(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
【発明を実施するための形態】
【0026】
以下、本発明を具体的に説明するために実施形態を挙げて説明し、発明に対する理解を助けるために、添付の図面を参照して詳細に説明する。しかし、本発明に係る実施形態は、様々な形態に変形可能であり、本発明の範囲が、以下に詳述する実施形態に限定されるものと解釈されてはならない。本発明の実施形態は、当業界で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。
【0027】
本発明に係る実施形態の説明において、各構成要素(element)の「上(上部)または下(下部)(on or under)」に形成されると記載される場合において、上(上部)または下(下部)は、2つの構成要素が互いに直接(directly)接触したり、一つ以上の他の構成要素が前記2つの構成要素の間に配置されて(indirectly)形成されることを全て含む。また、「上(上部)」または「下(下部)」と表現される場合、一つの構成要素を基準にして上側方向のみならず、下側方向の意味も含むことができる。
【0028】
また、以下で使用される「第1」及び「第2」、「上部」及び「下部」などのような関係的用語は、かかる実体または要素間のいかなる物理的又は論理的関係、または順序を必ず要求したり、内包したりすることなく、ある一つの実体または要素を他の実体または要素と区別するためにのみ用いることもできる。
【0029】
図面において、各層の厚さや大きさは、説明の便宜及び明確性のために誇張されたり、省略されたり、又は概略的に図示されている。また、各構成要素の大きさは実際の大きさを全的に反映するものではない。
【0030】
図2は、実施形態に係る発光素子100Aの平面図を示し、
図3は、
図2に示されたA−A’線に沿って切断した断面図を示す。
【0031】
図2及び
図3を参照すると、実施形態に係る発光素子100Aは、基板110、バッファ層112、発光構造物120、第1及び第2電極132,134、サブマウント140、保護層142、第1及び第2金属パッド152,154、第1バンプ162−1〜162−4及び第2バンプ164−1〜164−5を含む。説明の便宜上、
図2に示された発光素子100Aにおいて、
図3に示された第1及び第2電極132,134の図示は省略した。
【0032】
基板110は透光性物質を含むことができる。例えば、基板110は、サファイア(Al
2O
3)、GaN、SiC、ZnO、GaP、InP、Ga
2O
3、GaAsまたはSiのうち少なくとも一つを含むことができる。
【0033】
バッファ層112は、基板110と発光構造物120との間の熱膨張係数の差及び格子不整合を改善するために、これら110,120の間に配置することができる。バッファ層112は、透光性物質を含むことができ、例えば、Al、In、N及びGaで構成される群から選択される少なくとも一つの物質を含むことができるが、これに限定されない。また、バッファ層112は、単層または多層構造を有してもよい。場合によって、バッファ層112は省略してもよい。
【0034】
発光構造物120は、基板110の下に配置され、第1導電型半導体層122、活性層124及び第2導電型半導体層126を含む。
【0035】
第1導電型半導体層122は、活性層124の下に配置され、半導体化合物で形成することができる。III−V族またはII−VI族などの化合物半導体で具現することができる。例えば、第1導電型半導体層122は、In
xAl
yGa
1−x−yN(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1)の組成式を有する半導体物質を含むことができる。第1導電型半導体層122には第1導電型ドーパントがドープされてもよい。第1導電型半導体層122がp型半導体層である場合、第1導電型ドーパントは、p型ドーパントとして、Mg、Zn、Ca、Sr、Baなどを含むことができる。
【0036】
活性層124は、第1導電型半導体層122と第2導電型半導体層126との間に配置され、第1導電型半導体層122を介して注入される正孔(または、電子)と第2導電型半導体層126を介して注入される電子(または、正孔)とが互いに会って(再結合)、活性層124をなす物質固有のエネルギーバンドによって決定されるエネルギーを有する光を放出する層である。活性層124は、単一井戸構造、多重井戸構造、単一量子井戸構造、多重量子井戸構造(MQW:Multi Quantum Well)、量子線(Quantum−Wire)構造、または量子点(Quantum Dot)構造のうち少なくともいずれか一つで形成することができる。
【0037】
活性層124の井戸層/障壁層は、InGaN/GaN、InGaN/InGaN、GaN/AlGaN、InAlGaN/GaN、GaAs(InGaAs)/AlGaAs、GaP(InGaP)/AlGaPのいずれか一つ以上のペア構造で形成することができるが、これに限定されない。井戸層は、障壁層のバンドギャップエネルギーよりも低いバンドギャップエネルギーを有する物質で形成することができる。
【0038】
