特許 6483145 アミドアセタール、ケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール、又はエステルイミドからアミンを製造するための接触水素化

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6483145

(24)【登録日】2019年2月22日

(45)【発行日】2019年3月13日

(54)【発明の名称】アミドアセタール、ケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール、又はエステルイミドからアミンを製造するための接触水素化

(51)【国際特許分類】

   C07C 209/52 20060101AFI20190304BHJP

   C07C 211/07 20060101ALI20190304BHJP

   C07C 211/27 20060101ALI20190304BHJP

   C07C 211/48 20060101ALI20190304BHJP

   C07C 213/00 20060101ALI20190304BHJP

   C07C 215/08 20060101ALI20190304BHJP

   C07D 295/023 20060101ALI20190304BHJP

   C07D 295/027 20060101ALI20190304BHJP

   C07B 61/00 20060101ALN20190304BHJP

【ＦＩ】

   C07C209/52

   C07C211/07

   C07C211/27

   C07C211/48

   C07C213/00

   C07C215/08

   C07D295/023

   C07D295/027

   !C07B61/00 300

【請求項の数】7

【全頁数】26

(21)【出願番号】特願2016-550969(P2016-550969)

(86)(22)【出願日】2014年10月15日

(65)【公表番号】特表2016-536358(P2016-536358A)

(43)【公表日】2016年11月24日

(86)【国際出願番号】EP2014072109

(87)【国際公開番号】WO2015067448

(87)【国際公開日】20150514

【審査請求日】2017年6月23日

(31)【優先権主張番号】13191498.8

(32)【優先日】2013年11月5日

(33)【優先権主張国】EP

(73)【特許権者】

【識別番号】501073862

【氏名又は名称】エボニック デグサ ゲーエムベーハー

【氏名又は名称原語表記】Ｅｖｏｎｉｋ Ｄｅｇｕｓｓａ ＧｍｂＨ

(74)【代理人】

【識別番号】100114890

【弁理士】

【氏名又は名称】アインゼル・フェリックス＝ラインハルト

(74)【代理人】

【識別番号】100129735

【弁理士】

【氏名又は名称】太田 顕学

(74)【代理人】

【識別番号】100116403

【弁理士】

【氏名又は名称】前川 純一

(74)【代理人】

【識別番号】100135633

【弁理士】

【氏名又は名称】二宮 浩康

(74)【代理人】

【識別番号】100162880

【弁理士】

【氏名又は名称】上島 類

(72)【発明者】

【氏名】レナート カディロフ

【審査官】 阿久津 江梨子

(56)【参考文献】

【文献】 特開平１０−７２４８２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 独国特許発明第６０４２７７（ＤＥ，Ｃ２）

【文献】 有機合成化学協会誌，１９７０年，Vol.28, No.11，p.1083-1096

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｃ０７Ｃ ２０９／５２

Ｃ０７Ｃ ２１１／０７

Ｃ０７Ｃ ２１１／２７

Ｃ０７Ｃ ２１１／４８

Ｃ０７Ｃ ２１３／００

Ｃ０７Ｃ ２１５／０８

Ｃ０７Ｄ ２９５／０２３

Ｃ０７Ｄ ２９５／０２７

Ｃ０７Ｂ ６１／００

ＣＡｐｌｕｓ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ）

ＣＡＳＲＥＡＣＴ（ＳＴＮ）

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

以下の工程ａを有するアミンの製造方法であって、
下記ｉｉｉをＨ₂と、水素化触媒の存在下で反応させる工程ａ：
ｉｉｉ．一般式（ＩＩＩ）のエステルイミド：

【化3】

前記式中、
Ｒ'は、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、及び（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキルから成る群から選択され、
Ｒは、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、又は（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリール、ＣＮ、ＣＯＯ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＯＮＨ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、及びＣＦ₃から成る群から選択され、
Ｒ¹は、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、又は（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリールから成る群から選択され、
ここでＲ、Ｒ¹、及びＲ'から選択されるそれぞれ２個の基からも、一緒に（Ｃ₂〜Ｃ₈）アルキレン架橋を形成することができ、これによって合計で４個〜１１個の環原子を有する環が生成し、
ここで触媒及びエステルイミドは、１：１０から１：１００，０００のモル比で使用し、水素圧は０．１ｂａｒ〜２００ｂａｒに調整し、温度は０℃〜１２０℃の範囲で調整する、前記製造方法。

【請求項2】

前記水素化触媒が、少なくとも１種の活性金属を含有する、請求項１に記載の製造方法。

【請求項3】

前記活性金属が、元素周期律表の第ＶＩＩＢ族及び／又は第ＶＩＩＩＢ族の金属である、請求項２に記載の製造方法。

【請求項4】

前記反応を溶剤中で行う、請求項１から３までのいずれか１項に記載の製造方法。

【請求項5】

前記溶剤は、炭化水素、塩化炭化水素、エーテル、エステル、及びアルコールからなる群から選択される、請求項４に記載の製造方法。

【請求項6】

無水の溶剤を使用する、請求項５に記載の製造方法。

【請求項7】

前記反応を溶剤無しで行う、請求項１から３までのいずれか１項に記載の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、アミンを製造するための方法に関し、本方法ではアミドアセタール、ケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール、又はエステルイミドをＨ₂と、水素化触媒の存在下で反応させ、触媒、及びアミドアセタール、又はケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール、又はエステルイミドは、１：１０から１：１００，０００のモル比で使用し、水素圧は０．１ｂａｒ〜２００ｂａｒに調整し、温度は０℃〜２５０℃の範囲で調整する。アミドアセタール、ケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール、又はエステルイミドは、この方法によって高選択性で、また非常に穏やかな条件で水素化して、アミンにすることができる。

