】

しかも、本発明の蛍光Ｘ線分析装置では、あらかじめフィルムの厚さを算出する際にも、それに基づいて未知試料の組成を算出する際にも、蛍光Ｘ線のフィルムによる減衰のみならず１次Ｘ線のフィルムによる減衰も理論強度計算に組み込んだＦＰ法による。したがって、本発明の蛍光Ｘ線分析装置によれば、フィルムで測定面が覆われた未知試料について、簡便かつ正確に組成を求めることができる。

【0014】

本発明の蛍光Ｘ線分析装置においては、前記算出手段が以下のような構成であることが好ましい。すなわち、前記算出手段は、前記フィルムの厚さを算出するにあたり、まず、前記モニター試料について記憶した組成に基づいて、前記１次Ｘ線により励起され前記モニター試料中の各成分から発生する蛍光Ｘ線である測定線の理論強度を各測定線のフィルムなし理論強度として計算するとともに、前記モニター試料について記憶した組成、前記フィルムについて入力された組成および前記フィルムについて仮定した厚さに基づいて、前記フィルムで減衰した１次Ｘ線により励起され前記モニター試料から発生して前記フィルムで減衰する各測定線の理論強度を各測定線のフィルムあり理論強度として計算する。

【0015】

そして、前記算出手段は、各測定線の前記フィルムなし理論強度および前記フィルムあり理論強度に基づいて、各測定線における前記フィルムによる減衰率を計算するとともに、各測定線の前記フィルムあり理論強度に基づいて、各測定線における標準偏差および変動係数を計算し、前記減衰率と前記変動係数の積が最も小さい測定線を最適測定線として選択する。

【0016】

さらに、前記算出手段は、前記フィルムで測定面が覆われた前記モニター試料について前記検出手段で測定した前記最適測定線の測定強度を記憶し、前記モニター試料について記憶した組成、前記フィルムについて入力された組成、および、前記フィルムあり理論強度を計算した際に仮定した厚さを初期値とする前記フィルムについて仮定した厚さに基づいて、前記フィルムで減衰した１次Ｘ線により励起され前記モニター試料から発生して前記フィルムで減衰する前記最適測定線の理論強度を計算し、その理論強度と前記フィルムで測定面が覆われた前記モニター試料について記憶した前記最適測定線の測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、前記フィルムについて仮定した厚さを逐次近似的に修正計算して、前記フィルムの厚さを算出するとともに記憶する。

【0017】

この場合には、算出手段が、モニター試料について、蛍光Ｘ線のフィルムによる減衰のみならず１次Ｘ線のフィルムによる減衰も理論強度計算に組み込んで、各測定線のフィルムなし理論強度およびフィルムあり理論強度を計算し、それらに基づいて、フィルムで測定面が覆われたモニター試料について測定するにあたっての最適測定線を選択するので、いっそう正確にフィルムの厚さを算出でき、それに基づいていっそう正確に未知試料の組成を算出できて、しかも、測定者の手間は増えない。

【0018】

本発明の蛍光Ｘ線分析装置においては、さらに前記算出手段が、前記フィルムの厚さを算出するにあたり、算出した前記フィルムの厚さと、前記フィルムあり理論強度を計算した際に仮定した厚さとの差が所定の範囲内に収まるまで、算出した前記フィルムの厚さを前記フィルムについて仮定した厚さとして、前記フィルムあり理論強度の計算から前記フィルムの厚さの算出までを繰り返し行うことが好ましい。この場合には、算出手段が、算出したフィルムの厚さと、フィルムあり理論強度を計算した際に仮定した厚さとの差が所定の範囲内に収まるまで、最適測定線を選択し直してフィルムの厚さを繰り返し算出するので、よりいっそう正確にフィルムの厚さを算出でき、それに基づいてよりいっそう正確に未知試料の組成を算出できて、しかも、測定者の手間は増えない。

【図面の簡単な説明】

【0019】

【図1】本発明の第１〜第３実施形態の蛍光Ｘ線分析装置を示す概略図である。

【図2】第１実施形態の蛍光Ｘ線分析装置の動作のフローチャートである。

【図3】第２実施形態の蛍光Ｘ線分析装置の動作のフローチャートである。

【図4】第３実施形態の蛍光Ｘ線分析装置の動作のフローチャートである。

【発明を実施するための形態】

【0020】

以下、本発明の第１実施形態の蛍光Ｘ線分析装置について、図にしたがって説明する。図１に示すように、この装置は、まず、試料３，１３に１次Ｘ線２を照射するＸ線管などのＸ線源１と、試料３，１３から発生する蛍光Ｘ線４の強度を測定する検出手段９と、試料３，１３の組成を算出するコンピュータなどの算出手段１０Ａと、組成が算出手段１０Ａに算出され記憶されたモニター試料３と、試料３，１３の測定面がフィルム１２で覆われる場合のフィルム１２について組成が入力されるキーボード、タッチパネルなどの入力手段１１とを備えている。