活性層124の上または/及び下には導電型クラッド層(図示せず)を形成することができる。導電型クラッド層は、活性層124の障壁層のバンドギャップエネルギーよりも高いバンドギャップエネルギーを有する半導体で形成することができる。例えば、導電型クラッド層は、GaN、AlGaN、InAlGaNまたは超格子構造などを含むことができる。また、導電型クラッド層は、n型またはp型にドープされてもよい。例えば、活性層124は、100nm〜400nm、例えば、100nm〜280nmの紫外線波長帯域の光を放出することができる。
【0039】
第2導電型半導体層126は、バッファ層112と活性層124との間に配置され、第2導電型ドーパントがドープされたIII−V族またはII−VI族などの化合物半導体で具現することができる。第2導電型半導体層126がn型半導体層である場合、第2導電型ドーパントは、n型ドーパントとして、Si、Ge、Sn、Se、Teを含むことができるが、これに限定されない。
【0040】
第2導電型半導体層126は、透光性物質を含むことができ、例えば、Al
xIn
yGa
(1−x−y)N(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1)の組成式を有する半導体物質を含むことができる。第2導電型半導体層126は、GaN、InN、AlN、InGaN、AlGaN、InAlGaN、AlInN、AlGaAs、InGaAs、AlInGaAs、GaP、AlGaP、InGaP、AlInGaP、InPのいずれか一つ以上を含むことができる。
【0041】
第1導電型半導体層122はp型半導体層で、第2導電型半導体層126はn型半導体層で具現することができる。または、第1導電型半導体層122はn型半導体層で、第2導電型半導体層126はp型半導体層で具現してもよい。
【0042】
発光構造物120は、n−p接合構造、p−n接合構造、n−p−n接合構造、p−n−p接合構造のいずれか一つの構造で具現することができる。
【0043】
第1電極132は第1導電型半導体層122の下に配置される。第2電極134は、メサエッチング(Mesa etching)により露出された第2導電型半導体層126の下に配置される。
【0044】
第1及び第2電極132,134のそれぞれは、活性層124から放出された光を吸収せずに反射させたり透過させたりすることができ、第1及び第2導電型半導体層122,126の下に良質に成長することができれば、いずれの物質で形成されてもよい。例えば、第1及び第2電極132,134のそれぞれは金属で形成することができ、Ag、Ni、Al、Rh、Pd、Ir、Ru、Mg、Zn、Pt、Au、Hf及びこれらの選択的な組み合わせからなることができる。
【0045】
特に、第1電極132は、透明伝導性酸化膜(TCO:Tranparent Conductive Oxide)であってもよい。例えば、第1電極132は、前述した金属物質と、ITO(indium tin oxide)、IZO(indium zinc oxide)、IZTO(indium zinc tin oxide)、IAZO(indium aluminum zinc oxide)、IGZO(indium gallium zinc oxide)、IGTO(indium gallium tin oxide)、AZO(aluminum zinc oxide)、ATO(antimony tin oxide)、GZO(gallium zinc oxide)、IrOx、RuOx、RuOx/ITO、Ni/IrOx/Au、及びNi/IrOx/Au/ITOのうち少なくとも一つを含むことができ、これらの材料に限定されない。
【0046】
また、第1電極132は、オーミック特性を有する反射電極材料で単層または多層に形成することができる。もし、第1電極132がオーミックの役割を果たす場合、別途のオーミック層(図示せず)は形成しなくてもよい。
【0047】
第2電極134は、オーミック接触する物質を含んでオーミックの役割を果たすことで、別途のオーミック層(図示せず)を配置しなくてもよく、別途のオーミック層が第2電極134と第2導電型半導体層126との間に配置されてもよい。
【0048】
一方、サブマウント140は、AlN、BN、炭化ケイ素(SiC)、GaN、GaAs、Siなどの半導体基板からなることができ、これに限定されず、熱伝導度に優れた半導体物質からなってもよい。また、サブマウント140内にツェナーダイオード形態の静電気(ESD:Electro Static Discharge)防止のための素子が含まれていてもよい。
【0049】
もし、サブマウント140が、Siのように電気的伝導性を有する物質で具現された場合、
図3に例示したように、第1及び第2金属パッド152,154とサブマウント140との間に保護層142がさらに配置されてもよい。ここで、保護層142は絶縁物質からなることができる。
【0050】
第1及び第2金属パッド152,154は、サブマウント140上に互いに電気的に離隔して配置される。第1バンプ162−1〜162−4は、第1電極132と第1金属パッド152との間に配置される。第2バンプ164−1〜164−5は、第2電極134と第2金属パッド154との間に配置される。
【0051】
第1電極132は、第1バンプ162−1〜162−4を介してサブマウント140上の第1金属パッド152に電気的に接続され、第2電極134は、第2バンプ164−1〜164−5を介してサブマウント140上の第2金属パッド154に電気的に接続される。
