特許 6534577 基板処理装置

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6534577

(24)【登録日】2019年6月7日

(45)【発行日】2019年6月26日

(54)【発明の名称】基板処理装置

(51)【国際特許分類】

   G01M 3/28 20060101AFI20190617BHJP

【ＦＩ】

   G01M3/28 Z

【請求項の数】2

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2015-153395(P2015-153395)

(22)【出願日】2015年8月3日

(65)【公開番号】特開2017-32435(P2017-32435A)

(43)【公開日】2017年2月9日

【審査請求日】2018年6月26日

(73)【特許権者】

【識別番号】000207551

【氏名又は名称】株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス

(74)【代理人】

【識別番号】100101753

【弁理士】

【氏名又は名称】大坪 隆司

(74)【代理人】

【識別番号】100163175

【弁理士】

【氏名又は名称】村口 佐智子

(72)【発明者】

【氏名】中井 仁司

【審査官】 小野 郁磨

(56)【参考文献】

【文献】 特開２００９−１５８５９７（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開平１１−１１８５４４（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１３−１２５００９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−７１２２２（ＪＰ，Ａ）

【文献】 実開昭６０−１６９５５１（ＪＰ，Ｕ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｇ０１Ｍ ３／００−３／２８

Ｈ０１Ｌ ２３／３０４

Ｇ０１Ｆ １／００−１／２２

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

基板処理装置に使用される処理液の流路中に配設されたバルブと、当該バルブの下流側に配設され、前記バルブからの前記処理液の漏洩を検出する漏洩検出部と、を備えた基板処理装置であって、
前記漏洩検出部は、前記処理液の流路が形成された中空状部材と、当該中空状部材内を前記処理液の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材と、前記可動部材の位置を検出するセンサと、を備え、
前記中空状部材は、前記処理液の流路の断面積から前記可動部材の断面積を減算した開度が、一定、または、前記処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる移動領域と、前記開度が前記移動領域よりさらに大きい開放領域と、を備え、
前記バルブの閉止中に漏洩が生じた場合に前記可動部材が前記移動領域にて移動したことを前記センサにより検出するとともに、前記バルブが開放された状態では前記可動部材が前記開放領域に移動することを特徴とする基板処理装置。

【請求項2】

基板処理装置に使用される処理液の流路中に配設されたバルブと、当該バルブの下流側に配設され、前記バルブからの前記処理液の漏洩を検出する漏洩検出部と、を備えた基板処理装置であって、
前記漏洩検出部は、前記処理液の流路が形成された中空状部材と、当該中空状部材内を前記処理液の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材と、前記可動部材の位置を検出するセンサと、を備え、
前記中空状部材は、前記処理液の流路の断面積から前記可動部材の断面積を減算した開度が、一定、または、前記処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる移動領域と、前記可動部材が前記流路より退避する退避領域と、を備え、
前記バルブの閉止中に漏洩が生じた場合に前記可動部材が前記移動領域にて移動したことを前記センサにより検出するとともに、前記バルブが開放された状態では前記可動部材が前記退避領域に退避することを特徴とする基板処理装置。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

この発明は、基板処理装置に使用される流体の漏洩の検出を行う基板処理装置に関する。

【背景技術】

【0002】

有機ＥＬ表示装置用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、太陽電池用パネル基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、半導体ウエハ等の基板を処理する基板処理装置においては、処理液等の液体や不活性ガス等の気体等の各種の流体が使用される。この流体は、バルブの開閉動作により供給を制御される。

【0003】

このような基板処理装置においては、バルブからの流体の漏洩を検出する必要がある。特許文献１には、サックバック方式により処理液の漏洩を検出する基板処理装置が開示されている。この特許文献１に記載の基板処理装置においては、バルブを閉止した後に吸引装置により処理液配管の吸引動作を実行する。そして、液面センサにより処理液を検出するか否かにより、処理液の漏洩を検出する構成を採用している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0004】

【特許文献1】特許第５０３０７６７号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0005】

特許文献１に記載の基板処理装置においては、処理液の漏洩を防止するときに処理液配管の吸引動作を実行する必要があることから、吸引に要する時間が必要となるばかりではなく、処理液配管内の処理液が無駄に消費されるという問題が生ずる。

【0006】

一方、このような処理液の供給路には、一般的に、流量計が配設されていることが多く、この流量計を利用して処理液の漏洩を検出することも不可能ではない。しかしながら、処理液のわずかな漏洩を検知するためには、微小流量を検出しうる高価な流量計を使用する必要がある。また、処理液が一定量流れているときには、流量計により流量を正確に検出することが可能であるが、処理液流れを停止した状態においては、処理液における発泡により、流量計が誤検知を起こす場合がある。

