特許第6530713号(P6530713)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

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6530713酸化物層の成膜方法、並びにエピタキシャル成長用積層基材及びその製造方法
<図1>
  • 6530713-酸化物層の成膜方法、並びにエピタキシャル成長用積層基材及びその製造方法 図000004
  • 6530713-酸化物層の成膜方法、並びにエピタキシャル成長用積層基材及びその製造方法 図000005
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