【0052】
図示していないが、第1電極132と第1バンプ162−1〜162−4との間に第1上部バンプ金属層(図示せず)がさらに配置され、第1金属パッド152と第1バンプ162−1〜162−4との間に第1下部バンプ金属層(図示せず)がさらに配置されてもよい。ここで、第1上部バンプ金属層及び第1下部バンプ金属層は、第1バンプ162−1〜162−4が位置する箇所を表示する役割を果たす。これと同様に、第2電極134と第2バンプ164−1〜164−5との間に第2上部バンプ金属層(図示せず)がさらに配置され、第2金属パッド154と第2バンプ164−1〜164−5との間に第2下部バンプ金属層(図示せず)がさらに配置されてもよい。ここで、第2上部バンプ金属層及び第2下部バンプ金属層は、第2バンプ164−1〜164−5が位置する箇所を表示する役割を果たす。
【0053】
図1A及び
図1Bに例示された既存の発光素子の場合とは異なり、実施形態に係る
図2及び
図3に例示された発光素子100Aの場合、複数のアクティブ(active)領域A1〜A4は、互いに離隔して配置された平面形状を有する。すなわち、複数のアクティブ領域A1〜A4は、互いに重なったり、重畳したりしない。ここで、アクティブ領域A1〜A4とは、第1導電型半導体層122及び活性層124が配置された領域を意味する。
【0054】
図2を参照すると、第2バンプ164−1〜164−5は、複数のアクティブ領域A1〜A4の間に配置された平面形状を有する。すなわち、第2バンプ164−1はアクティブ領域A1,A2の間に配置され、第2バンプ164−2はアクティブ領域A2,A3の間に配置され、第2バンプ164−3はアクティブ領域A3,A4の間に配置され、第2バンプ164−4はアクティブ領域A4,A1の間に配置され、第2バンプ164−5はアクティブ領域A2,A4の間及びアクティブ領域A1,A3の間に配置された平面形状を有する。
【0055】
複数のアクティブ領域A1〜A4が互いに離隔した第1距離d11〜d14が、300μmより大きい場合、光量が低下することがあり、60μmより小さい場合、第2バンプ164−1〜164−5を配置するための空間確保が難しいことがある。したがって、複数のアクティブ領域A1〜A4が互いに離隔した第1距離d11〜d14は、60μm〜300μmであってもよいが、実施形態はこれに限定されない。
【0056】
ここで、複数の第1距離d11〜d14は互いに同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
【0057】
また、複数のアクティブ領域A1〜A4のそれぞれが、発光素子100Aのエッジ172〜178から、100μmよりも大きい第2距離d21〜d24だけ離隔する場合、光量の改善効果が極めて小さく、10μmよりも小さい場合、発光素子100Aの順方向駆動電圧(Vf)が上昇することもある。したがって、複数のアクティブ領域A1〜A4のそれぞれが発光素子100Aのエッジ172〜178から離隔した第2距離d21〜d24は、10μm〜100μmであればよい。すなわち、アクティブ領域A1,A4が発光素子100Aのエッジ172から離隔した第2距離d21、アクティブ領域A3,A4が発光素子100Aのエッジ174から離隔した第2距離d22、アクティブ領域A2,A3が発光素子100Aのエッジ176から離隔した第2距離d23及びアクティブ領域A1,A2が発光素子100Aのエッジ178から離隔した第2距離d24のそれぞれは、10μm〜100μmであってもよいが、実施形態はこれに限定されない。
【0058】
ここで、複数の第2距離d21〜d24は互いに同一であってもよく、互いに異なっていてもよい。
【0059】
また、複数のアクティブ領域A1〜A4は、互いに等間隔に離隔しながら発光素子100Aの周縁に配置された平面形状を有することができる。すなわち、
図2を参照すると、アクティブ領域A1,A2が離隔した第1距離d11と、アクティブ領域A2,A3が離隔した第1距離d12と、アクティブ領域A3,A4が離隔した第1距離d13及びアクティブ領域A4,A1が離隔した第1距離d14は、互いに同一であってもよいが、実施形態はこれに限定されない。他の実施形態によれば、複数の第1距離d11〜d14は互いに異なっていてもよい。
図1A及び
図1Bに例示された既存の発光素子において、アクティブ領域20,22は発光素子の中心に位置する反面、
図2に例示された実施形態の発光素子100Aにおいて、アクティブ領域は発光素子100Aの周縁に配置される。
【0060】
図4A及び
図4Bは、他の実施形態に係る発光素子100B1,100B2の平面図を示し、
図5は、
図4Aに示されたB−B’線に沿って切断した断面図を示す。
図4Aに示された発光素子100B1において、
図5に示された第1及び第2電極132,134の図示は省略した。
【0061】
図2及び
図3に例示された発光素子100Aとは異なり、
図4A、
図4B及び
図5に例示された発光素子100B1,100B2は反射層180をさらに含む。その他には、
図4A、
図4B及び
図5に例示された発光素子100B1,100B2は、
図2及び
図3に例示された発光素子100Aとそれぞれ同一であるので、同一部分については重複説明を省略する。
