知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」
▶ サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド．の特許一覧
(19)【発行国】日本国特許庁(JP)
(12)【公報種別】特許公報(B2)
(11)【特許番号】6504665
(24)【登録日】2019年4月5日
(45)【発行日】2019年4月24日
(54)【発明の名称】印刷回路基板、その製造方法、及び電子部品モジュール
(51)【国際特許分類】
H05K 3/46 20060101AFI20190415BHJP
【ＦＩ】
H05K3/46 Q
H05K3/46 B
H05K3/46 N
【請求項の数】19
【全頁数】22
(21)【出願番号】特願2015-230980(P2015-230980)
(22)【出願日】2015年11月26日
(65)【公開番号】特開2016-201529(P2016-201529A)
(43)【公開日】2016年12月1日
【審査請求日】2017年10月23日
(31)【優先権主張番号】10-2015-0048937
(32)【優先日】2015年4月7日
(33)【優先権主張国】KR
(73)【特許権者】
【識別番号】594023722
【氏名又は名称】サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド．
(74)【代理人】
【識別番号】110000877
【氏名又は名称】龍華国際特許業務法人
(72)【発明者】
【氏名】リー、ジョン ホ
(72)【発明者】
【氏名】クウェオン、ユン ド
(72)【発明者】
【氏名】キム、ヒュン ジョオン
(72)【発明者】
【氏名】クク、セウン ヨ
【審査官】
小林 大介
(56)【参考文献】
【文献】
特開２０１１−２１１１９４（ＪＰ，Ａ）
【文献】
国際公開第２００９／１４１９２７（ＷＯ，Ａ１）
【文献】
特開２０１４−０４９５７８（ＪＰ，Ａ）
【文献】
特開２０１１−１５９８５５（ＪＰ，Ａ）
【文献】
特開２０１４−１２３７２５（ＪＰ，Ａ）
【文献】
特開２００３−２９８２３２（ＪＰ，Ａ）
【文献】
特開２００５−０３９２１７（ＪＰ，Ａ）
(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）
Ｈ０５Ｋ １／１４
Ｈ０５Ｋ ３／４６
(57)【特許請求の範囲】
【請求項1】
コア基板、前記コア基板上に形成される第１の回路パターン、及び前記コア基板及び前記第１の回路パターンを貫通する貫通部を有する回路基板と、
コア絶縁層及び前記コア絶縁層上に形成される第２の回路パターンを含む微細回路構造体を有し、前記回路基板の前記貫通部に収容される連結基板と、を含み、
前記コア絶縁層の厚さは、前記コア基板の厚さよりも厚い、印刷回路基板。
コア絶縁層及び前記コア絶縁層上に形成される第２の回路パターンを含む微細回路構造体を有し、前記回路基板の前記貫通部に収容される連結基板と、を含み、
前記コア絶縁層の厚さは、前記コア基板の厚さよりも厚い、印刷回路基板。
【請求項2】
前記第１の回路パターンは、複数の回路層と前記複数の回路層の間に介在された絶縁層を含む、請求項１に記載の印刷回路基板。
【請求項3】
前記第１の回路パターンは、電子部品を実装するための第１のパッドを含む、請求項１または２に記載の印刷回路基板。
【請求項4】
前記微細回路構造体は、前記連結基板の一面又は両面に形成される、請求項１から３のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項5】
前記微細回路構造体は前記連結基板の両面に形成され、前記両面の微細回路構造体はビアを介して電気的に連結される、請求項１から４のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項6】
前記微細回路構造体は、複数の回路層と前記複数の回路層の間に介在された絶縁層を含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項7】
前記絶縁層は感光性絶縁層である、請求項６に記載の印刷回路基板。
【請求項8】
前記第２の回路パターンは、電子部品を連結するための信号線を含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項9】
前記第２の回路パターンは、電子部品を実装するための第２のパッドを含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項10】
前記第２の回路パターンは、前記第１の回路パターンより小さいピッチの微細パターンを含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項11】
前記回路基板及び前記連結基板上に形成されたビルドアップ絶縁層とビルドアップ回路層を含むビルドアップ層をさらに含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項12】
前記回路基板上に形成されたソルダレジスト層をさらに含む、請求項１から１１のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項13】
前記連結基板と前記貫通部の間に形成される充填樹脂をさらに含む、請求項１から１２のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項14】
前記充填樹脂はソルダレジストである、請求項１３に記載の印刷回路基板。
【請求項15】
コア基板、前記コア基板上に形成される第１の回路パターン、及び前記コア基板及び前記第１の回路パターンを貫通する貫通部を有する回路基板と、コア絶縁層及び前記コア絶縁層上に形成される第２の回路パターンを含む微細回路構造体を有し、前記回路基板の前記貫通部に収容される連結基板と、を含む印刷回路基板と、
前記印刷回路基板の一面又は両面に搭載される電子部品と、を含み、