【0002】

アミドの還元は、アミンを製造するための重要な方法に属する。従来の方法は、錯体水素化物による還元に基づいているが、ここでは水素化物の化学量論的な量が必要となり、その選択性は比較的低い。水素による接触還元の開発は今日まで、非常に大きな挑戦の１つとして残っている。このような水素化は文献で公知だが、使用可能な収率を達成するためには、大量の触媒（１５ｍｏｌ％以上）、非常に高い圧力、及び２００℃を超える温度が必要である（S.Nishimura, Handbook of Heterogeneous Catalytic Hydrogenation for Organic Synthesis 2001, pp. 406-411, Wiley, N.Y.）。最近では、１２０〜１６０℃で、バイメタルのＰｄ−Ｒｅ触媒によって第三級及び第二級アミドを水素化してアミンにすることについて、報告がなされた（M. Stein , B. Breit, Angew. Chem. 2013, 125, 2287〜2290）。やや穏やかな条件にも拘わらず、官能基はほとんど許容されず、それどころかオレフィン系二重結合、及び芳香族環は、完全に水素化される。

【0003】

これに対して、アミドアセタール、及びイミノエーテルの水素化分解については、ほとんど知られていない。特許文献DE 604277C（W. Klempt, F. Brodkorb）は、第一級イミノエーテルの塩酸塩を、アダムス触媒（酸化白金）の存在下、水素化によって第一級アミンへと高収率で変換可能なことを記載している。この特許文献にある試験プロトコル１を繰り返し、その生成物を近年の手法（ＧＣ−ＭＳ、及びＮＭＲ）で同定した。しかしながら生成物の分析は、DE604277Cに記された条件では、生成したものの大部分がビス（ジシクロヘキシルメチル）アミンであり、これは完全に水素化されたベンゼン環を有する第二級アミンである（実施例の章における例１）。

【0004】

この５０年間、アミドアセタール及びイミドエステルを製造するための合成法の開発は、幅広く流行していた。知られているように、アミドアセタールとイミドエステルは今日、容易に手に入る物質群に属する（G. Simchen, Methoden Org. Chem., 1985, E5/1, S. 1-192 (Houben-Weyl); N. Nakajima, M. Ubukata, Science of Synthesis 2005, Vol. 22, pp. 343-360, Thieme Chemistry Stuttgart）。

【0005】

よって本発明の課題は、酸アミドアセタール、ケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール、及び酸エステルイミドを水素で接触水素化することによる、アミンの製造法を提供することであった。

【0006】

意外なことに、アミドアセタール、ケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール、及びエステルイミドは、非常に穏やかな条件で、通常の水素化触媒の存在下で水素化して、アミンにすることができることが判明した。この際、様々な官能基が許容され、特にニトリル、カルボキシ基、及びホスホン基が残ったまま得られる。

【0007】

この技術的課題は、以下の工程ａを有するアミンの製造方法によって解決された：
下記ｉ、又はｉｉ、又はｉｉｉをＨ₂と、水素化触媒の存在下で反応させる工程ａ：
ｉ．一般式（Ｉ）のアミドアセタール：

【化1】

前記式中、
Ｒは、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、又は（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリール、ＣＮ、ＣＯＯ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＯＮＨ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＦ₃から成る群から選択され、
Ｒ'、及びＲ''は相互に独立して、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキルの群から選択され、かつ
Ｒ¹、及びＲ²は相互に独立して、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₈）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₇）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、及び（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリールから成る群から選択され、
ここでＲ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ'、及びＲ''から選択されるそれぞれ２個の基からも、一緒に（Ｃ₂〜Ｃ₈）アルキレン架橋を形成することができ、これによって合計で４個〜１１個の環原子を有する環が生成し、
又は、
ｉｉ．一般式（ＩＩ）のケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール：

【化2】

前記式中、
Ｒ'は、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキルから成る群から選択され、かつ
Ｒ¹、Ｒ²は相互に独立して、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、及び（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリールから成る群から選択され、
Ｒ³、及びＲ⁴は相互に独立して、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、及び（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリール、ＣＮ、ＣＯＯ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＯＮＨ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、及びＣＦ₃から成る群から選択され、
ここでＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、及びＲ'から選択されるそれぞれ２個の基からも、一緒に（Ｃ₂〜Ｃ₈）アルキレン架橋を形成することができ、これによって合計で３個〜１１個の環原子を有する環が生成し、
又は、
ｉｉｉ．一般式（ＩＩＩ）のエステルイミド：