【0062】
図4A、
図4B及び
図5を参照すると、発光素子100B1,100B2は、基板110、バッファ層112、発光構造物120、第1及び第2電極132,134、サブマウント140、保護層142、第1及び第2金属パッド152,154、第1バンプ162−1〜162−4、第2バンプ164−1〜164−5、及び反射層180を含む。
【0063】
図4A及び
図5に示すように、反射層180は、第2バンプ164−1〜164−5と第2導電型半導体層126との間に配置することができる。または、
図4Bに示された発光素子100B2でのように、反射層180は、アクティブ領域A1,A2,A3,A4を取り囲む環状の平面形状をもって第2導電型半導体層126上に配置されてもよい。
【0064】
反射層180は、活性層124から放出された光を反射させて発光効率を改善する役割を果たす。反射層180は、光を反射することができる反射性物質からなることができる。例えば、反射層180は、銀(Ag)、ニッケル(Ni)、アルミニウム(Al)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、イリジウム(Ir)、ルテニウム(Ru)、マグネシウム(Mg)、亜鉛(Zn)、白金(Pt)、金(Au)、ハフニウム(Hf)及びこれらのうち2つ以上の合金で構成された物質のうち、単層または複数の層で形成することができる。
【0065】
図6A乃至
図6Cは、更に他の実施形態に係る発光素子100C,100D,100Eの平面図を示す。
【0066】
前述した
図2、
図4A及び
図4Bに例示された発光素子100A,100B1,100B2において、第1バンプ162−1〜162−4の個数は4個であり、第2バンプ164−1〜164−5の個数は5個であり、発光素子100Aの平面形状は四角形であるが、実施形態はこれに限定されない。
【0067】
すなわち、発光素子100C〜100Eは、四角形以外にも様々な多角形の平面形状を有することができ、第1及び第2バンプのそれぞれの個数は多様に変更することができる。また、アクティブ領域は、多角形の角部付近または多角形の中央のうち少なくとも1箇所に配置することができる。
【0068】
例えば、
図6Aに例示したように、発光素子100Cは三角形の平面形状を有し、アクティブ領域A1,A2,A3は三角形の角部付近に配置することができる。この場合、第1バンプ162の個数は3個であり、第2バンプ164の個数は3個であるが、実施形態はこれに限定されない。
【0069】
または、
図6Bに例示したように、発光素子100Dは五角形の平面形状を有し、アクティブ領域A1〜A5は五角形の角部付近に配置され、アクティブ領域A6は五角形の中央に配置されてもよい。この場合、第1バンプ162の個数は6個であり、第2バンプ164の個数は5個であるが、実施形態はこれに限定されない。
【0070】
または、
図6Cに例示したように、発光素子100Eは六角形の平面形状を有し、アクティブ領域A1〜A6は六角形の角部付近に配置され、アクティブ領域A7は六角形の中央に配置されてもよい。この場合、第1バンプ162の個数は7個であり、第2バンプ164の個数は8個であるが、実施形態はこれに限定されない。
【0071】
前述した実施形態でのように、発光素子100A〜100Eにおいてアクティブ領域を多角形の平面形状の中央よりは角部に配置することによって、光度を向上させることができる。
【0072】
例えば、アクティブ領域が多角形の平面形状の一方に偏って配置される、例えば
図1Bと比較するとき、実施形態でのようにアクティブ領域を角部に均一に分散配置する場合、光度を向上させることができる。
【0073】
また、発光素子の限定された平面の大きさにおいて、アクティブ領域に配置される第1バンプの数が増加するほど放熱特性を改善することができる。すなわち、アクティブ領域の数が多いほど放熱特性を改善することができる。しかし、
図1A及び
図1Bに示すように、アクティブ領域20,22の重なった部分50〜60で放熱が低下する現象が発生する。
【0074】
実施形態によれば、
図2、
図4A、
図4B、
図6A乃至
図6Cに例示したように、複数のアクティブ領域A1〜A7が、互いに離隔して、重なった部分50〜60なしに配置された平面形状を有するので、放熱特性を改善することができる。
【0075】
図7A乃至
図7Cは、既存及び実施形態の発光素子における放熱を撮影した写真である。すなわち、
図7A及び
図7Bは、
図1A及び
図1Bに示された既存の発光素子の平面写真をそれぞれ示し、
図7Cは、
図2に例示された実施形態の発光素子100Aの平面写真を示す。
【0076】
図7A乃至
図7Cを参照すると、既存の発光素子よりも実施形態の発光素子から遥かに多い熱が放出されることがわかる。
【0077】
以下、前述した実施形態に係る発光素子の製造方法を
図8A乃至
図8Eを参照して、次のように説明するが、これに限定されずに、実施形態に係る発光素子は多様な方法により製造できることは勿論である。
【0078】
図8A乃至
図8Eは、実施形態に係る発光素子100Aの製造方法を説明するための工程断面図を示す。
【0079】
図8Aを参照すると、基板110を準備する。透光性物質で基板110を準備することができ、例えば、サファイア(Al
2O
