(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
樹脂成形体にレーザ光照射して前面に第1回路パターンが形成されたベース部と、このベース部に搭載されて前記第1回路パターンに電気接続される発光素子とを備える光源ユニットであって、前記ベース部は所定方向に向けられて前記発光素子を搭載する搭載面部と、前記搭載面部に面交差した状態で連絡されている側壁面部を備えて前記搭載面部を頂とする凸状に形成されており、前記側壁面部は前記搭載面部に対して鈍角で交差する傾斜面として形成されていることを特徴とする光源ユニット。
前記搭載面部は前記発光素子を面実装するための搭載ランドを備え、前記搭載面部には前記ベース部を厚み方向に貫通して後面側からレーザ光が照射可能なレーザ照射孔が開口されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の光源ユニット。
【発明を実施するための形態】
【0014】
次に、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
図1(a)は本発明の光源ユニットを自動車の標識灯としてのターンシグナルランプ(TSL)に適用した実施形態の概略断面図である。ランプボディ101と透光カバー102とで灯具ハウジング100が構成されており、この灯具ハウジング100内に光源ユニット1が内装されている。この光源ユニット1は樹脂成形体に配線回路を一体形成したMID構造のベース部2と、このベース部2に搭載された複数の半導体発光素子、ここではチップ状をした発光ダイオード(LED)3を含んで構成されている。
【0015】
前記TSLの透光カバー102はアンバー色をした透光樹脂で形成されており、TSLが装着される自動車の車体の曲面形状に倣うような曲面状の板部材として形成されている。そして、前記光源ユニット1の複数のLED3はランプ光軸Lxと直交する方向に配列されているが、各LED3は前記透光カバー102の曲面形状に対応するように、TSLの光照射方向であるランプ光軸Lxに沿って光軸方向位置が相違された階段状に配設された構成がとられている。
【0016】
前記LED3は、
図1(b)に裏面側から見た斜視図に示すように、矩形のチップ体31の表面が発光面32として構成され、裏面には一対の正負電極33と、ヒートシンク電極34が形成されている。前記発光面32は破線で示すようにドーム状に形成されている。前記正負電極33は両者間に所要の電流を給電することによって発光面32において発光させるものである。前記ヒートシンク電極34は発光時に発生した熱を放熱させるものであり、電気的にはフローティング状態にあるがここではヒートシンク電極と称している。
【0017】
前記ベース部2はMID構造として構成されており、ベース部2の前面、すなわちTSLの前方に向けられた側の面と、ベース部2の後面、すなわちTSLの後方に向けられた側の面にそれぞれ回路パターン4が形成されている。ここではベース部2の前面に形成されている回路パターン4を第1回路パターン4P1と称し、後面に形成されている回路パターンを第2回路パターン4P2と称する。
【0018】
これら第1と第2の回路パターン4P1,4P2は、特許文献2に記載のMID構造と同様の技術によって形成されており、
図1(c)に一部の拡大断面を示すように、金属錯体とベース樹脂をハイブリッド化した樹脂を射出成形した樹脂成形体21(ここではベース体21と称する)の前面と後面のそれぞれにレーザ光を所要のパターンに照射して金属錯体の触媒活性を高め、レーザ光照射部のみに破線で示す無電解メッキ膜22aを形成する。さらに、ここではこの無電解メッキ膜22aを利用して電解メッキを行うことで、導電率の高い導電層からなる電解メッキ膜22bを形成し、前記した第1と第2の回路パターン4P1,4P2を形成している。この実施形態では、ベース体21の素材としてナイロンMDX6を用いている。この素材は絶縁性が高いので、形成した各回路パターン4P1,4P2の相互絶縁が保持される。
【0019】
図2は前記ベース部2を前面側から見た概略斜視図、