【0021】

算出手段１０Ａは、試料３，１３について検出手段９で測定した測定強度を記憶し、試料３，１３について仮定した組成に基づいて、１次Ｘ線２により励起されて試料３，１３から発生する蛍光Ｘ線４の理論強度を計算し、その理論強度と試料３，１３について記憶した測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、試料３，１３について仮定した組成を逐次近似的に修正計算して、つまりＦＰ法により、試料３，１３の組成を算出する。

【0022】

ここで、試料３，１３には、組成が算出手段１０Ａに算出され記憶されたモニター試料３と、組成が未知の未知試料１３が含まれる。未知試料１３は、分析対象であって、例えば、そのままでは真空中で飛散してしまう液体試料、粉体試料であり、測定される際には、フィルム１２で測定面１３ａが覆われる。用いられるフィルム１２は、例えば、材質がポリエステル、ポリプロピレン、ポリイミドなどであり、厚さが２．５〜１２μｍ程度であって、フィルム１２のメーカーから組成および厚さが示されており、その示された組成が入力手段１１から入力されるが、厚さについては、製造ロットによるばらつきもあり、メーカーから示された値は十分正確とはいえず、入力手段１１からの入力は任意である。モニター試料３は、フィルム１２の厚さを算出するためにこの蛍光Ｘ線分析装置が備える固体試料である。

【0023】

試料３，１３は、容器１４に収容されて試料台８に載置される。図１においては、容器１４に収容された試料３，１３の測定面３ａ，１３ａがフィルム１２で覆われた状態を縦断面で示しているが、モニター試料３については、測定面３ａがフィルム１２で覆われずに露出していても、測定が可能である。検出手段９は、試料３，１３から発生する蛍光Ｘ線４を分光する分光素子５と、分光された蛍光Ｘ線６ごとにその強度を測定する検出器７で構成される。なお、分光素子５を用いずに、エネルギー分解能の高い検出器を検出手段としてもよい。

【0024】

第１実施形態の蛍光Ｘ線分析装置が備える算出手段１０Ａは、具体的には、図２のフローチャートに示したように動作する。まず、ステップＳ１で、未知試料１３の測定に用いられるフィルム１２で測定面３ａが覆われたモニター試料３について検出手段９で測定した測定強度を記憶する。

【0025】

次に、ステップＳ２で、モニター試料３について記憶した組成、フィルム１２について入力された組成およびフィルム１２について仮定した厚さに基づいて、フィルム１２で減衰した１次Ｘ線２により励起されモニター試料３から発生してフィルム１２で減衰する蛍光Ｘ線４の理論強度を計算し、その理論強度とフィルム１２で測定面３ａが覆われたモニター試料３についてステップＳ１で記憶した測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、フィルム１２について仮定した厚さを逐次近似的に修正計算して、フィルム１２の厚さを算出するとともに記憶する。

【0026】

ここで、フィルム１２について仮定した厚さの初期値としては、メーカーから示された厚さが入力手段１１から入力される場合には、それを用いればよいし、そのような入力がされない場合には、算出手段１０Ａが、あらかじめ入力されている複数の候補値から無作為に選択して用いてもよいし、あらかじめ入力されている１つの固定値を用いてもよい。また、モニター試料３中の各成分から発生する蛍光Ｘ線４である測定線のうち、どの波長の測定線についてステップＳ１，Ｓ２の作業を行うかについては、第１実施形態の装置が備える算出手段１０Ａでは、あらかじめ決められているものとする。

【0027】

次に、ステップＳ３で、フィルム１２で測定面１３ａが覆われた組成が未知の未知試料１３について検出手段９で測定した測定強度を記憶する。

【0028】

次に、ステップＳ４で、未知試料１３について仮定した組成、フィルム１２について入力された組成およびフィルム１２についてステップＳ２で記憶した厚さに基づいて、フィルム１２で減衰した１次Ｘ線２により励起され未知試料１３から発生してフィルム１２で減衰する蛍光Ｘ線４の理論強度を計算し、その理論強度とフィルム１２で測定面１３ａが覆われた未知試料１３についてステップＳ３で記憶した測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、未知試料１３について仮定した組成を逐次近似的に修正計算して、未知試料１３の組成を算出する。