3)、GaN、SiC、ZnO、GaP、InP、Ga
2O
3、GaAsまたはSiのうち少なくとも一つで基板110を準備することができる。
【0080】
基板110上にバッファ層112と発光構造物120を形成する。透光性物質によりバッファ層112を形成することができる。バッファ層112は、例えば、Al、In、N及びGaで構成される群から選択される少なくとも一つの物質により形成することができるが、これに限定されない。また、バッファ層112は、単層または多層構造の形態で形成してもよく、場合によって、バッファ層112の形成は省略してもよい。
【0081】
発光構造物120として、第2導電型半導体層126、活性層124、及び第1導電型半導体層122をバッファ層112上に順次形成する。
【0082】
まず、第2導電型半導体層126をバッファ層112上に形成することができる。第2導電型半導体層126は、第2導電型ドーパントがドープされたIII−V族またはII−VI族化合物半導体で具現することができ、第2導電型半導体層126がn型半導体層である場合、第2導電型ドーパントは、n型ドーパントとして、Si、Ge、Sn、Se、Teを含むことができるが、これに限定されない。
【0083】
第2導電型半導体層126は、例えば、Al
xIn
yGa
(1−x−y)N(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1)の組成式を有する半導体物質を用いて形成することができる。第2導電型半導体層126は、GaN、InN、AlN、InGaN、AlGaN、InAlGaN、AlInN、AlGaAs、InGaAs、AlInGaAs、GaP、AlGaP、InGaP、AlInGaP、InPのいずれか一つ以上で形成することができる。
【0084】
活性層124を第2導電型半導体層126上に形成する。活性層124は、単一井戸構造、多重井戸構造、単一量子井戸構造、多重量子井戸構造、量子線構造、または量子点構造のうち少なくともいずれか一つで形成することができる。例えば、活性層124は、トリメチルガリウムガス(TMGa)、アンモニアガス(NH
3)、窒素ガス(N
2)、及びトリメチルインジウムガス(TMIn)が注入されて多重量子井戸構造が形成されてもよいが、これに限定されるものではない。
【0085】
活性層124の井戸層/障壁層は、InGaN/GaN、InGaN/InGaN、GaN/AlGaN、InAlGaN/GaN、GaAs(InGaAs)/AlGaAs、GaP(InGaP)/AlGaPのいずれか一つ以上のペア構造で形成することができるが、これに限定されない。井戸層は、障壁層のバンドギャップよりも小さいバンドギャップを有する物質で形成することができる。
【0086】
活性層124の上または/及び下に導電型クラッド層(図示せず)をさらに形成することができる。導電型クラッド層は、活性層124の障壁層のバンドギャップエネルギーよりも高いバンドギャップエネルギーを有する半導体で形成することができる。例えば、導電型クラッド層は、GaN、AlGaN、InAlGaNまたは超格子構造などで形成することができる。また、導電型クラッド層は、n型またはp型にドープされてもよい。
【0087】
第1導電型半導体層122を活性層124上に形成する。第1導電型半導体層122は、III−V族またはII−VI族などの化合物半導体を用いて形成することができ、第1導電型ドーパントがドープされてもよい。第1導電型半導体層122がp型半導体層である場合、第1導電型ドーパントは、p型ドーパントとして、Mg、Zn、Ca、Sr、Baなどを含むことができる。第1導電型半導体層122は、In
xAl
yGa
1−x−yN(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦x+y≦1)の組成式を有する半導体物質を用いて形成することができる。
【0088】
次に、
図8Bを参照すると、第2導電型半導体層126、活性層124、及び第1導電型半導体層122の一部をメサエッチングして第2導電型半導体層126を露出させる。
【0089】
次に、
図8Cを参照すると、第1導電型半導体層122上に第1電極132を形成する一方、露出した第2導電型半導体層126上に第2電極134を形成する。第1及び第2電極132,134のそれぞれは、例えば、金属で形成することができ、Ag、Ni、Al、Rh、Pd、Ir、Ru、Mg、Zn、Pt、Au、Hf及びこれらの選択的な組み合わせからなることができる。
【0090】
特に、第1電極132は、透明伝導性酸化膜(TCO)で形成してもよい。例えば、第1電極132は、前述した金属物質と、ITO、IZO、IZTO、IAZO、IGZO、IGTO、AZO、ATO、GZO、IrOx、RuOx、RuOx/ITO、Ni/IrOx/Au、及びNi/IrOx/Au/ITOのうち少なくとも一つにより形成することができ、これらの材料に限定しない。
【0091】
また、第1電極132は、オーミック特性を有する反射電極材料で単層または多層に形成することができる。もし、第1電極132がオーミックの役割を果たす場合、別途のオーミック層(図示せず)は形成しなくてもよい。
【0092】
また、第2電極134は、オーミック接触する物質を含んでオーミックの役割を果たすことで、別途のオーミック層(図示せず)を配置しなくてもよく、別途のオーミック層が第2電極134と第2導電型半導体層126との間に配置されてもよい。