【化3】

前記式中、
Ｒ'は、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキルから成る群から選択され、
Ｒは、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、又は（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリール、ＣＮ、ＣＯＯ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＯＮＨ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＦ₃から成る群から選択され、
Ｒ¹は、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、又は（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリールから成る群から選択され、
ここでＲ、Ｒ¹、及びＲ'から選択されるそれぞれ２個の基からも、一緒に（Ｃ₂〜Ｃ₈）アルキレン架橋を形成することができ、これによって合計で４個〜１１個の環原子を有する環が生成し、
ここで触媒、及びアミドアセタール、又はケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール、又はエステルイミドは、１：１０から１：１００，０００のモル比で使用し、水素圧は０．１ｂａｒ〜２００ｂａｒに調整し、温度は０℃〜２５０℃の範囲で調整する。

【0008】

本発明の意味合いにおいてアミドアセタールという用語は、一般式（Ｉ）のあらゆる種類のアミドアセタールを指すものであり、モノアミド若しくはジアミドのアセタールであるか、環状のアミドアセタール、又は非環状のアミドアセタールであるかとは、無関係である。

【化4】

前記式中、
Ｒは、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、又は（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリール、ＣＮ、ＣＯＯ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＯＮＨ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＦ₃から成る群から選択され、
Ｒ'、及びＲ''は相互に独立して、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキルから成る群から選択され、かつ
Ｒ¹及びＲ²は相互に独立して、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₈）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₇）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、及び（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリールから成る群から選択され、
ここでＲ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ'、及びＲ''から選択されるそれぞれ２個の基からも、一緒に（Ｃ₂〜Ｃ₈）アルキレン架橋を形成することができ、これによって合計で４個〜１１個の環原子を有する環が生成する。

【0009】

Ｒは好ましくは、Ｈ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、フェニル、ピリジル、ナフチルから成る群から選択されている。

【0010】

Ｒ'は、好ましくはメチル、エチル、ベンジル、１，２−エチレンから成る群から選択されている、Ｒ''である。

【0011】

Ｒ¹、及びＲ²は好ましくは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ブタンジ−１，４−イル、ペンタンジ−１，５−イル、ヘキサンジ−１，６−イル、及びフェニルから成る群から選択されている。

【0012】

１つの環は好ましくは、基ＲとＲ¹、又はＲ¹とＲ'の間に形成され、ここでこの環は合計で５個、６個、又は７個の環原子を有する。形成される好ましい環は、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、ピペラジン、ホモピペリジン、及びホモピペラジン、並びにこれらの誘導体である。

【0013】

本発明の意味合いにおいて、ケテン−Ｎ，Ｏ−アセタールとは、一般式（ＩＩ）の化合物を言う：

【化5】

前記式中、
Ｒ'は、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキルから成る群から選択され、かつ
Ｒ¹、Ｒ²は相互に独立して、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、及び（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリールから成る群から選択され、
Ｒ³、及びＲ⁴は相互に独立して、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、及び（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリール、ＣＮ、ＣＯＯ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＯＮＨ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、及びＣＦ₃から成る群から選択され、
ここでＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、及びＲ'から選択されるそれぞれ２個の基からも、一緒に（Ｃ₂〜Ｃ₈）アルキレン架橋を形成することができ、これによって合計で３個〜１１個の環原子を有する環が生成する。

【0014】

Ｒ'は好ましくは、メチル及びエチルから成る群から選択されており、
Ｒ¹、及びＲ²は好ましくは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ブタンジ−１，４−イル、ペンタンジ−１，５−イル、ヘキサンジ−１，６−イル、及びフェニルから成る群から選択されている。

【0015】

Ｒ³、及びＲ⁴は好ましくは、Ｈ、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、ＣＮ、ＣＯＯ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＯＮＨ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）−アルキル、及びＣＦ₃から成る群から選択されている。

【0016】

１つの環は好ましくは、基Ｒ¹とＲ²、又はＲ¹とＲ⁴、又はＲ³とＲ⁴の間に形成され、ここでこの環は合計で５個、６個、又は７個の環原子を有する。

【0017】

本発明の意味合いにおいて、エステルイミドとは、一般式（ＩＩＩ）の化合物を言う：

【化6】

前記式中、
Ｒ'は、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキルから成る群から選択され、
Ｒは、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、又は（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリール、ＣＮ、ＣＯＯ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＯＮＨ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＦ₃から成る群から選択され、
Ｒ¹は、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、又は（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリールから成る群から選択され、
ここでＲ、Ｒ¹、及びＲ'から選択されるそれぞれ２個の基からも、一緒に（Ｃ₂〜Ｃ₈）アルキレン架橋を形成することができ、これによって合計で４個〜１１個の環原子を有する環が生成する。

【0018】

本発明の意味合いにおいてエステルイミドという用語は、エステルイミドの塩酸塩を包含しない。

【0019】

Ｒは好ましくは、Ｈ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、フェニル、ピリジル、ナフチルから成る群から選択されている。

【0020】

Ｒ'は好ましくは、メチル、エチル、及びベンジルから成る群から選択されており、
Ｒ¹は好ましくは、水素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｎ−ヘプチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチル、ベンジル、及びフェニルから成る群から選択されている。