前記コア絶縁層の厚さは、前記コア基板の厚さよりも厚い、電子部品モジュール。
前記印刷回路基板の一面又は両面に搭載される電子部品と、を含み、
前記コア絶縁層の厚さは、前記コア基板の厚さよりも厚い、電子部品モジュール。
【請求項16】
前記第２の回路パターンは、前記第１の回路パターンより小さいピッチの微細パターンを含む、請求項１５に記載の電子部品モジュール。
【請求項17】
コア基板、前記コア基板上に形成される第１の回路パターン、及び前記コア基板及び前記第１の回路パターンを貫通する貫通部を有する回路基板を準備する段階と、
前記貫通部にコア絶縁層及び前記コア絶縁層上に形成される第２の回路パターンを含む微細回路構造体を有する連結基板を収容する段階と、を含み、
前記コア絶縁層の厚さは、前記コア基板の厚さよりも厚い、印刷回路基板の製造方法。
前記貫通部にコア絶縁層及び前記コア絶縁層上に形成される第２の回路パターンを含む微細回路構造体を有する連結基板を収容する段階と、を含み、
前記コア絶縁層の厚さは、前記コア基板の厚さよりも厚い、印刷回路基板の製造方法。
【請求項18】
前記連結基板を前記貫通部に収容する段階の前に、
前記連結基板を準備する段階をさらに含み、
前記連結基板は、前記コア絶縁層の第１の側及び前記第１の側と対向する第２の側上に配置された回路パターン及び絶縁層、及び前記コア絶縁層の第１の側と第２の側を電気的に連結するビアを含む、請求項１７に記載の印刷回路基板の製造方法。
前記連結基板を準備する段階をさらに含み、
前記連結基板は、前記コア絶縁層の第１の側及び前記第１の側と対向する第２の側上に配置された回路パターン及び絶縁層、及び前記コア絶縁層の第１の側と第２の側を電気的に連結するビアを含む、請求項１７に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項19】
前記印刷回路基板の一面又は両面に一つ以上の電子部品を実装する段階をさらに含む、請求項１８に記載の印刷回路基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、印刷回路基板、その製造方法、及び電子部品モジュールに関する。
【背景技術】
【0002】
最近、モバイル機器とタブレットＰＣなどの高性能化、高集積化に伴いＣＰＵ、ＧＰＵ、ＡＰなどの中核部品も高性能、高集積化している。このために、パッケージ基板においても線幅３μｍ以下の微細パターン技術を具現するための多様な技術と構造が検討されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
【特許文献1】米国特許出願公開第２０１１／０１０３０３０号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明の一目的は、反り制御が容易な印刷回路基板及びその製造方法を提供することである。
【0005】
本発明の他の目的は、微細パターンと微細ピッチに対応することができる印刷回路基板及びその製造方法を提供することである。
【0006】
本発明の他の目的は、複数の電子部品間（ｄｉｅ ｔｏ ｄｉｅ）の連結が可能なパターンを有する印刷回路基板及びその製造方法を提供することである。
【0007】
本発明のさらに他の目的は、設計自由度を改善し、製品のサイズと層数を減らすことができる印刷回路基板及びその製造方法を提供することである。
【0008】
本発明のさらに他の目的は、上記印刷回路基板を適用した電子部品モジュールを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明の一実施例による印刷回路基板は、貫通部及び第１の回路パターンを有する回路基板と、第２の回路パターンを含む微細回路構造体を有し、上記貫通部に収容される連結基板と、を含む。
【発明の効果】
【0010】
本発明によれば、反り制御が容易な印刷回路基板及びその製造方法を提供することができる。また、微細パターンと微細ピッチに対応することができる印刷回路基板及びその製造方法を提供することができる。また、複数の電子部品間（ｄｉｅ ｔｏ ｄｉｅ）の連結が可能なパターンを有する印刷回路基板及びその製造方法を提供することができる。また、設計自由度を改善し、製品のサイズと層数を減らすことができる印刷回路基板及びその製造方法を提供することができる。また、上記印刷回路基板を適用した電子部品モジュールを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0011】
【図1】本発明の一実施例による印刷回路基板を例示する断面図である。
【図2】本発明の他の実施例による印刷回路基板を例示する断面図である。
【図3】本発明のさらに他の実施例による印刷回路基板を例示する断面図である。
【図4】本発明のさらに他の実施例による印刷回路基板を例示する断面図である。
【図5】本発明のさらに他の実施例による印刷回路基板を例示する断面図である。
【図6】本発明の一実施例による電子部品モジュールを例示する断面図である。
【図7】本発明の他の実施例による電子部品モジュールを例示する断面図である。
【図8】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を示すフローチャートである。