【0093】
一方、
図8Dを参照すると、
図8A乃至
図8Cに示された工程が行われる間、別個の工程によって、サブマウント140上に第1及び第2金属パッド152,154を形成することができる。サブマウント140は、AlN、BN、炭化ケイ素(SiC)、GaN、GaAs、Siなどの半導体基板からなることができ、これに限定されず、熱伝導度に優れた半導体物質からなってもよい。
【0094】
もし、サブマウント140がSiからなる場合、第1及び第2金属パッド152,154を形成する前にサブマウント140の上部に保護層142を形成することができる。なぜなら、伝導性を有するシリコンサブマウント140上で第1及び第2金属パッド152,154を電気的に絶縁させなければならないからである。保護層142は絶縁物質により形成することができる。
【0095】
その後、
図8Eを参照すると、第1及び第2金属パッド152,154の上部に第1バンプ162−1,162−2及び第2バンプ164−1をそれぞれ形成する。
【0096】
その後、基板110がトップ側に配置されるように回転させた後、
図8Eに示した結果物と結合させる。このとき、第1バンプ162−1,162−2によって第1電極132と第1金属パッド152とが結合され、第2バンプ164−1によって第2電極134と第2金属パッド154とが結合される。
【0097】
図9は、実施形態に係る発光素子パッケージ200の断面図である。
【0098】
実施形態に係る発光素子パッケージ200は、発光素子100A、ヘッダー210、接着部220、第1及び第2リード(lead)線232,234、第1及び第2ワイヤ242,244、側壁部250及びモールディング部材260を含む。発光素子100Aは、
図2及び
図3に例示された発光素子であって、同一の参照符号を使用して、これについての詳細な説明を省略する。
図2及び
図3に例示された発光素子100A以外に、
図4A乃至
図6Cに例示された発光素子100B1〜100Eのいずれか一つが、
図9に例示されたように発光素子パッケージ200として具現されてもよいことは勿論である。
【0099】
サブマウント140はヘッダー210上に配置される。例えば、サブマウント140は、接着部220によってヘッダー210に連結することができる。接着部220は、ソルダまたはペーストの形態であってもよい。
【0100】
側壁部250は、ヘッダー210上に配置されてキャビティを形成する。発光素子100Aは、ヘッダー210上でキャビティ内に配置されるように形成することができる。
【0101】
発光素子100Aの第1及び第2金属パッド152,154は、第1及び第2ワイヤ242,244にそれぞれ電気的に接続される。第1及び第2リード線232,234は、第1及び第2ワイヤ242,244を介して第1及び第2金属パッド152,154と電気的にそれぞれ接続される。したがって、互いに電気的に分離される一対のリード線232,234を介して発光素子100Aに電源が提供される。
【0102】
モールディング部材260は、側壁部250によって形成されたパッケージ200のキャビティに充填されて、発光素子100Aを包囲して保護することができる。また、モールディング部材260は、蛍光体を含むことで、発光素子100Aから放出された光の波長を変化させることができる。
【0103】
他の実施形態に係る発光素子パッケージは、複数個が基板上にアレイされ、発光素子パッケージから放出される光の経路上に、光学部材である導光板、プリズムシート、拡散シート、蛍光シートなどを配置することができる。このような発光素子パッケージ、基板、光学部材は、バックライトユニットとして機能したり、または照明ユニットとして機能することができ、例えば、照明システムは、バックライトユニット、照明ユニット、指示装置、ランプ、街灯を含むことができる。
【0104】
図10は、実施形態に係る発光素子パッケージを含む表示装置800を示す。
【0105】
図10を参照すると、表示装置800は、ボトムカバー810と、ボトムカバー810上に配置される反射板820と、光を放出する発光モジュール830,835と、反射板820の前方に配置され、発光モジュール830,835から発散される光を表示装置の前方に案内する導光板840と、導光板840の前方に配置されるプリズムシート850,860を含む光学シートと、光学シートの前方に配置されるディスプレイパネル870と、ディスプレイパネル870と接続され、ディスプレイパネル870に画像信号を供給する画像信号出力回路872と、ディスプレイパネル870の前方に配置されるカラーフィルター880とを含むことができる。ここでボトムカバー810、反射板820、発光モジュール830,835、導光板840、及び光学シートはバックライトユニット(Backlight Unit)をなすことができる。
【0106】
発光モジュールは、基板830上に実装される発光素子パッケージ835を含むことができる。ここで、基板830としてはPCBなどを使用することができる。発光素子パッケージ835は、
図9に示された実施形態に係る発光素子パッケージ200であってもよい。
【0107】