図3はその一部の前面図である。前記ベース部2は、TSLのランプ光軸Lxの方向に向けられてそれぞれLED3を搭載する略矩形平面状をした複数の搭載面部23を備えている。これら複数の搭載面部23は、ランプ光軸Lxと直交する方向に配列されるとともに、各搭載面部23のランプ光軸Lx方向の位置はそれぞれ異なる位置となるように階段状に配置されている。
【0020】
また、前記ベース部2は、前記複数の搭載面部23を相互に連絡させるための側壁面部24を備えており、この側壁面部24によって前記複数の搭載面部23は一体化されたベース部2として構成されている。これらの側壁面部24は前記各搭載面部23を頂面とするピラミッド状(四角錐状)に形成されている。すなわち、側壁面部24は搭載面部23の上下、左右の各辺からそれぞれ上下方向および左右方向に拡大するように傾斜された斜面部として形成されている。そして、後述するように、前記側壁面部24が前記搭載面部23に対して交差する角度θxは鈍角、すなわち直角よりも大きな角度に設計されている。ここでは、側壁面部24は搭載面部23に対して120°で交差する斜面部として構成されている。
【0021】
さらに、前記ベース部2は、前面側から見たときに、前記側壁面部24の上下の各辺から前記搭載面部23と平行に向けてそれぞれ上下に所要寸法で延長されたフランジ状の回路面部25を備えている。この回路面部25については後述する。その上で、前記ベース部2の左右の各辺には所要形状のブラケット片26が一体形成されており、このブラケット片26が前記灯具ボディ101にネジ等によって固定されることでベース部2は前記灯具ハウジング100内に固定支持されている。
【0022】
前記ベース部2の前面に前記第1回路パターン4P1を形成する際のMID技術でのレーザ光の照射に際しては、
図4に概念図を示すように、ベース体21の前方に向けられた搭載面部23をレーザ光の照射方向に対して垂直方向に向けると、各搭載面部23の間に存在している側壁面部24は、前記したように搭載面部23に対して鈍角θxで交差されているので、当該レーザ光の照射方向に対して直角よりも小さい角度に向けられることになる。本発明者の検討によれば、前記角度θxは120°よりも大きくし、ベース部2に対するレーザ光の照射角度を60°未満にすることが好ましい。
【0023】
したがって、照射されるレーザ光に対してベース体21の姿勢を一定に保持していても、搭載面部23と側壁面部24、さらには
図4には示されないが回路面部25に対してもレーザ光を所要のパターンに照射することが可能となり、レーザ光をベース体21に対して照射する際に、レーザ光の照射方向を変化させることが不要になり、あるいはベース体21をレーザ光の照射方向に対して姿勢変化させることが不要となり、ベース部2の第1回路パターン4P1を容易に製造することができる。
【0024】
前記ベース体21の後面に第2回路パターン4P2を形成する際も同様であり、図示は省略するが、各搭載面部23の後面をレーザ照射方向と垂直方向に向けることにより、当該搭載面部23の後面および側壁面部24と回路面部25の後面に対して容易にレーザ光の照射が可能であり、ベース部2の第2回路パターン4P2を容易に形成することができる。
【0025】
図5(a),(b)は
図3に示した前記搭載面部23の拡大図と、B1−B1線断面図である。前記搭載面部23には、一対の矩形をした導電層を所要の間隔で上下方向に配列した搭載ランド41と、これら搭載ランド41に隣接配置されたヒートシンクランド42が形成されている。これらの搭載ランド41とヒートシンクランプ42は前記第1回路パターン4P1の一部で構成されている。
【0026】
また、
図3において、前記搭載ランド41から延長された導電層からなる接続パターン43は前記側壁面部24の前面に所要パターンで形成されており、この接続パターン43も前記第1回路パターン4P1の一部で形成される。この接続パターン43は前記ベース部2の上下に配設した前記回路面部25の領域にわたって形成されている。
【0027】
前記搭載面部23では、前記搭載ランド41にはそれぞれLED3の裏面に配設されている正負電極33が面実装される。前記ヒートシンクランド42には、前記LED3の裏面に形成されているヒートシンク電極34が面実装される。これら搭載ランド41とヒートシンクランド42に対するLED3の面実装にはレーザリフロー法が採用されている。このレーザリフローを実現するために、