【図9】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図10】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図11】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図12】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図13】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図14】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図15】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図16】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図17】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図18】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図19】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図20】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図21】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図22】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図23】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を示すフローチャートである。
【図24】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図25】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図26】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図27】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図28】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図29】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図30】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図31】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図32】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図33】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図34】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図35】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図36】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図37】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図38】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0012】
以下では、添付の図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。
【0014】
図１を参照すると、上記印刷回路基板は、貫通部１０１を有する回路基板１００と、上記貫通部１０１に収容される連結基板１０と、を含む。
【0015】
上記回路基板１００は、複数の回路層と上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層を含む多層印刷回路基板である。例えば、上記回路基板１００としては、通常のコア基板を含むＢＧＡ基板を用いることができる。
【0016】
上記回路基板１００はまた、層間回路層を連結させるためのブラインドビア及び貫通ビアを含む。
【0017】
上記回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第１のパッド１１５、１２５を含む。
【0018】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と上記コア絶縁層１１の上面に微細回路構造体１０Ａを有し、下面に金属層１２を有する。
【0019】
上記微細回路構造体１０Ａは、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む。
【0020】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、上記回路基板１００の回路層に比べて小さいピッチの微細パターンを有するように形成される。
【0021】
上記微細回路構造体１０Ａはまた、層間回路層を連結させるためのビアを含む。
【0022】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、印刷回路基板に実装される複数の電子部品を連結する信号線の機能をする回路パターンを含むことができる。
【0023】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第２のパッド４２を含む。
【0024】
上記第２のパッド４２は、上記第１のパッド１１５、１２５より小さいピッチを有する。
【0025】
上記金属層１２は、連結基板１０の下面に形成されて反り（ｗａｒｐａｇｅ）制御と放熱効果に寄与する。
【0026】
上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、微細回路の形成が容易となるように感光性絶縁層を用いることができる。上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、通常の樹脂絶縁層材料より表面粗さが低い感光性絶縁層、例えば、ガラスシートを含有しない感光性絶縁層を用いることができる。
【0027】