ボトムカバー810は、表示装置800内の構成要素を収納することができる。そして、反射板820は、同図のように別途の構成要素として設けてもよく、導光板840の後面やボトムカバー810の前面に反射度の高い物質でコーティングする形態で設けることも可能である。
【0108】
ここで、反射板820は、反射率が高く、超薄型で使用可能な素材を使用することができ、ポリエチレンテレフタレート(PET:PolyEthylene Terephtalate)を使用することができる。
【0109】
そして、導光板840は、ポリメチルメタクリレート(PMMA:PolyMethylMethAcrylate)、ポリカーボネート(PC:PolyCarbonate)、またはポリエチレン(PE:PolyEthylene)などで形成することができる。
【0110】
そして、第1プリズムシート850は、支持フィルムの一面に、透光性かつ弾性を有する重合体材料で形成することができ、重合体は、複数個の立体構造が反復して形成されたプリズム層を有することができる。ここで、複数個のパターンは、図示のように、山と谷が反復的にストライプ状に備えられてもよい。
【0111】
そして、第2プリズムシート860において支持フィルムの一面の山と谷の方向は、第1プリズムシート850内の支持フィルムの一面の山と谷の方向と垂直をなすことができる。これは、発光モジュールと反射シートから伝達された光をディスプレイパネル870の全面に均一に分散させるためである。
【0112】
そして、図示していないが、導光板840と第1プリズムシート850との間に拡散シートが配置されてもよい。拡散シートは、ポリエステルとポリカーボネート系列の材料からなることができ、バックライトユニットから入射された光を、屈折及び散乱を通じて光投射角を最大に広げることができる。そして、拡散シートは、光拡散剤を含む支持層と、光出射面(第1プリズムシート方向)及び光入射面(反射シート方向)に形成され、光拡散剤を含んでいない第1レイヤー及び第2レイヤーと、を含むことができる。
【0113】
実施形態において、拡散シート、第1プリズムシート850、及び第2プリズムシート860が光学シートを構成するが、光学シートは、他の組み合わせ、例えば、マイクロレンズアレイからなってもよく、拡散シートとマイクロレンズアレイとの組み合わせ、または一つのプリズムシートとマイクロレンズアレイとの組み合わせなどからなってもよい。
【0114】
ディスプレイパネル870としては液晶表示パネル(Liquid crystal display)を配置してもよいが、液晶表示パネル以外に、光源を必要とする他の種類の表示装置を備えてもよい。
【0115】
図11は、実施形態に係る発光素子パッケージを含むヘッドランプ(head lamp)900を示す。
【0116】
図11を参照すると、ヘッドランプ900は、発光モジュール901、リフレクタ(reflector)902、シェード903、及びレンズ904を含む。
【0117】
発光モジュール901は、基板(図示せず)上に配置される複数の発光素子パッケージ(図示せず)を含むことができる。このとき、発光素子パッケージは、
図9に示された実施形態に係る発光素子パッケージ200であってもよい。
【0118】
リフレクタ902は、発光モジュール901から照射される光911を一定の方向、例えば、前方912に反射させる。
【0119】
シェード903は、リフレクタ902とレンズ904との間に配置され、リフレクタ902により反射されてレンズ904に向かう光の一部を遮断または反射して、設計者の所望の配光パターンをなすようにする部材であって、シェード903の一側部903−1と他側部903−2は互いに異なる高さを有することができる。
【0120】
発光モジュール901から照射される光は、リフレクタ902及びシェード903で反射された後、レンズ904を透過して車体の前方に向かうことができる。レンズ904は、リフレクタ902により反射された光を前方に屈折させることができる。
【0121】
図12は、実施形態に係る発光素子または発光素子パッケージを含む照明装置1000を示す。
【0122】
図12を参照すると、照明装置1000は、カバー1100、光源モジュール1200、放熱体1400、電源提供部1600、内部ケース1700、及びソケット1800を含むことができる。また、実施形態に係る照明装置1000は、部材1300及びホルダー1500のいずれか一つ以上をさらに含むことができる。
【0123】
光源モジュール1200は、
図2乃至
図6Cに例示された発光素子100A〜100E、または
図9に示された発光素子パッケージ200を含むことができる。
【0124】
カバー1100は、バルブ(bulb)または半球の形状であってもよく、中空の内部を有し、一部分が開口した形状とすることができる。カバー1100は、光源モジュール1200と光学的に結合可能である。例えば、カバー1100は、光源モジュール1200から提供される光を拡散、散乱または励起させることができる。カバー1100は一種の光学部材であってもよい。カバー1100は放熱体1400と結合可能である。カバー1100は、放熱体1400と結合する結合部を有することができる。
【0125】
カバー1100の内面には乳白色の塗料をコーティングすることができる。乳白色の塗料は、光を拡散させる拡散材を含むことができる。カバー1100の内面の表面粗さは、カバー1100の外面の表面粗さよりも大きく形成することができる。これは、光源モジュール1200からの光を十分に散乱及び拡散させて外部に放出させるためである。