図5(a),(b)に示したように、前記搭載ランド41と前記ヒートシンクランド42の一部にはベース部2を厚み方向に貫通するレーザ照射孔Hが開口されている。
【0028】
このレーザ照射孔Hを設けることにより、LEDの面実装時には、
図5(b)に示すように、ベース部2(ベース体21)の後面側からレーザ光を照射し、レーザ照射孔Hを通してLED3の正負電極33にレーザ光を直接照射する。これにより、レーザ光エネルギによってLED3の正負電極33を加熱し、その熱により半田等のリフロー材を溶融してレーザリフロー法による面実装が可能になる。これはヒートシンク電極34およびヒートシンクランド42におけるリフローについても同じであり、ヒートシンクランド42に開口されたレーザ照射孔Hを通してレーザ光照射によりヒートシンク電極34を加熱してリフローを実行する。
【0029】
このリフローに際し、搭載面部23が鉛直に近い状態でリフロー材を溶融することが避けられないような場合には、
図6(a)に概念図を示すように、リフロー時にリフロー材が溶融されると、搭載ランド41やヒートシンクランド42の表面をリフロー材が流下され、これと一体的にLED3も下方に移動される状態が生じることがある。このような状態では、搭載ランド41やヒートシンクランド42に対して正負電極33やヒートシンク電極34を適切に実装することが困難になる。
【0030】
この実施形態では、搭載ランド41とヒートシンクランド42にレーザ照射孔Hを開口しており、しかもこのレーザ照射孔Hを各ランド41,42の下寄りの位置に開口している。そのため、リフロー時に各ランド41,42においてリフロー材が溶融されても、リフロー材はレーザ照射孔Hによって流下が阻止されることになる。これにより、搭載しようとするLEDがリフロー材と一体となって搭載ランド41やヒートシンクランド42の面に沿って下方に移動されることが防止され、LED3を搭載面部23の所定位置に正確に面実装することが可能になる。すなわちレーザ照射孔Hはサーマルランドとして、本発明におけるリフロー阻止部として構成される。
【0031】
このサーマルランド、すなわちリフロー阻止部は搭載ランド41やヒートシンクランド42を流動されるリフロー材がこれらのランド41,42の下側領域まで流下しないような構成とすればよいので、ランドの下側領域の導電層を除去した構成であってもよい。例えば、
図6(b)の例では、搭載ランド41に接続されている接続パターン43を搭載ランド41の上側となる領域において接続するパターン形状としたものであり、搭載ランド41の表面を流下されるリフロー材が接続パターン43を伝わって下側の領域にまで流下されることが阻止できる。また、ヒートシンクランド42では下縁の中央部に切欠き42aを形成することで下縁からのリフロー材の流下が阻止される。
【0032】
前記側壁面部24ないし前記回路面部25にわたって形成される接続パターン43は、回路面部25において
図3に示すベース部2を厚み方向に貫通するスルーホール45によってベース部2の後面側の第2回路パターン4P2に電気接続されている。このスルーホール45は、前記無電解メッキ層22aをベース体21の厚み方向に貫通するように形成することにより構成できる。この無電解メッキ層22aからなるスルーホール45は、ベース体21に開口した貫通孔に充填される構成、あるいは当該貫通孔の内周面に層状に形成される構成であってもよい。
【0033】
ここで、前記したように前記第1回路パターン4P1は、無電解メッキ層22aを利用した電解メッキ法による電解メッキ層22bで形成している。この電解メッキ法において、互いに絶縁された状態に形成される複数の第1回路パターン4P1を電解メッキ法で形成する際には、ダミーパターンを利用した技術がある。この技術は、複数の回路パターンをダミーパターンにより相互に電気接続しておき、このダミーパターンを利用して全ての回路パターンに同時に通電を行って電解メッキ法で導電層を形成し、電解メッキ後にダミーパターンを切断する等して除去し、各回路パターンを絶縁させる技術である。
【0034】