通常、電子部品間の連結のためにはシリコンインターポーザなどの高価な技術が必要であるが、本実施例によれば、一般の樹脂基板を用いることにより、熱膨張係数ミスマッチ（ｍｉｓｍａｔｃｈ）を最小化し密着力を向上させると共に安価なインターポーザの具現が可能となる。
【0028】
また、連結基板において回路基板の絶縁層に比べて相対的に厚いコア絶縁層を用いることにより、反り制御が容易となる。
【0029】
さらに、微細回路構造体を連結基板の一部に形成して新規工法の適用面積を小さくすることにより、投資費用を節減し既存のインフラを最大限に活用することができるという長所がある。
【0030】
一方、上記回路基板１００及び微細回路構造体１０Ａに用いられる回路層には、印刷回路基板分野で回路用伝導性物質として用いられるものであればいずれのものでも制限なく適用されることができる。例えば、上記回路層は、銅（Ｃｕ）で形成されることができる。
【0031】
また、上記連結基板１０の金属層１２は、通常の回路層と同一の物質で形成されることができる。
【0032】
上記回路基板１００及び連結基板１０のコア絶縁層１１に用いられる絶縁層には、通常、印刷回路基板において絶縁素材として用いられる絶縁樹脂であれば特に限定されず、エポキシ樹脂のような熱硬化性樹脂、ポリイミドのような熱可塑性樹脂、又はこれらにガラス繊維又は無機フィラーのような補強材が含浸された樹脂を用いることができる。例えば、上記絶縁層は、プリプレグ、ＡＢＦ（Ａｊｉｎｏｍｏｔｏ Ｂｕｉｌｄ−ｕｐ Ｆｉｌｍ）及びＦＲ−４、ＢＴ（Ｂｉｓｍａｌｅｉｍｉｄｅ Ｔｒｉａｚｉｎｅ）などの樹脂で形成されることができる。
【0033】
上記回路基板１００と連結基板１０の間には充填樹脂１６０が形成されることができる。上記充填樹脂１６０としては、通常、印刷回路基板の層間絶縁材として用いられる物質又はソルダレジストを用いることができる。
【0034】
さらに、上記回路基板１００及び連結基板１０の最外層上には、複数のパッド１１５、１２５を露出させる保護層として通常の液状又はフィルム型のソルダレジスト層１４０、１５０が形成されることができる。
【0035】
上記ソルダレジスト層は、最外層の回路パターンを保護し、電気的絶縁のために形成されるものであり、外部製品と接続される最外層のパッドを露出させるために開口部が形成される。
【0036】
上記ソルダレジスト層の開口部から露出したパッド上には表面処理層が選択的にさらに形成されることができる。
【0037】
上記表面処理層は、当業界に公知のものであれば特に限定されず、例えば、電解金メッキ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｇｏｌｄ Ｐｌａｔｉｎｇ）、無電解金メッキ（Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ Ｇｏｌｄ Ｐｌａｔｉｎｇ）、ＯＳＰ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｏｌｄｅｒａｂｉｌｉｔｙ Ｐｒｅｓｅｒｖａｔｉｖｅ）又は無電解スズメッキ（Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ Ｔｉｎ Ｐｌａｔｉｎｇ）、無電解銀メッキ（Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ Ｓｉｌｖｅｒ Ｐｌａｔｉｎｇ）、ＤＩＧメッキ（Ｄｉｒｅｃｔ Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ Ｇｏｌｄ Ｐｌａｔｉｎｇ）、ＨＡＳＬ（Ｈｏｔ Ａｉｒ Ｓｏｌｄｅｒ Ｌｅｖｅｌｌｉｎｇ）などによって形成されることができる。
【0038】
このような過程を経て形成されたパッドは、適用目的に応じて、ワイヤボンディング用パッド又はバンプ用パッドとして用いられるか又はハンダボールのような外部接続端子を装着するためのハンダボール用パッドとして用いられる。
【0039】
本実施例では、第１のパッド１２５に形成された外部接続端子としてハンダボール１７０を示した。
【0040】
図２は本発明の他の実施例による印刷回路基板を例示する断面図であり、重複する構成に関する説明は省略する。
【0041】
図２を参照すると、上記印刷回路基板は、回路基板１００と、上記回路基板１００を貫通して位置する連結基板１０と、を含む。
【0042】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と、上記コア絶縁層１１の両面に形成された微細回路構造体１０Ａを有し、上記両面の微細回路構造体１０Ａは、上記コア絶縁層１１を貫通するビア１５を介して電気的に連結される。
【0043】
上記微細回路構造体１０Ａは、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む。
【0044】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、上記回路基板１００の回路層に比べて小さいピッチの微細パターンを有するように形成される。
【0045】
上記微細回路構造体１０Ａはまた、層間回路層を連結させるためのビアを含む。
【0046】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、印刷回路基板に実装される複数の電子部品を連結する信号線の機能をする回路パターンを含むことができる。
【0047】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第２のパッド５２を含む。
【0048】
上記第２のパッド５２は、上記第１のパッド１１５、１２５より小さいピッチを有する。
【0049】
上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、微細回路の形成が容易となるように感光性絶縁層を用いることができる。上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、通常の樹脂絶縁層材料より表面粗さが低い感光性絶縁層、例えば、ガラスシートを含有しない感光性絶縁層を用いることができる。