【0021】

１つの環は好ましくは、基ＲとＲ¹、又はＲ¹とＲ'の間に形成され、ここでこの環は合計で５個、６個、又は７個の環原子を有する。

【0022】

（Ｃ₁〜Ｃ_n）アルキル基とは、炭素原子を１〜ｎ個有する直鎖状、また分枝鎖状のアルキル基である。分枝鎖状アルキル基では、任意の炭素原子に分岐が生じ得る。

【0023】

好ましい（Ｃ₁〜Ｃ_n）アルキル基は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル、及びｎ−オクタデシルである。

【0024】

（Ｃ₁〜Ｃ_n）アルキル基は、置換されているか、又は非置換であり得る。

【0025】

（Ｃ₃〜Ｃ_n）シクロアルキル基とは、合計で３〜ｎ個の炭素原子から成る単環式、二環式、若しくは三環式の脂肪族系であり、ここでそれぞれの環は、三員環、四員環、五員環、六員環、又は七員環であり得る。（Ｃ₆〜Ｃ₁₂）シクロアルキル基が好ましい。特に好ましい（Ｃ₃〜Ｃ_n）シクロアルキル基は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、及び１−アダマンチル、９−フルオレニルである。

【0026】

（Ｃ₃〜Ｃ_n）シクロアルキル基は、置換されているか、又は非置換であり得る。

【0027】

（Ｃ₂〜Ｃ_n）ヘテロシクロアルキル基とは、合計で２〜ｎ個の炭素原子から成る単環式、二環式、若しくは三環式の脂肪族系であり、ここでそれぞれの環は、三員環、四員環、五員環、六員環、又は七員環であってよく、ここでＮ、Ｏ、及びＳの群から選択されるヘテロ原子の数は、１又は２であり、ヘテロ原子は同じであるか、又は異なる。好ましいヘテロシクロアルキル基は、２−、３−テトラヒドロフリル、１−、２−、３−ピロリジニル、１−、２−、３−、４−ピペリジニル、１−、２−ピペラジニル、１−、２−、３−モルホリニル、テトラヒドロピラニル−２、若しくは−３、及び２，３−ジヒドロベンゾチオフェニル−２、若しくは−３である。

【0028】

（Ｃ₂〜Ｃ_n）ヘテロシクロアルキル基は、置換されているか、又は非置換であり得る。

【0029】

（Ｃ₆〜Ｃ_n）アリール基とは、６〜ｎ個の炭素原子を有する単環式、二環式、及び三環式の芳香族系であり、ここでそれぞれの環は、五員環、六員環、又は七員環であり得る。好ましい（Ｃ₆〜Ｃ_n）アリール基は、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ビフェニルである。

【0030】

（Ｃ₆〜Ｃ_n）アリール基は、置換されているか、又は非置換であり得る。

【0031】

（Ｃ₃〜Ｃ_n）ヘテロアリール基とは、合計で３〜ｎ個の炭素原子から成る単環式、二環式、若しくは三環式の芳香族系であり、ここでそれぞれの環は、五員環、六員環、又は七員環であってよく、ここでＮ、Ｏ、及びＳの群から選択されるヘテロ原子の数は、１又は２であり、ヘテロ原子は同じであるか、又は異なる。好ましい（Ｃ₂〜Ｃ_n）ヘテロアリール基は、２−、３−フリル、２−、３−ピロリル、２−、４−、５−イミダゾリル、２−、３−チエニル、２−、３−、４−ピリジル、２−、３−、４−、５−、６−、７−インドリル、３−、４−、５−ピラゾリル、２−、４−、５−、６−ピリミニジル、アクリジニル、キノリニル、フェナントリジニル、ベンゾチエニルである。

【0032】

これらは、置換されているか、又は非置換であり得る。

【0033】

置換基は、ハロゲン（例えばＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、及びヘテロ原子含有官能基（Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓ、又はＳｉからなる群から選択される原子を１個以上含有するもの）から成る群から選択され、ここで１回、及び複数回の置換が可能である。ヘテロ原子含有官能基の例は、カルボニル基、カルボキシ基、スルホネート基、ホスホネート基、ヒドロキシ基、シリル基、アミノ基、アンモニウム基であり、例えば以下のもの：
−ＯＨ、
−（Ｃ₁〜Ｃ₈）−アルコキシ、
−ＣＯＯＨ、
−ＮＨ（｛Ｃ₁〜Ｃ₈｝−アシル）、
−ＮＨ（｛Ｃ₁〜Ｃ₈｝−アシルオキシ）、
−Ｎ（（Ｃ₁−Ｃ₂₀）−アルキル）（｛Ｃ₁〜Ｃ₈｝−アシル）、
−Ｎ（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）（｛Ｃ₁〜Ｃ₈｝−アシル）、
−Ｎ（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アラルキル）（｛Ｃ₁〜Ｃ₈｝−アシル）、
−Ｎ（｛Ｃ₁〜Ｃ₈｝−アシル）₂、
−ＮＨ₃⁺、
−ＮＨ（｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）₂⁺、
−ＮＨ（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）₂⁺、
−ＮＨ（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アラルキル）₂⁺、
−ＮＨ（｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）⁺、
−Ｎ（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）（｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）⁺、
−Ｎ（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）₂（｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）⁺、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アラルキル、
−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル、
−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール、
−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アラルキル、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール、
−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アラルキル、
−ＣＮ、
−ＳＯ₂−Ｏ−｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル、
−ＳＯ₂−Ｏ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール、
−ＳＯ₂−Ｏ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アラルキル、
−ＳＯ₂−｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル、
−ＳＯ₂−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール、
−ＳＯ₂−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アラルキル、
−ＳＯ−｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル、
−ＳＯ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール、
−ＳＯ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アラルキル、
−Ｓｉ（｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）₃、
−Ｓｉ（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）₃、
−Ｓｉ（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）（｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）₂、
−Ｓｉ（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）₂（｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）、
−｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−ペルフルオロアルキル、
−ＰＯ（Ｏ−｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）₂、
−ＰＯ（Ｏ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）₂、
−ＰＯ（Ｏ−｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）（Ｏ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）、
−ＰＯ（｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）₂、
−ＰＯ（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）₂、
−ＰＯ（｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）。