【0007】

この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、簡易な構成でありながら基板処理装置で使用される流体の漏洩を正確に検出することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【0008】

請求項１に記載の発明は、基板処理装置に使用される処理液の流路中に配設されたバルブと、当該バルブの下流側に配設され、前記バルブからの前記処理液の漏洩を検出する漏洩検出部と、を備えた基板処理装置であって、前記漏洩検出部は、前記処理液の流路が形成された中空状部材と、当該中空状部材内を前記処理液の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材と、前記可動部材の位置を検出するセンサと、を備え、前記中空状部材は、前記処理液の流路の断面積から前記可動部材の断面積を減算した開度が、一定、または、前記処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる移動領域と、前記開度が前記移動領域よりさらに大きい開放領域と、を備え、前記バルブの閉止中に漏洩が生じた場合に前記可動部材が前記移動領域にて移動したことを前記センサにより検出するとともに、前記バルブが開放された状態では前記可動部材が前記開放領域に移動することを特徴とする。

【0009】

請求項２に記載の発明は、基板処理装置に使用される処理液の流路中に配設されたバルブと、当該バルブの下流側に配設され、前記バルブからの前記処理液の漏洩を検出する漏洩検出部と、を備えた基板処理装置であって、前記漏洩検出部は、前記処理液の流路が形成された中空状部材と、当該中空状部材内を前記処理液の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材と、前記可動部材の位置を検出するセンサと、を備え、前記中空状部材は、前記処理液の流路の断面積から前記可動部材の断面積を減算した開度が、一定、または、前記処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる移動領域と、前記可動部材が前記流路より退避する退避領域と、を備え、前記バルブの閉止中に漏洩が生じた場合に前記可動部材が前記移動領域にて移動したことを前記センサにより検出するとともに、前記バルブが開放された状態では前記可動部材が前記退避領域に退避することを特徴とする。

【発明の効果】

【0010】

請求項１および請求項２に記載の発明によれば、センサにより可動部材の位置を検出することにより、流体の漏洩を正確に検出することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【0011】

【図1】この発明に係る基板処理装置の構成を説明するための概要図である。

【図2】第１実施形態に係る漏洩検出部４０を開閉バルブ２３とともに示す概要図である。

【図3】この基板処理装置における主要な制御系を示すブロック図である。

【図4】第２実施形態に係る漏洩検出部４０を開閉バルブ２３とともに示す概要図である。

【図5】第３実施形態に係る漏洩検出部４０を開閉バルブ２３とともに示す概要図である。

【図6】第４実施形態に係る漏洩検出部４０を開閉バルブ２３とともに示す概要図である。

【発明を実施するための形態】

【0012】

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、この発明に係る基板処理装置の構成を説明するための概要図である。

【0013】

この基板処理装置は、半導体ウエハ等の円形の基板１００に処理液を供給することにより、この基板１００を処理するためのものである。この基板処理装置は、基板１００を端縁で支持する支持ピン１１を備え、基板１００とともに鉛直方向を向く軸を中心に回転するスピンチャック１２を備える。

【0014】

また、この基板処理装置は、基板１００に対して処理液を供給するための処理液ノズル１５を備える。この処理液ノズル１５は、回転軸１３に連結された揺動アーム１４により支持されており、揺動アーム１４とともに、回転軸１３を中心として揺動する。また、この処理液ノズル１５は、処理液供給機構２０と接続されている。この処理液ノズル１５の先端を、スピンチャック１２に保持された基板１００の回転中心および端縁を含む円弧形状の軌跡を描いて移動させることにより、基板１００の表面をスキャンしながらその表面全域に対して処理液を供給することが可能となる。

【0015】

また、この基板処理装置は、基板１００に対して処理液を塗布する前に、処理液ノズル１５内の処理液をプリディスペンスするためのプリディスペンスポッド３１を備える。このプリディスペンスポッド３１は、排液管３２を介して、図示を省略した処理液の回収部と接続されている。

【0016】

処理液供給機構２０は、処理液を貯留した処理液タンク２１から処理液ノズル１５に対して処理液を送液するための処理液配管２６、２７を備える。処理液配管２６には、処理液タンク２１内の処理液を圧送するためのポンプ２２と、処理液の供給および停止を行うための開閉バルブ２３と、処理液ノズル１５に供給される処理液の流量を調整するための流量調整バルブ２４および流量計２５とが配設されている。