【0050】
通常、電子部品間の連結のためにはシリコンインターポーザなどの高価な技術が必要であるが、本実施例によれば、一般の樹脂基板を用いることにより、熱膨張係数ミスマッチを最小化し密着力を向上させると共に安価なインターポーザの具現が可能となる。
【0051】
また、連結基板において回路基板の絶縁層に比べて相対的に厚いコア絶縁層を用いることにより、反り制御が容易となる。
【0052】
また、微細回路構造体を連結基板の両面の一部に形成して新規工法の適用面積を小さくすることにより、投資費用を節減し既存のインフラを最大限に活用することができる。さらに、両面適用が可能であるため、３Ｄ積層（ｓｔａｃｋｉｎｇ）と類似した効果が得られる。
【0053】
図３は本発明のさらに他の実施例による印刷回路基板を例示する断面図であり、重複する構成に関する説明は省略する。
【0054】
図３を参照すると、上記印刷回路基板は、回路基板１００と、上記回路基板１００を貫通して位置する連結基板１０と、を含む。
【0055】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と上記コア絶縁層１１の上面に微細回路構造体１０Ａを有し、下面に金属層１２を有する。
【0056】
上記回路基板１００と連結基板１０の回路層１１３、４３上にはそれぞれビルドアップ絶縁層１３０とビルドアップ回路層１３９を含む一つ以上のビルドアップ層が形成される。
【0057】
さらに、最外層のビルドアップ回路層１３９上には、複数のパッド１３５、１３７を露出させる保護層として通常の液状又はフィルム型のソルダレジスト層２４０が形成されることができる。
【0058】
本実施例によれば、回路基板１００と連結基板１０上に同時にビルドアップ層が形成されることにより、実際に適用される製品によってデザイン自由度を向上させることができるという長所がある。
【0060】
図４を参照すると、上記印刷回路基板は、回路基板１００と、上記回路基板１００を貫通して位置する連結基板１０と、を含む。
【0061】
上記回路基板１００としては、通常のコアレス基板、即ち、薄板の基板を用いることができる。
【0062】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と上記コア絶縁層１１の上面に微細回路構造体１０Ａを有し、下面に金属層１２を有する。
【0063】
図５を参照すると、上記印刷回路基板は、回路基板１００と、上記回路基板１００を貫通して位置する連結基板１０と、を含む。
【0064】
上記回路基板１００としては、通常のコアレス基板、即ち、薄板の基板を用いることができる。
【0065】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と、上記コア絶縁層１１の両面に形成された微細回路構造体１０Ａを有し、上記両面の微細回路構造体１０Ａは、上記コア絶縁層１１を貫通するビア１５を介して電気的に連結される。
【0067】
図６を参照すると、上記電子部品モジュールは、印刷回路基板に搭載された電子部品５０１、５０２を含む。
【0068】
上記印刷回路基板は、貫通部１０１を有する回路基板１００と、上記貫通部１０１に収容される連結基板１０と、を含む。
【0069】
上記回路基板１００は、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む多層印刷回路基板である。例えば、上記回路基板１００としては、通常のコア基板を含むＢＧＡ基板を用いることができる。
【0070】
上記回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第１のパッド１１５、１２５を含む。
【0071】
上記第１のパッド１１５上にはフリップチップボンディングによって電子部品５０１、５０２が搭載され、上記第１のパッド１２５上には外部接続端子としてハンダボール１７０が実装され、上記ハンダボール１７０を介して、例えば、メインボード（図示せず）のような外部製品と接続される。
【0072】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と上記コア絶縁層１１の上面に微細回路構造体１０Ａを有し、下面に金属層１２を有する。
【0073】
上記微細回路構造体１０Ａは、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む。
【0074】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、上記回路基板１００の回路層に比べて小さいピッチの微細パターンを有するように形成される。
【0075】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、印刷回路基板に実装される複数の電子部品を連結する信号線の機能をする回路パターンを含む。
【0076】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第２のパッド４２を含む。
【0077】
上記第２のパッド４２は、上記第１のパッド１１５、１２５より小さいピッチを有する。
【0078】
上記金属層１２は、連結基板１０の下面に形成されて反り制御と放熱効果に寄与する。
【0079】
上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、微細回路の形成が容易となるように感光性絶縁層を用いることができる。上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、通常の樹脂絶縁層材料より表面粗さが低い感光性絶縁層、例えば、ガラスシートを含有しない感光性絶縁層を用いることができる。
【0080】