【0034】

本発明の意味合いにおいて、（Ｃ₁〜Ｃ_n）アルキルオキシとは、直鎖状又は分枝鎖状の１〜ｎ個の炭素原子を有する（Ｃ₁〜Ｃ_n）アルキル基であるが、ただしこの基は酸素原子によって、この基を有する分子に結合されている。

【0035】

本発明の意味合いにおいて（Ｃ₁〜Ｃ_n）アシルとは、合計で１〜ｎ個の炭素原子を有する一般構造Ｒ−（Ｃ＝Ｏ）−を有する基として規定され、ここでＲは、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ_n-1）アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ_n-1）アルケニル、（Ｃ₆〜Ｃ_n-1）アリール、（Ｃ₆〜Ｃ_n-1）ヘテロアリール、及び（Ｃ₂〜Ｃ_n-1）アルキニルから成る群から選択される。

【0036】

本発明の意味合いにおいて（Ｃ₁〜Ｃ_n）アシルオキシとは、合計で１〜ｎ個の炭素原子を有する一般構造Ｒ'−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ−を有する基であり、ここでＲ'は、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ_n-1）アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ_n-1）アルケニル、（Ｃ₆〜Ｃ_n-1）アリール、（Ｃ₆〜Ｃ_n-1）ヘテロアリール、及び（Ｃ₂〜Ｃ_n-1）アルキニルから成る群から選択される。

【0037】

本発明の意味合いにおいて（Ｃ₂〜Ｃ_n）アルケニルとは、直鎖状又は分枝鎖状の２〜ｎ個の炭素原子を有する（Ｃ₂〜Ｃ_n）アルキル基であるが、ただしこの基はＣ−Ｃ二重結合を有するものである。

【0038】

本発明の意味合いにおいて（Ｃ₂〜Ｃ_n）アルキニルとは、直鎖状又は分枝鎖状の２〜ｎ個の炭素原子を有する（Ｃ₂〜Ｃ_n）アルキル基として規定され、ただしこの基はＣ−Ｃ三重結合を有するものである。

【0039】

本発明の意味合いにおいて（Ｃ₆〜Ｃ_n）アラルキルとは、アルキル基もアリール基も有し、かつ合計で６〜ｎ個の炭素原子を有する基である。アラルキル基は、そのあらゆる炭素原子を介して、この基を有する分子に結合されていてよい。（Ｃ₆〜Ｃ_n）アラルキル基はまた、少なくとも１個の置換基によって置換されていてよく、ここで置換基は相互に独立して、以下のものから成る群から選択されている：ハロゲン、（Ｃ₁〜Ｃ₈）−アルキル、（Ｃ₁〜Ｃ₈）−アルキルオキシ、−ＮＨ₂、−ＮＯ、−ＮＯ₂、ＮＨ（Ｃ₁〜Ｃ₈）−アルキル、−Ｎ（（Ｃ₁〜Ｃ₈）−アルキル）₂、−ＯＨ、−ＣＦ₃、−ＣｎＦ_2n+1（ここでｎは、２〜５の整数である）、ＮＨ（Ｃ₁〜Ｃ₈）−アシル、−Ｎ（（Ｃ₁〜Ｃ₈）−アシル）₂、（Ｃ₁〜Ｃ₈）−アシル、（Ｃ₁〜Ｃ₈）−アシルオキシ、−ＳＯ₂−（Ｃ₁〜Ｃ₈）−アルキル、−ＳＯ₂−（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）−アリール、−ＳＯ−（Ｃ₁〜Ｃ₈）−アルキル、−ＳＯ−（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）−アリール、−ＰＯ（Ｏ−｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）₂、−ＰＯ（Ｏ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）₂、−ＰＯ（Ｏ−｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）（Ｏ−｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）、−ＰＯ（｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）₂、−ＰＯ（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）₂、−ＰＯ（｛Ｃ₁〜Ｃ₂₀｝−アルキル）（｛Ｃ₆〜Ｃ₁₄｝−アリール）。

【0040】

水素化触媒としては、この目的のために当業者に考慮されるあらゆる水素化触媒を選択することができる。少なくとも１種の活性金属を含有する水素化触媒を使用するのが好ましい。元素周期律表の第ＶＩＩＢ族、及び／又は第ＶＩＩＩＢ族の活性金属が好ましく、このうち貴金属、及びＮｉが好ましく、特にＲｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｅ、及びＮｉが好ましい。金属は、水素化触媒中で（ａ）そのまま、若しくは酸化物形態で、又は（ｂ）金属錯体として存在し得る。