【0126】
カバー1100の材質は、ガラス(glass)、プラスチック、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレン(PE)、ポリカーボネート(PC)などであってもよい。ここで、ポリカーボネートは、耐光性、耐熱性及び強度に優れる。カバー1100は、外部から前記光源モジュール1200が見えるように透明であってもよいが、これに限定されるものではなく、不透明であってもよい。カバー1100は、ブロー(blow)成形により形成することができる。
【0127】
光源モジュール1200は、放熱体1400の一面に配置することができ、光源モジュール1200から発生した熱は放熱体1400に伝導可能である。光源モジュール1200は、光源部1210、連結プレート1230、及びコネクタ1250を含むことができる。
【0128】
部材1300は、放熱体1400の上面上に配置することができ、複数の光源部1210及びコネクタ1250が挿入されるガイド溝1310を有する。ガイド溝1310は、光源部1210の基板及びコネクタ1250と対応または整列可能である。
【0129】
部材1300の表面は、光反射物質で塗布またはコーティングされたものであってもよい。
【0130】
例えば、部材1300の表面は、白色の塗料で塗布またはコーティングされたものであってもよい。このような部材1300は、カバー1100の内面で反射されて光源モジュール1200に向かって戻ってくる光を再びカバー1100の方向に反射することができる。したがって、実施形態に係る照明装置の光効率を向上させることができる。
【0131】
部材1300は、一例として、絶縁物質からなることができる。光源モジュール1200の連結プレート1230は電気伝導性の物質を含むことができる。したがって、放熱体1400と連結プレート1230との間に電気的な接触が可能になる。部材1300は、絶縁物質で構成されて、連結プレート1230と放熱体1400との電気的短絡を遮断することができる。放熱体1400は、光源モジュール1200からの熱及び電源提供部1600からの熱の伝達を受けて放熱することができる。
【0132】
ホルダー1500は、内部ケース1700の絶縁部1710の収納溝1719を塞ぐ。したがって、内部ケース1700の絶縁部1710に収納される電源提供部1600を密閉することができる。ホルダー1500はガイド突出部1510を有することができ、ガイド突出部1510は、電源提供部1600の突出部1610が貫通するホールを有することができる。
【0133】
電源提供部1600は、外部から提供された電気的信号を処理または変換して光源モジュール1200に提供する。電源提供部1600は、内部ケース1700の収納溝1719に収納され、ホルダー1500によって内部ケース1700の内部に密閉可能である。電源提供部1600は、突出部1610、ガイド部1630、ベース1650及び延長部1670を含むことができる。
【0134】
ガイド部1630は、ベース1650の一側から外部に突出した形状を有することができる。ガイド部1630はホルダー1500に挿入可能である。ベース1650の一面上には多数の部品を配置することができる。多数の部品は、例えば、外部電源から提供される交流電源を直流電源に変換する直流変換装置、光源モジュール1200の駆動を制御する駆動チップ、光源モジュール1200を保護するためのESD(Electro Static discharge)保護素子などを含むことができるが、これに限定されない。
【0135】
延長部1670は、ベース1650の他側から外部に突出した形状を有することができる。延長部1670は、内部ケース1700の連結部1750の内部に挿入され、外部からの電気的信号を受けることができる。例えば、延長部1670は、内部ケース1700の連結部1750と幅が同一または小さくてもよい。延長部1670には“+電線”と“−電線”の各一端が電気的に接続され、“+電線”と“−電線”の他端はソケット1800に電気的に接続可能である。
【0136】
内部ケース1700は、内部に電源提供部1600と共にモールディング部を含むことができる。モールディング部は、モールディング液体が硬化した部分であって、電源提供部1600を内部ケース1700の内部に固定できるようにする。
【0137】
実施形態に係る発光素子及びそれを含む発光素子パッケージは、アクティブ領域が多角形の平面形状の中央よりは角部に配置されることによって、光度が向上して発光効率を改善することができ、複数のアクティブ領域が、互いに離隔して、重なった部分なしに配置された平面形状を有するので、放熱特性に優れる。
【0138】
以上、実施形態を中心に説明したが、これは単なる例示であり、本発明を限定するものではなく、本発明の属する分野における通常の知識を有する者であれば、本実施形態の本質的な特性を逸脱しない範囲内で、以上に例示していない種々の変形及び応用が可能であるということが理解されるであろう。例えば、実施形態に具体的に示した各構成要素は変形実施が可能である。そして、このような変形及び応用による差異点は、添付の特許請求の範囲で規定する本発明の範囲に含まれるものと解釈しなければならない。