上記電子部品５０１、５０２は、回路基板１００の第１のパッド１１５及び連結基板１０の第２のパッド４２に連結されて印刷回路基板に搭載される。
【0081】
上記電子部品５０１、５０２は受動素子と能動素子のような多様な電子素子を含み、通常、印刷回路基板上に実装されるか又は内部に内蔵されることができる電子素子であれば特に制限なく適用可能である。
【0082】
上記電子部品５０１、５０２は、上記微細回路構造体１０Ａに形成された信号線を介して相互に連結される。
【0083】
通常、電子部品間の連結のためにはシリコンインターポーザなどの高価な技術が必要であるが、本実施例によれば、一般の樹脂基板を用いることにより、熱膨張係数ミスマッチ（ｍｉｓｍａｔｃｈ）を最小化し密着力を向上させると共に安価なインターポーザの具現が可能となる。
【0084】
また、連結基板において回路基板の絶縁層に比べて相対的に厚いコア絶縁層を用いることにより、反り制御が容易となる。
【0085】
さらに、微細回路構造体を連結基板の一部に形成して新規工法の適用面積を小さくすることにより、投資費用を節減し既存のインフラを最大限に活用することができるという長所がある。
【0086】
図７は本発明の他の実施例による電子部品モジュールを例示する断面図であり、重複する構成に関する説明は省略する。
【0087】
図７を参照すると、上記電子部品モジュールは、印刷回路基板に搭載された電子部品５０１、５０２、５０３を含む。
【0088】
上記印刷回路基板は、貫通部１０１を有する回路基板１００と、上記貫通部１０１に収容される連結基板１０と、を含む。
【0089】
上記回路基板１００は、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む多層印刷回路基板である。例えば、上記回路基板１００としては、通常のコア基板を含むＢＧＡ基板を用いることができる。
【0090】
上記回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第１のパッド１１５、１２５を含む。
【0091】
上記第１のパッド１１５上にはフリップチップボンディングによって電子部品５０１、５０２が搭載され、上記第１のパッド１２５上には外部接続端子としてハンダボール１７０が実装され、上記ハンダボール１７０を介して、例えば、メインボード（図示せず）のような外部製品と接続される。
【0092】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と、上記コア絶縁層１１の両面に形成された微細回路構造体１０Ａを有し、上記両面の微細回路構造体１０Ａは、上記コア絶縁層１１を貫通するビア１５を介して電気的に連結される。
【0093】
上記微細回路構造体１０Ａは、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む。
【0094】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、上記回路基板１００の回路層に比べて小さいピッチの微細パターンを有するように形成される。
【0095】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、印刷回路基板に実装される複数の電子部品を連結する信号線の機能をする回路パターンを含む。
【0096】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第２のパッド５２を含む。
【0097】
上記第２のパッド５２は、上記第１のパッド１１５、１２５より小さいピッチを有する。
【0098】
上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、微細回路の形成が容易となるように感光性絶縁層を用いることができる。上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、通常の樹脂絶縁層材料より表面粗さが低い感光性絶縁層、例えば、ガラスシートを含有しない感光性絶縁層を用いることができる。
【0099】
上記電子部品５０１、５０２は、回路基板１００の第１のパッド１１５及び連結基板１０の第２のパッド５２に連結されて印刷回路基板の上面に搭載され、上記電子部品５０３は、上記連結基板１０の第２のパッド５２に連結されて印刷回路基板の下面に搭載される。
【0100】
上記電子部品５０１、５０２、５０３は受動素子と能動素子のような多様な電子素子を含み、通常、印刷回路基板上に実装されるか又は内部に内蔵されることができる電子素子であれば特に制限なく適用可能である。
【0101】
通常、電子部品間の連結のためにはシリコンインターポーザなどの高価な技術が必要であるが、本実施例によれば、一般の樹脂基板を用いることにより、熱膨張係数ミスマッチを最小化し密着力を向上させると共に安価なインターポーザの具現が可能となる。
【0102】
また、連結基板において回路基板の絶縁層に比べて相対的に厚いコア絶縁層を用いることにより、反り制御が容易となる。
【0103】
また、微細回路構造体を連結基板の両面の一部に形成して新規工法の適用面積を小さくすることにより、投資費用を節減し既存のインフラを最大限に活用することができる。さらに、両面適用が可能であるため、３Ｄ積層（ｓｔａｃｋｉｎｇ）と類似した効果が得られる。
【0104】
印刷回路基板／電子部品モジュールの製造方法図８は、本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を示すフローチャートであり、図９〜図２２は、本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【0105】
図８を参照すると、上記製造方法は、貫通部を有する回路基板を準備する段階Ｓ１０１と、連結基板を準備する段階Ｓ１０２と、貫通部に連結基板を収容する段階Ｓ１０３と、ソルダレジスト層を形成する段階Ｓ１０４と、素子を実装する段階Ｓ１０５と、を含む。
【0108】
まず、図９を参照すると、両面に金属層１２を有するコア絶縁層１１を準備する。