【0041】

（ａ）の場合、金属又は金属酸化物は、担体に施与するか、又は粒子として使用することができる。担体材料は特に制限されないが、通常は慣用の担体、例えば酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、酸化鉄、酸化マグネシウム、二酸化ジルコニウム、炭素、又は水素化の分野で当業者に公知の類似の担体を使用する。担体上における金属又は金属酸化物の含分は、触媒の全質量に対して１質量％〜２５質量％の範囲である。担体上で１〜５質量％という金属又は金属酸化物含分を選択するのが好ましい。

【0042】

このような水素化触媒の例は、Ｐｔ／Ｃ、Ｐｄ／Ｃ、Ｒｈ／Ｃ、Ｒｕ／Ｃ、Ｐｄ／ＣａＣＯ₃、Ｐｄ／Ａｌ₂Ｏ₃、Ｒｕ／Ａｌ₂Ｏ₃、Ｒｈ／Ａｌ₂Ｏ₃、Ｐｄ／Ｒｅ／Ｃ、Ｐｔ／Ｒｅ／Ｃ、ＲｕＯ₂である。

【0043】

（ｂ）の場合、金属は金属錯体の形で水素化触媒として使用できる。その例は、金属のＲｈ、Ｉｒ、又はＲｕの金属錯体であり、例えばウィルキンソン触媒のＣｌＲｈ（ＰＰｈ₃）₃、又は［（ｄｐｐｂ）Ｒｈ（ｃｏｄ）］ＢＦ₄、［Ｉｒ（ＰＣｙ₃（Ｃ₅Ｈ₅Ｎ）（ｃｏｄ）］ＰＦ₆、［Ｃｌ₂Ｒｕ（ＰＰｈ₃）₃］、及び［（ｄｐｐｂ）Ｒｕ（メタリル）₂］である。

【0044】

水素化触媒は好ましくは、Ｐｄ／Ｃ、Ｐｄ／Ａｌ₂Ｏ₃、Ｐｄ／ＣａＣＯ₃、Ｐｔ／Ｃ、Ｒｕ／Ａｌ₂Ｏ₃、Ｐｄ／Ｒｅ／Ｃ、Ｐｔ／Ｒｅ／Ｃ、及び［（ｄｐｐｂ）Ｒｈ（ｃｏｄ）］ＢＦ₄から成る群から選択する。特に好ましいのは、５％Ｐｄ／Ｃ、５％Ｐｄ／Ａｌ₂Ｏ₃、５％Ｐｄ／ＣａＣＯ₃、５％Ｐｔ／Ｃ、５％Ｒｕ／Ａｌ₂Ｏ₃、及び［（ｄｐｐｂ）Ｒｈ（ｃｏｄ）］ＢＦ₄である。

【0045】

水素化触媒の量は、当業者によって自由に選択でき、ここで水素化触媒対アミドアセタール若しくはケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール若しくはエステルイミドのモル比は、１：１０から１：１００，０００の範囲にある。さらに１：２０〜１：１０，０００の範囲が好ましく、特に１：５０から１：２，０００の範囲が好ましい。

【0046】

反応の水素圧は、０．１〜２００ｂａｒの範囲、好適には０．１〜１００ｂａｒの範囲、及び特に好ましくは０．１〜６０ｂａｒの範囲で調整する。

【0047】

反応の間に調整する温度は、当業者であれば特定でき、通常は０〜２５０℃の範囲にある。この温度は、意図された反応が充分に早い時間で進行するほど高いのが望ましいが、本発明による反応における副生成物スペクトルが、できるだけ少なく保たれるほど低いのが望ましい。温度は０〜１２０℃の範囲から調整するのが好ましい。１０℃〜１００℃の範囲から温度を調整するのが特に好ましく、２０℃〜５０℃の範囲から温度を調整するのが極めて特に好ましい。

【0048】

原則的に当業者は、本発明による方法で使用したい溶剤を自由に選択できる。出発物質がしばしば液状で存在するという事実に基づき、その限りにおいて、溶剤の使用は省略することもできる。しかしながら、本発明による方法で溶剤を使用するのが好ましく、使用成分が反応に相応して良好に溶解し、かつその他の点では、本発明による反応に対して不活性であると実証されている溶剤を考慮することが有利である。このようなものとしては、極性若しくは非極性溶剤、特に炭化水素、塩化炭化水素、エーテル、エステル、及びアルコールが考慮される。ここで好ましいのは、アルカン、ハロゲンアルカン、一価及び多価のアルコール、環状及び非環状のエーテル、及びエステルである。

【0049】

好ましい溶剤は、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ジメチルグリコールエーテル（ＤＭＧＥ）、１，４−ジオキサン、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、酢酸エチルエステル、酢酸イソプロピルエステル、ジブチルエーテル、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジプロピルカーボネート、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンから成る群から選択されるものである。特に好ましいのは、メタノールとエタノールである。

【0050】

無水で作業するのが有利であるため、無水溶剤を使用するのが好ましい。

【0051】

アミドアセタール、ケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール、及びエステルイミドを製造するため、当業者はさらに、この目的のために考慮される反応を選択することができる。アミドアセタールは例えば、アミン及びアセタールの交換によって発生させることができ、その一方でエステルイミドは例えば、クロロイミンのアルコール分解によって発生させることができる。