この技術においては、通常では隣接する回路パターンが互いに近接される箇所にダミーパターンを形成することが行われるため、複数のダミーパターンが必要とされる場合には、これらのダミーパターンが散在した状態で形成され、結果として電解メッキ後におけるダミーパターンの除去作業が煩雑になることは避けられない。
【0035】
ここでは、
図7(a)に
図3のA部を拡大して示すように、回路面部25に形成されている全ての接続パターン43をベース部2の一部、すなわち前記A部においてダミーパターンDPによって接続させている。すなわち、接続パターン43をベース部2の後面の第2回路パターン4P2に接続させている複数のスルーホール45からそれぞれダミーパターンDPをA部にまで延長し、この延長した端部(以下、延長端部と称する)において各ダミーパターンDPを相互に電気接続している。これらのダミーパターンDPは第1回路パターン4P1の無電解メッキ層22aの一部として形成される。
【0036】
これにより、全ての接続パターン43はダミーパターンDPの延長端部において相互に電気接続されることになり、いずれかの接続パターン43に電解メッキ時に通電したときには、他の接続パターン43も同時に通電され、全ての接続パターン43において電解メッキ層22bが一括形成される。そして、電解メッキ後においては、
図6(b)のように、ダミーパターンDPの延長端部が存在する回路面部25の一部25aを鎖線箇所で切断する等して除去することにより、各接続パターン43を相互に絶縁状態とすることができる。これにより、ダミーパターンDPの除去作業はベース部2の1箇所に対して行うだけでよく、簡易に行うことができる。このことは、詳細な説明は省略するが、ベース部2の後面に形成される第2回路パターン4P2についても同様である。
【0037】
前記ベース部2の後面に形成される第2回路パターン4P2の一部は、前記スルーホール45によって前記第1回路パターン4P1の接続パターン43に電気接続された給電パターン44として構成されている。
図8はベース部2を後面側から見たときの一部の斜視図であり、当該第2回路パターン4P2の一部で構成されている給電パターン44は、主に前記ベース部2の回路面部25の後面に形成されている。また、給電パターン44の一部は前記側壁面部24の後面の領域まで延長されている。
【0038】
そして、前記回路面部25の後面には、前記給電パターン44によって半導体能動素子51、チップ抵抗やチップコンデンサ等の受動素子52、その他を含む電子部品5を実装することが可能なランド(図示せず)が一体に形成されており、これらのランドにそれぞれ電子部品5が実装され、これらで前記LED3を発光させるための発光回路が構成されている。
【0039】
また、前記電子部品として、電源コネクタ53が前記給電パターン44に実装されている。この電源コネクタ53には外部電源に接続されている外部コネクタ54が嵌合され、前記電源コネクタ53を介して前記給電パターン44に外部電源を供給することが可能とされている。
【0040】
ベース部2の第2回路パターン4P2からなる給電パターン44と電子部品5により発光回路が構成され、かつ外部電源が接続されることにより、当該発光回路で生成された発光電力は給電パターン44からベース部2の前面側の接続パターン43に給電され、さらに搭載面部23の搭載ランド41にまで給電される。これにより、複数のLED3は一括して、あるいは選択的に発光回路によって発光制御され、所要の光度、タイミングで発光制御されることになる。
【0041】
このように、実施形態の光源ユニットは、搭載面部23に面交差する側壁面部24の交差角、換言すれば傾斜角が直角以上の鈍角であるので、ベース部2をMID技術により製造する際に、ベース体21の前面または後面に対して一方向からレーザ光を照射することができる。したがって、ベース体21の前面に第1回路パターン4P1を形成する際、あるいはベース体21の後面に第2回路パターン4P2を形成する際に、ベース体21に対して照射するレーザ光の照射方向を変化させることが不要となり、あるいはベース体21をレーザ光の照射方向に対して姿勢変化させることが不要となり、回路パターンを容易に製造することができる。
【0042】