【0109】
上記コア絶縁層１１には、通常、印刷回路基板において絶縁素材として用いられる絶縁樹脂であれば特に限定されず、エポキシ樹脂のような熱硬化性樹脂、ポリイミドのような熱可塑性樹脂、又はこれらにガラス繊維又は無機フィラーのような補強材が含浸された樹脂を用いることができる。例えば、上記絶縁層は、プリプレグ、ＡＢＦ（Ａｊｉｎｏｍｏｔｏ Ｂｕｉｌｄ−ｕｐ Ｆｉｌｍ）及びＦＲ−４、ＢＴ（Ｂｉｓｍａｌｅｉｍｉｄｅ Ｔｒｉａｚｉｎｅ）などの樹脂で形成されることができる。
【0110】
上記金属層１２は、通常の回路層と同一の物質で形成されることができる。例えば、上記回路層は、銅（Ｃｕ）で形成されることができる。
【0111】
上記両面に金属層１２を有するコア絶縁層１１として、例えば、通常の両面銅張積層板を用いることができる。
【0112】
次に、図１０を参照すると、上記コア絶縁層１１の上面に所定の開口部１１０１を有するようにパターン化されたメッキレジスト層１１００を形成する。
【0113】
上記メッキレジスト層１１００には、通常の液状又はフィルム型のドライフィルムを用いることができる。
【0114】
また、図示されてはいないが、メッキレジスト層１１００を形成する前に、上記上面の金属層１２をハーフエッチング（ｈａｌｆ−ｅｔｃｈｉｎｇ）した後、無電解メッキによってシード層を形成することができる。
【0115】
次に、図１１を参照すると、無電解及び／又は電解金属メッキによって上記開口部１１０１に第１の回路層１３を形成する。
【0116】
次に、図１２を参照すると、メッキレジスト層１１００を除去し、図１３を参照すると、第１の感光性絶縁層２１を適用した後、通常の露光及び現像を含むフォトリソグラフィー工程を経てビアホールを形成する。
【0117】
次に、図１４を参照すると、無電解及び電解金属メッキによって第２の回路層２２を形成する。
【0118】
次に、図１５を参照すると、第２の感光性絶縁層３１を形成した後、第３の回路層３２を形成し、図１６を参照すると、第３の感光性絶縁層４１を形成した後、第２のパッド４２を含む第４の回路層を形成する。
【0119】
本実施例では、微細回路構造体の一例として４層の回路層を示したが、実際に適用される製品によって回路層の数は多様に変更可能である。また、当業界に公知の回路形成方法であれば特に限定されず、ＳＡＰ（ｓｅｍｉ ａｄｄｉｔｉｖｅ ｐｒｏｃｅｓｓ）、ＭＳＡＰ（ｍｏｄｉｆｉｅｄ ｓｅｍｉ ａｄｄｉｔｉｖｅ ｐｒｏｃｅｓｓ）、アディティブ工法（ａｄｄｉｔｉｖｅ ｐｒｏｃｅｓｓ）、サブトラクティブ工法（ｓｕｂｔｒａｃｔｉｖｅ ｐｒｏｃｅｓｓ）などによって形成可能である。
【0120】
上記のような過程を経て、コア絶縁層１１の上面に微細回路構造体１０Ａが形成され、上記コア絶縁層１１の下面に金属層１２が形成された連結基板１０を準備する。
【0121】
ここで、上記下面の金属層１２は、放熱機能などの目的に応じて厚さが調節されることができる。
【0122】
次に、図１７を参照すると、回路基板１００として、貫通部１０１を有する印刷回路基板を準備する。
【0123】
上記回路基板１００は、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む多層印刷回路基板である。上記回路基板１００としては、例えば、ＢＧＡ（ｂａｌｌ ｇｒｉｄ ａｒｒａｙ）用基板を用いることができる。
【0124】
上記回路基板１００はまた、層間回路層を連結させるためのブラインドビア及び貫通ビアを含む。
【0125】
上記回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第１のパッド１１５、１２５を有する。
【0126】
上記回路基板１００の貫通部１０１は、回路基板１００に連結基板１０を収容するために穿孔される領域であり、連結基板１０が容易に挿入されることができるようにそのサイズ及び形状が決定される。
【0127】
上記貫通部１０１の穿孔は、特に限定されず、一例として機械的ドリル加工などによって行われることができる。
【0128】
上記回路基板１００の上面には、最外層の第１のパッド１１５を露出させる第１のソルダレジスト層１４０が形成される。
【0129】
一方、本実施例では、本段階で第１のソルダレジスト層１４０が形成されることを説明したが、特にこれに限定されない。
【0130】
例えば、あとでキャリアフィルムを除去してから、上記回路基板と上記回路基板に収容される連結基板の上面に同時にビルドアップ層を形成した後、その上面に第１のソルダレジスト層１４０を形成してもよい。
【0131】
次に、図１８を参照すると、上記回路基板１００の上面にキャリアフィルム１０００を付着する。
【0132】
上記キャリアフィルム１０００は、回路基板１００と、あとで挿入される連結基板１０を安定して載置することができる支持台の役割をする部材であり、支持台の役割をすると共に着脱が容易な材料であれば特に制限なく適用可能である。
【0133】
例えば、上記キャリアフィルム１０００としては、熱を加える場合に接着力がなくなり非接着性を示す接着部材を用いることができる。この場合、基板の固定が容易であり、除去も熱処理によって容易に行うことができるという長所がある。例えば、上記熱処理の際に非接着性を示す接着剤としてはウレタン発泡テープなどがあるが、特にこれに限定されない。
【0134】
次に、図１９を参照すると、連結基板１０を上記回路基板１００の貫通部１０１に収容する。
【0135】
次に、図２０を参照すると、キャリアフィルム１０００が付着されていない回路基板１００及び連結基板１０の下面に第２のソルダレジスト層１５０を形成し、複数の第１のパッド１２５を露出させる開口部を形成する。
【0136】
また、図示されてはいないが、上記ソルダレジスト層を形成する前に、必要に応じて、ビルドアップ回路層及び／又はビルドアップ絶縁層を含むビルドアップ層をさらに形成することができる。
【0137】
また、上記ソルダレジスト層の開口部から露出した第１のパッド１２５上には、選択的に表面処理層を形成することができる。
