発明の名称 薄膜トランジスタの製造方法
出願人 アイメック・ヴェーゼットウェー (識別番号 514156563)
特許公開件数ランキング 4997 位(2件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 4093 位(3件)(共同出願を含む)
出願人 ネーデルランツェ・オルガニザーティ・フォール・トゥーヘパストナトゥールウェテンシャッペレイク・オンダーズーク・テーエヌオー (識別番号 504346525)
特許公開件数ランキング 14468 位(0件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 12296 位(0件)(共同出願を含む)
出願人 カトリーケ・ユニフェルシテイト・ルーヴァン (識別番号 599098493)
特許公開件数ランキング 14468 位(0件)(共同出願を含む)
特許取得件数ランキング 4093 位(1件)(共同出願を含む)
公報番号 特許-6498745
公報発行日 2019年4月10
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6498745
知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、特許-6498745「薄膜トランジスタの製造方法」の公報全文を閲覧することができます。
ログインはこちら ログイン・ユーザー登録