【0029】

上述したように、第１実施形態の蛍光Ｘ線分析装置は、ＦＰ法により試料３，１３の組成を算出する算出手段１０Ａを備えているが、その算出手段１０Ａが、まず、未知試料１３の測定に用いられるフィルム１２について、そのフィルム１２で測定面３ａが覆われた組成が既知のモニター試料３の測定強度を利用して、蛍光Ｘ線４のフィルム１２による減衰のみならず１次Ｘ線２のフィルム１２による減衰も理論強度計算に組み込んだＦＰ法により、フィルム１２の厚さを算出して記憶する（ステップＳ１，Ｓ２）。この際、測定者が行うべき作業は、フィルム１２の組成の入力とフィルム１２で測定面３ａが覆われたモニター試料３の測定のみである。

【0030】

そして、算出手段１０Ａは、フィルム１２で測定面１３ａが覆われた未知試料１３の測定強度を利用して、フィルム１２について入力された組成および記憶した厚さに基づき、蛍光Ｘ線４のフィルム１２による減衰のみならず１次Ｘ線２のフィルム１２による減衰も理論強度計算に組み込んだＦＰ法により、未知試料１３の組成を算出する（ステップＳ３，Ｓ４）。

【0031】

つまり、未知試料１３の測定に用いられるフィルム１２の組成が変わったり、未知試料１３の測定に用いられる１次Ｘ線２が切り換えられてその波長分布が変わったりしても、測定者があらかじめ行うべき作業は、フィルム１２の組成の入力とフィルム１２で測定面３ａが覆われたモニター試料３の測定のみであって、従来技術のように、未知試料の測定に用いるのと同じ組成および厚さのフィルムならびに同じ波長分布の１次Ｘ線を用いて、測定面が露出している場合とフィルムで覆われる場合の両方において標準試料について測定を行い、蛍光Ｘ線ごとに減衰率を算出して記憶しておく、というような多大な手間は要しない。

【0032】

しかも、第１実施形態の蛍光Ｘ線分析装置では、あらかじめフィルム１２の厚さを算出する際にも、それに基づいて未知試料１３の組成を算出する際にも、蛍光Ｘ線４のフィルム１２による減衰のみならず１次Ｘ線２のフィルム１２による減衰も理論強度計算に組み込んだＦＰ法による。したがって、第１実施形態の蛍光Ｘ線分析装置によれば、フィルム１２で測定面１３ａが覆われた未知試料１３について、簡便かつ正確に組成を求めることができる。

【0033】

次に、本発明の第２実施形態の蛍光Ｘ線分析装置について説明する。第２実施形態の装置は、備える算出手段１０Ｂの動作が、第１実施形態の装置が備える算出手段１０Ａの動作と一部異なるだけであるので、その異なる部分について図３のフローチャートを用いて説明する。すなわち、第２実施形態の装置が備える算出手段１０Ｂは、フィルム１２の厚さを算出するにあたり、まず、ステップＳ０−１で、モニター試料３について記憶した組成に基づいて、１次Ｘ線２により励起されモニター試料３中の各成分から発生する蛍光Ｘ線４である測定線４の理論強度を各測定線４のフィルムなし理論強度として計算する。

【0034】

次に、ステップＳ０−２で、モニター試料３について記憶した組成、フィルム１２について入力された組成およびフィルム１２について仮定した厚さに基づいて、フィルム１２で減衰した１次Ｘ線２により励起されモニター試料３から発生してフィルム１２で減衰する各測定線４の理論強度を各測定線４のフィルムあり理論強度として計算する。

【0035】

次に、ステップＳ０−３で、各測定線４についてステップＳ０−１で計算したフィルムなし理論強度およびステップＳ０−２で計算したフィルムあり理論強度に基づいて、各測定線４におけるフィルム１２による減衰率を計算する。ここで、「各測定線４のフィルムなし理論強度およびフィルムあり理論強度に基づいて」とは、各測定線４のフィルムなし理論強度そのものおよびフィルムあり理論強度そのものを用いることのほかに、各測定線４について、フィルムなし理論強度を測定強度スケールに換算したフィルムなし換算理論強度およびフィルムあり理論強度を測定強度スケールに換算したフィルムあり換算理論強度を用いることも含む。