【0017】

また、処理液配管２６と処理液配管２７との間には、処理液の漏洩を検出するためのこの発明の特徴部分である漏洩検出部４０が配設されている。この基板処理装置において、開閉バルブ２３の不具合により処理液の漏洩が生じた場合には、処理液ノズル１５から処理液が流出することになる。このため、この基板処理装置においては、処理液の漏洩を検知するために、開閉バルブ２３の下流側である開閉バルブ２３と処理液ノズル１５との間に、漏洩検出部４０が配設されている。

【0018】

図２は、第１実施形態に係る漏洩検出部４０を開閉バルブ２３とともに示す概要図である。図２においては、図１に示す流量調整バルブ２４および流量計２５の図示を省略している。なお、図２(ａ)は処理液の漏洩が生じていない状態を示し、図２(ｂ)は処理液の漏洩が生じた状態を示している。

【0019】

この漏洩検出部４０は、処理液の流路が形成された中空状部材４１と、この中空状部材４１内を処理液配管２６から処理液配管２７に至る処理液の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材４４と、この可動部材４４の位置を検出するための投光部５１および受光部５２より成るセンサ５３（後述する図３参照）とを備える。

【0020】

上記中空状部材４１は、その下端部に配置された処理液の入口となる開口部４５と、移動領域４２と、開放領域４３と、その上端部に配置された処理液の出口となる開口部４６とから構成される。移動領域４２は、中空状部材４１のうち、処理液の流路の断面積から可動部材４４の断面積を減算した開度が、処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる領域である。また、開放領域４３は、中空状部材４１のうち、処理液の流路の断面積から可動部材４４の断面積を減算した開度が移動領域４２よりさらに大きい領域である。

【0021】

また、上記可動部材４４は、球状の形状を有し、中空状部材４１内を流れる処理液より比重の大きい材質から構成される。そして、上記投光部５１および受光部５２より成るセンサ５３は、可動部材４４が移動領域４２の下端部にあるか否かを検出するように構成されている。

【0022】

図３は、この基板処理装置における主要な制御系を示すブロック図である。なお、この図においては、漏洩検出に係る制御系のみを示している。

【0023】

この基板処理装置は、論理演算を実行するＣＰＵ、装置の制御に必要な動作プログラムが格納されたＲＯＭ、制御時にデータ等が一時的にストアされるＲＡＭ等を備え、装置全体を制御する制御部５０を備える。この制御部５０は、上述した開閉バルブ２３と、投光部５１および受光部５２より成るセンサ５３とに接続されている。また、この制御部５０は、警告表示や警告音を発生させる警告表示部５９とも接続されている。

【0024】

以上のような構成を有する基板処理装置の漏洩検出部４０においては、開閉バルブ２３が閉止しており、処理液が開閉バルブ２３において遮断されているときには、可動部材４４の比重が処理液より大きいことから、図２(ａ)に示すように、可動部材４４は中空状部材４１における移動領域４２の下端部に配置されている。このときには、図２（ａ）において矢印で示すように、センサ５３における投光部５１から照射された光が可動部材４４により遮断され、受光部５２には到達しない。制御部５０は、開閉バルブ２３が閉止されており、かつ、センサ５３が可動部材４４を検出している（すなわち、投光部５１からの光が受光部５２に到達していない）状態においては、処理液の漏洩が生じていないものと判断する。

【0025】

一方、開閉バルブ２３の閉止中に漏洩が生じた場合には、処理液が中空状部材４１における開口部４５から中空状部材４１内に流入する。そして、この処理液の流れにより、図２（ｂ）に示すように、可動部材４４が図２（ａ）に示す中空状部材４１における移動領域４２の下端部から上方に浮上する。すなわち、移動領域４２においては、処理液の流路の断面積から可動部材４４の断面積を減算した開度が、処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなっていることから、小さい流量の処理液が中空状部材４１内に流入した場合においても、可動部材４４が上方に浮上することになる。

【0026】

可動部材４４が浮上した場合においては、図２（ｂ）において矢印で示すように、センサ５３における投光部５１から照射された光が、可動部材４４により遮断されることなく、そのまま受光部５２に到達する。制御部５０は、開閉バルブ２３が閉止されており、かつ、センサ５３が可動部材４４を検出していない（すなわち、投光部５１からの光が受光部５２に到達している）状態においては、処理液の漏洩が生じたものと判断する。そして、制御部５０は、警告表示部５９に対して、警告表示を行うための信号を送信する。

【0027】

なお、開閉バルブ２３の閉止直後においては、少量の処理液が中空状部材４１内を通過している可能性がある。このため、開閉バルブ２３が閉止されてから一定時間経過後に、漏洩の判断を行うようにしてもよい。