【0052】

本発明の特別な実施態様は、水素化触媒が少なくとも１種の活性金属を含有する、アミンの製造方法である。

【0053】

本発明の特別な実施態様は、水素化触媒が、元素周期律表の第ＶＩＩＢ族及び／又は第ＶＩＩＩＢ族の活性金属を少なくとも１種含有する、アミンの製造方法である。

【0054】

本発明の特別な実施態様は、反応を溶剤中で実施する、アミンの製造方法である。

【0055】

本発明の特別な実施態様は、溶剤が炭化水素、塩化炭化水素、エーテル、エステル、及びアルコールからなる群から選択される、アミンの製造方法である。

【0056】

本発明の特別な実施態様は、無水溶剤を使用する、アミンの製造方法である。

【0057】

本発明のさらなる特別な実施態様は、溶剤無しで反応を実施する、アミンの製造方法である。

【0058】

本発明のさらなる対象は、以下の工程ａを有する方法によって得られるアミンである：
以下のｉ、又はｉｉ、又はｉｉｉをＨ₂と、水素化触媒の存在下で反応させる工程ａ：
ｉ．一般式（Ｉ）のアミドアセタール

【化7】

前記式中、
Ｒは、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、又は（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリール、ＣＮ、ＣＯＯ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＯＮＨ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＦ₃から成る群から選択され、
Ｒ'、及びＲ''は相互に独立して、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキルから成る群から選択され、かつ
Ｒ¹、及びＲ²は相互に独立して、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₈）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₇）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、及び（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリールから成る群から選択され、
ここでＲ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ'、及びＲ''から選択されるそれぞれ２個の基からも、一緒に（Ｃ₂〜Ｃ₈）アルキレン架橋を形成することができ、これによって合計で４個〜１１個の環原子を有する環が生成し、
又は、
ｉｉ．一般式（ＩＩ）のケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール

【化8】

前記式中、
Ｒ'は、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキルから成る群から選択され、かつ
Ｒ¹、Ｒ²は相互に独立して、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、及び（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリールから成る群から選択され、
Ｒ³、及びＲ⁴は相互に独立して、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、及び（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリール、ＣＮ、ＣＯＯ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＯＮＨ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、及びＣＦ₃から成る群から選択され、
ここでＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、及びＲ'から選択されるそれぞれ２個の基からも、一緒に（Ｃ₂〜Ｃ₈）アルキレン架橋を形成することができ、これによって合計で３個〜１１個の環原子を有する環が生成し、
又は、
ｉｉｉ．一般式（ＩＩＩ）のエステルイミド：

【化9】

上記式中、
Ｒ'は、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキルから成る群から選択され、
Ｒは、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、又は（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリール、ＣＮ、ＣＯＯ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＯＮＨ−（Ｃ₁〜Ｃ₁₈）アルキル、ＣＦ₃から成る群から選択され、
Ｒ¹は、Ｈ、（Ｃ₁〜Ｃ₂₄）アルキル、（Ｃ₃〜Ｃ₂₀）シクロアルキル、（Ｃ₂〜Ｃ₁₃）ヘテロシクロアルキル、（Ｃ₆〜Ｃ₁₄）アリール、又は（Ｃ₃〜Ｃ₁₃）ヘテロアリールから成る群から選択され、
ここでＲ、Ｒ¹、及びＲ'から選択されるそれぞれ２個の基からも、一緒に（Ｃ₂〜Ｃ₈）アルキレン架橋を形成することができ、これによって合計で４個〜１１個の環原子を有する環が生成し、
ここで触媒、及びアミドアセタール、又はケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール、又はエステルイミドは、１：１０から１：１００，０００のモル比で使用し、水素圧は０．１ｂａｒ〜２００ｂａｒに調整し、温度は０℃〜２５０℃の範囲に調整する。

【0059】

水素化における好ましい反応条件は、表１から読み取ることができる。

【0060】

表１：水素化における好ましい反応条件

【表1-1】

【表1-2】

【表1-3】

【表1-4】

【表1-5】

【表1-6】

【表1-7】

【表1-8】

【表1-9】

【表1-10】

【表1-11】

［ａ］＝元素周期律表の第ＶＩＩＢ族及び／又は第ＶＩＩＩＢ族の活性金属を少なくとも１種有する水素化触媒
［ｂ］＝Ｐｄ／Ｃ、Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３、Ｐｄ／ＣａＣＯ_３、Ｐｔ／Ｃ、Ｒｕ／Ａｌ_２Ｏ_３、Ｐｄ／Ｒｅ／Ｃ、Ｐｔ／Ｒｅ／Ｃ、又は［（ｄｐｐｂ）Ｒｈ（ｃｏｄ）］ＢＦ_４
［ｃ］＝５％Ｐｄ／Ｃ、５％Ｐｄ／Ａｌ_２Ｏ_３、５％Ｐｄ／ＣａＣＯ_３、５％Ｐｔ／Ｃ、５％Ｒｕ／Ａｌ_２Ｏ_３、又は［（ｄｐｐｂ）Ｒｈ（ｃｏｄ）］ＢＦ_４。