【0036】

次に、ステップＳ０−４で、各測定線４についてステップＳ０−２で計算したフィルムあり理論強度に基づいて、各測定線４における標準偏差および変動係数を計算する。ここで、「各測定線４のフィルムあり理論強度に基づいて」とは、各測定線４について、フィルムあり理論強度を測定強度スケールに換算したフィルムあり換算理論強度を用いることを意味する。

【0037】

次に、ステップＳ０−５で、ステップＳ０−３で計算した減衰率とステップＳ０−４で計算した変動係数の積が最も小さい測定線４を最適測定線４ａとして選択する。

【0038】

次に、ステップＳ１Ａで、フィルム１２で測定面３ａが覆われたモニター試料３について検出手段９で測定した最適測定線４ａの測定強度を記憶する。

【0039】

次に、ステップＳ２Ａで、モニター試料３について記憶した組成、フィルム１２について入力された組成、および、ステップＳ０−２でフィルムあり理論強度を計算した際に仮定した厚さを初期値とするフィルム１２について仮定した厚さに基づいて、フィルム１２で減衰した１次Ｘ線２により励起されモニター試料３から発生してフィルム１２で減衰する最適測定線４ａの理論強度を計算し、その理論強度とフィルム１２で測定面３ａが覆われたモニター試料３についてステップＳ１Ａで記憶した最適測定線４ａの測定強度を理論強度スケールに換算した換算測定強度とが合致するように、フィルム１２について仮定した厚さを逐次近似的に修正計算して、フィルム１２の厚さを算出するとともに記憶する。

【0040】

第２実施形態の蛍光Ｘ線分析装置では、算出手段１０Ｂが、モニター試料３について、蛍光Ｘ線４のフィルム１２による減衰のみならず１次Ｘ線２のフィルム１２による減衰も理論強度計算に組み込んで、各測定線４のフィルムなし理論強度およびフィルムあり理論強度を計算し、それらに基づいて、フィルム１２で測定面３ａが覆われたモニター試料３について測定するにあたっての最適測定線４ａを選択するので、いっそう正確にフィルム１２の厚さを算出でき、それに基づいていっそう正確に未知試料１３の組成を算出できて、しかも、測定者の手間は増えない。

【0041】

次に、本発明の第３実施形態の蛍光Ｘ線分析装置について説明する。第３実施形態の装置は、備える算出手段１０Ｃの動作が、第２実施形態の装置が備える算出手段１０Ｂの動作と一部異なるだけであるので、その異なる部分について図４のフローチャートを用いて説明する。すなわち、第３実施形態の装置においては、さらに算出手段１０Ｃが、フィルム１２の厚さを算出するにあたり、ステップＳ２Ａと同様にステップＳ２Ｂ−１で算出したフィルム１２の厚さと、ステップＳ０−２でフィルムあり理論強度を計算した際に仮定した厚さとの差が、ステップＳ２Ｂ−２の判定で所定の範囲内に収まるまで、ステップＳ２Ｂ−３で、算出したフィルム１２の厚さをステップＳ０−２におけるフィルム１２について仮定した厚さとして、ステップＳ０−２におけるフィルムあり理論強度の計算からステップＳ２Ｂ−１におけるフィルム１２の厚さの算出までを繰り返し行う。

【0042】

ステップＳ２Ｂ−２で、ステップＳ２Ｂ−１で算出したフィルム１２の厚さと、ステップＳ０−２でフィルムあり理論強度を計算した際に仮定した厚さとの差が、所定の範囲内であると判定されれば、ステップＳ２Ｂ−４で、算出したフィルム１２の厚さを記憶する。

【0043】

第３実施形態の蛍光Ｘ線分析装置では、算出手段１０Ｃが、ステップＳ２Ｂ−１で算出したフィルム１２の厚さと、ステップＳ０−２でフィルムあり理論強度を計算した際に仮定した厚さとの差が所定の範囲内に収まるまで、最適測定線４ａを選択し直してフィルム１２の厚さを繰り返し算出するので、よりいっそう正確にフィルム１２の厚さを算出でき、それに基づいてよりいっそう正確に未知試料１３の組成を算出できて、しかも、測定者の手間は増えない。

【符号の説明】

【0044】

１ Ｘ線源
２ １次Ｘ線
３ モニター試料
３ａ，１３ａ 測定面
４ 蛍光Ｘ線（測定線）
４ａ 最適測定線
９ 検出手段
１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ 算出手段
１１ 入力手段
１２ フィルム
１３ 未知試料

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】