【0138】
ここで、上記回路基板１００の貫通部１０１と連結基板１０の間には充填樹脂１６０が形成される。
【0139】
上記充填樹脂１６０は、別途の樹脂充填過程を経て形成されるか、又は上記最外層上にソルダレジスト層を形成する過程で空いた空間にソルダレジストを充填することにより形成されることができる。
【0140】
次に、図２１を参照すると、露出した第１のパッド１２５上に外部接続端子としてハンダボール１７０を実装する。
【0141】
上記のようなハンダボール１７０を介して、あとで他の電子部品、上下部パッケージ又はマザーボードのような外部製品との接続が可能である。
【0142】
次に、図２２を参照すると、キャリアフィルム１０００を除去し、印刷回路基板の上面に電子部品５０１、５０２を搭載する。
【0143】
上記電子部品５０１、５０２は、第１のパッド１１５と第２のパッド４２に接続されて搭載される。
【0144】
上記電子部品５０１、５０２は、上記連結基板１０の微細回路構造体１０Ａに具現された信号線によって相互に連結される。
【0145】
図２３は、本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を示すフローチャートであり、図２４〜図３８は、本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【0146】
図２３を参照すると、上記製造方法は、貫通部を有する回路基板を準備する段階Ｓ２０１と、連結基板を準備する段階Ｓ２０２と、貫通部に連結基板を収容する段階Ｓ２０３と、ソルダレジスト層を形成する段階Ｓ２０４と、素子を実装する段階Ｓ２０５と、を含む。
【0149】
まず、図２４を参照すると、コア絶縁層１１を準備する。
【0150】
次に、図２５を参照すると、上記コア絶縁層１１を貫通する貫通孔１１Ａを形成する。
【0151】
上記貫通孔１１Ａは、例えば、コア絶縁層１１の両面をレーザードリル加工することにより形成されることができる。
【0152】
本実施例では、砂時計状の貫通孔を例示したが、特にこれに限定されない。
【0153】
次に、図２６を参照すると、無電解及び電解金属メッキによって、上記貫通孔１１Ａを含めてコア絶縁層１１の両面に第１の回路層１３を形成する。
【0154】
上記第１の回路層１３は、コア絶縁層１１を貫通するビア１５を含む。
【0155】
次に、図２７を参照すると、第１の感光性絶縁層２１を適用した後、通常の露光及び現像を含むフォトリソグラフィー工程を経てビアホールを形成する。
【0156】
次に、図２８を参照すると、無電解及び電解金属メッキによって第２の回路層２２を形成する。
【0158】
最後に、図３２を参照すると、第４の感光性絶縁層５１を形成した後、第２のパッド５２を含む第５の回路層を形成する。
【0159】
上記のような過程を経て、コア絶縁層１１の両面に微細回路構造体１０Ａが形成された連結基板１０を準備する。
【0160】
次に、図３３を参照すると、回路基板１００として、貫通部１０１を有する印刷回路基板を準備する。
【0161】
一方、本実施例では、本段階で回路基板１００に第１のソルダレジスト層１４０が形成されることを図示したが、特にこれに限定されない。
【0162】
例えば、あとでキャリアフィルムを除去してから、上記回路基板と上記回路基板に収容される連結基板の上面に同時にビルドアップ層を形成した後、その上面に第１のソルダレジスト層１４０を形成してもよい。
【0163】
次に、図３４を参照すると、上記回路基板１００の上面にキャリアフィルム１０００を付着する。
【0164】
次に、図３５を参照すると、連結基板１０を上記回路基板１００の貫通部１０１に収容する。
【0165】
次に、図３６を参照すると、キャリアフィルム１０００が付着されていない回路基板１００及び連結基板１０の下面に第２のソルダレジスト層１５０を形成し、複数の第１のパッド１２５を露出させる開口部を形成する。
【0166】
次に、図３７を参照すると、露出した第１のパッド１２５上に外部接続端子としてハンダボール１７０を実装する。
【0167】
上記のようなハンダボール１７０を介して、あとで他の電子部品、上下部パッケージ又はマザーボードのような外部製品との接続が可能である。
【0168】
一方、本実施例では、キャリアフィルム１０００を除去する前に第２のソルダレジスト層１５０を形成しハンダボール１７０を実装する場合を一例として説明したが、特にこれに限定されない。
【0169】
例えば、キャリアフィルム１０００を除去した後、第２のソルダレジスト層１５０を形成しハンダボール１７０を実装してもよい。
【0170】
次に、図３８を参照すると、キャリアフィルム１０００を除去し、印刷回路基板の両面に電子部品５０１、５０２、５０３を搭載する。
【0171】
上記電子部品５０１、５０２は、第１のパッド１１５と第２のパッド５２に接続されて印刷回路基板の上面に搭載される。
【0172】
上記電子部品５０１、５０２は、上記連結基板１０の微細回路構造体１０Ａに具現された信号線によって相互に連結される。
【0173】
また、上記電子部品５０３は、第２のパッド５２に接続されて印刷回路基板の下面に搭載される。
【0174】
上記複数の電子部品５０１、５０２、５０３はまた、微細回路構造体１０Ａに具現された回路パターンによって相互に連結されることができる。
【0175】
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様な修正及び変形が可能であるということは、当技術分野の通常の知識を有する者には明らかである。
【符号の説明】
【0176】
１００ 回路基板１０１ 貫通部
１１５、１２５ 第１のパッド
１３０ ビルドアップ絶縁層
１３９ ビルドアップ回路層
１４０、１５０、２４０ ソルダレジスト層
１６０ 充填樹脂
１７０ ハンダボール
５０１、５０２、５０３ 電子部品
１０ 連結基板
１０Ａ 微細回路構造体
１１ コア絶縁層
１２ 金属層
１５ ビア
４２、５２ 第２のパッド