【0061】

本発明による方法では、オートクレーブ内でアミドアセタール若しくはエステルイミド若しくはケテン−Ｎ，Ｏ−アセタール、及び水素化触媒を前述のモル比で、適切な量の溶剤と混合するよう、一般的に進める。続いて、オートクレーブを複数回、水素で洗浄し、この混合物を適切な圧力下で水素化する。水素圧を放圧した後、反応混合物を濾別し、その濾液を当業者に公知の方法で後処理する。

【0062】

実施例
以下の例は、本発明を説明するために用いるものであり、本発明がこれらに制限されることはない。
・例１（特許文献DE-604277（1934年）の試験１の繰り返し）：
３００ｍｌのオートクレーブ内で、ベンジルイミノエチルエーテルヒドロクロリド（３７ｇ、０．２ｍｏｌ）を３０ｍｌの冷却した無水エタノールに懸濁させ、酸化白金（アダムス触媒）を０．５ｇ添加後、水素で洗浄し、続いて４０ｂａｒの水素を圧入し、３０℃で一定の圧力で、１２時間撹拌する。触媒から濾別し、溶剤を留去した後、残渣に２Ｎの水酸化ナトリウム溶液を５０ｍｌ加え、生成物をジエチルエーテルで抽出した。有機相はＫ₂ＣＯ₃によって乾燥させ、溶剤は回転式蒸発器で除去し、残渣はＧＣ−ＭＳ及びＮＭＲ分光器を用いて分析する。この混合物は、ベンジルアミン２％、（シクロヘキシルメチル）アミン２１％、及びジ（シクロヘキシルメチル）アミン７７％から成る。

【0063】

例２〜１９：
１０ｍｌのオートクレーブ中で、アミドアセタール（５ｍｍｏｌ）を５ｍｌの無水メタノールに溶解させ、触媒を１ｍｏｌ％添加した後に、水素で洗浄する。続いて、４０ｂａｒの水素を圧入し、２５℃で、一定の圧力で、水素の吸収が認められなくなるまで撹拌する（１〜２時間）。反応溶液は触媒から濾別した後、メタノール中で１ＭのＨＣｌ溶液を１０ｍｌ加え、溶剤を回転式蒸発器で除去し、残渣にエーテルを加える。固体のアミン塩酸塩を濾別し、ジエチルエーテルで洗浄し、真空で乾燥させる。

【0064】

例２０〜２５：
オートクレーブ中で、２−エトキシ−２−メチル−３−ベンジルーオキサゾリジン（５．５５ｇ、２５ｍｍｏｌ）を２５ｍｌの無水エタノールに溶解させ、触媒を１ｍｏｌ％添加した後に、水素で洗浄する。続いて、４０ｂａｒの水素を圧入し、２５℃で、一定の圧力で、水素の吸収が認められなくなるまで撹拌する（２〜３時間）。触媒から分離し、蒸留した後、Ｎ−ベンジル−２−（エチルアミノ）エタノールが得られる：Kp 63℃/0.03 mbar; Rf = 0.33（酢酸エチル中）、¹H NMR (CDCl₃) δ7.33-7.37 (m, 4H), 7. 27-7.30 (m, 1H), 3. 66 (s, 2H), 3.60 (t, J = 5.4, 2H), 2.96 (br. s, OH), 2.69 (t, J = 5.4, 2H), 2.61 (q, J = 7.2, 2H), 1.10 (t, J = 7.2, 3H)。

【0065】

使用した触媒、及び例２〜２５の収率は、表２から読み取ることができる。
表２：例２〜２５の収率：

【表2】

【0066】

例２６〜３１：
オートクレーブ中で、エステルイミド（２５ｍｍｏｌ）を無水メタノール又はエタノール２５ｍｌに溶解させ、５％のＰｔ／Ｃ（９７５ｍｇ、１ｍｏｌ％）を添加後に、水素で洗浄する。続いて、４０ｂａｒの水素を圧入し、２５℃で、一定の圧力で、１６時間撹拌する。触媒から分離後、濾液を蒸留する。反応条件、及び収率は、表３から読み取ることができる。

【0067】

表３：反応条件、及び例２６〜３１の収率

【表3】

【0068】

例３２：

【化10】

【0069】

オートクレーブ中で、２−ジメチルアミノ２−エトキシ−１−シアノエチレン（７ｇ、５０ｍｍｏｌ）を無水エタノール２０ｍｌに溶解させる。５％のＰｔ／Ｃ（９７５ｍｇ、０．５ｍｏｌ％）を添加後、オートクレーブを水素で洗浄し、続いて４０ｂａｒの水素を圧入し、５０℃で、一定の圧力で１６時間撹拌する。触媒から濾別して、溶剤を留去後、残渣をジエチルエーテルに入れ、濃縮したＮａＣｌ溶液で洗浄し、ＭｇＳＯ₄で乾燥させる。蒸留後に、３−（ジメチルアミノ）アクリロニトリルが３．１ｇ（６５％）得られる；Kp = 66℃/0.1mbar, ¹H NMR (CD₂Cl₂)（好ましくは異性体）δ6.95 (d, J = 13.6, 1H), 3.70 (d, J = 13.5, 1H), 2.86 (br. S, 6H)。