本発明の光源ユニットでは、ベース部を次のように構成することも可能である。
図9(a),(b)はベース部2の第1の変形例としての搭載面部23の前面図とB2−B2線断面図である。ここではベース部2の搭載面部23を所要の凹状曲面、例えば回転放物面の一部として形成しておき、この搭載面部23の前面に形成する第1回路パターン4P1の一部をリフレクタ層61として構成している。
【0043】
この例では、一対の搭載ランド41にそれぞれ接続される各接続パターン
43の一部の縦横寸法を拡大することによって、一対の搭載ランド41の上下両側に離間した状態で一対のリフレクタ層61を形成している。このリフレクタ層61は搭載ランド41と一体に形成されているので、MID技術における電解メッキが可能である。なお、この場合には、搭載ランド41とリフレクタ層61を構成する第1回路パターン4P1は、導電率が高く、かつ光反射率の高い素材で形成することが好ましい。
【0044】
前記リフレクタ層61は前記搭載ランド41と別体に形成されてもよい。別体に形成される場合には、リフレクタ層61は搭載ランド41とは電気的に絶縁された状態で形成されることになるので、前記したようなダミーパターンDPを利用して搭載ランド41と同時に電解メッキ法によって形成することが好ましい。
【0045】
このように第1回路パターン4P1によって構成されるリフレクタ層61を備えることにより、LED3から出射した光をリフレクタ層61において前方に向けて反射し、所要の配光を得ることが可能になる。また、この構成では、ベース部2とは別部材のリフレクタが不要になるので、TSLの構成部品点数が削減でき、構造の簡易化、低価格化が実現できる。
【0046】
また、リフレクタ層を搭載ランド41とは電気的に絶縁された状態で形成するときには、
図10に示すように、リフレクタ層62をヒートシンクランド42と一体に形成してもよい。これにより、リフレクタ層62によるLED3の光反射が実現できるとともに、ヒートシンクランド42の面積がリフレクタ層62によって拡大されるので、リフレクタ層62をヒートシンクとして兼用し、ヒートシンクランド42によるLED3の放熱効果が増大される。
【0047】
ベース部2の第2の変形例として、
図11(a)に搭載面部23を含む領域の断面図を示すように、ベース部2の搭載面部23ないしは側壁面部24にわたる領域の後面に、前記第2回路パターン4P2の一部を利用して前記給電パターン44とは電気的に絶縁されているヒートシンク層63を形成してもよい。このヒートシンク層63はベース体21を厚み方向に貫通する1以上の伝熱スルーホール64により、ベース部2の前面に形成されている前記ヒートシンクランド
42に連通させている。
【0048】
このヒートシンク層を63設けることにより、LED3で発生した熱をヒートシンク電極34からヒートシンクランド42に伝熱し、さらに伝熱スルーホール64を通してヒートシンク層63にまで伝熱させ、ヒートシンク層63から有効に放熱させることが可能になる。ヒートシンク層63はベース部2の後面に存在しているので、放熱時にベース部2の前面に存在するLED3に熱影響を与えることはない。
【0049】
ここで、
図11(b)に同様の断面図を示すように、ベース体21の搭載面部23ないし側壁面部24を含む所要の領域の後面に微小な凹凸27を形成し、この凹凸27の表面にヒートシンク層65を形成してもよい。このヒートシンク層65は、微小な凹凸27の表面形状によって表面積が拡大されるので、
図11(a)に示した平面構造のヒートシンク層63に比較してより高い放熱効果を得ることができる。
【0050】
本発明の光源ユニットにかかるベース部は、1つ以上のLEDを搭載する搭載面部と、この搭載面部に面交差した状態で連絡される側壁面部を有して、ベース部の一部が段状あるいは階段状、さらにはメサ状に形成される構成であれば、本発明を適用することができる。特に、レーザ光を利用したMID技術により製造されるベース部を備える光源モジュールであれば本発明を同様に適用することができる。
【0051】
以上の実施形態は、本発明の光源ユニットを自動車のTSLの光源モジュールに適用した例を示したが、他の灯具の光源ユニットとしての適用も可能である。