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特許6490202半導体ウェハ洗浄装置及び半導体ウェハ洗浄方法
発明の名称 半導体ウェハ洗浄装置及び半導体ウェハ洗浄方法
出願人 エーシーエム リサーチ （シャンハイ） インコーポレーテッド （識別番号 510005650）
特許公開件数ランキング 1151 位（6件）（共同出願を含む）
特許取得件数ランキング 2323 位（2件）（共同出願を含む）
公報番号 特許-6490202
公報発行日 2019年3月27
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6490202
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