特許第6527330号(P6527330)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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特許6527330高い亀裂発生閾値を有するイオン交換可能なガラス
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  • 特許6527330-高い亀裂発生閾値を有するイオン交換可能なガラス 図000046
  • 特許6527330-高い亀裂発生閾値を有するイオン交換可能なガラス 図000047
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