【0028】

処理液ノズル１５から基板１００に処理液を供給するために開閉バルブ２３が開放されている状態においては、多量の処理液が中空状部材４１に流入する。このときには、図２（ｂ）において仮想線で示すように、可動部材４４は、処理液の流路の断面積から可動部材４４の断面積を減算した開度が処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる移動領域４２から、この開度が移動領域４２よりさらに大きい開放領域４３まで浮上する。この開放領域４３においては、処理液の流路の断面積から可動部材４４の断面積を減算した開度が十分大きくなるように設計されていることから、可動部材４４が処理液の供給に支障をきたすことはない。

【0029】

このような構成を有する漏洩検出部４０によれば、上述した特許文献１に記載の基板処理装置のように、漏洩を検出するために処理液配管２６、２７の吸引動作を実行する必要はなく、また、流量計を利用して漏洩を検出する場合のように、処理液の発泡による誤動作の心配もない。また、センサ５３における投光部５１と受光部５２との高さ位置を調整することにより、漏洩を検出するための処理液の流量を変更することが可能となる。

【0030】

次に、この発明の他の実施形態について説明する。図４は、第２実施形態に係る漏洩検出部４０を開閉バルブ２３とともに示す概要図である。ここで、上述した第１実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。図４においては、図１に示す流量調整バルブ２４および流量計２５の図示を省略している。なお、図４(ａ)は処理液の漏洩が生じていない状態を示し、図４(ｂ)は処理液の漏洩が生じた状態を示している。

【0031】

上述した第１実施形態に係る漏洩検出部４０においては、センサ５３における投光部５１と受光部５２とを、処理液の漏洩が生じていないときに可動部材４４を検出するとともに、漏洩が生じたときに可動部材４４を検出しない高さ位置に配設している。これに対して、この第２実施形態に係る漏洩検出部４０においては、センサ５３における投光部５１と受光部５２とを、処理液の漏洩が生じたときに可動部材４４が移動する側の高さ位置に配設している点が、上述した第１実施形態とは異なる。

【0032】

この第２実施形態においては、多光軸タイプのセンサ５３（図４においては説明の便宜上３軸のものを図示している）を使用している。そして、可動部材４４が移動することにより可動部材４４により遮断される光軸の数が変化することにより、処理液の漏洩を検出している。すなわち、漏洩が生じていないときには、図４(ａ)に示すように、一本の光軸が可動部材４４により遮断されている。一方、漏洩が生じたときには、図４(ｂ)に示すように、全ての光軸が可動部材４４により遮断される。このように、可動部材４４により遮断される光軸の数の変化を検出することにより、可動部材４４の移動距離が小さい場合においても、可動部材４４の移動を精度よく検出することが可能となる。なお、このような多軸タイプのセンサ５３を使用するにあたり、漏洩が生じていないときには、全ての光軸が可動部材４４により遮断されることがない構成を採用してもよい。

【0033】

この第２実施形態に係る漏洩検出部４０におけるその他の構成および漏洩の検出動作等は、上述した第１実施形態と同様である。

【0034】

次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図５は、第３実施形態に係る漏洩検出部４０を開閉バルブ２３とともに示す概要図である。ここで、上述した第１実施形態および第２実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。図５においては、図１に示す流量調整バルブ２４および流量計２５の図示を省略している。なお、図５(ａ)は処理液の漏洩が生じていない状態を示し、図５(ｂ)は処理液の漏洩が生じた状態を示している。

【0035】

上述した第１実施形態および第２実施形態に係る漏洩検出部４０においては、可動部材４４として、中空状部材４１内を流れる処理液よりも比重が大きい材質のものを使用し、処理液の漏洩により可動部材４４が浮上することをセンサ５３により検出する構成を採用している。これに対して、この第３実施形態に係る漏洩検出部４０においては、可動部材４４として、中空状部材４１内を流れる処理液よりも比重が小さい材質のものを使用し、処理液の漏洩により可動部材４４が沈下することをセンサ５３により検出する構成を採用している。

【0036】

この第３実施形態に係る漏洩検出部４０は、処理液の流路が形成された中空状部材４１と、この中空状部材４１内を処理液配管２６から処理液配管２７に至る処理液の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材４４と、この可動部材４４の位置を検出するための投光部５１および受光部５２より成るセンサ５３とを備える。

【0037】

上記中空状部材４１は、その上端部に配置された処理液の入口となる開口部４５と、移動領域４２と、開放領域４３と、その下端部に配置された処理液の出口となる開口部４６とから構成される。移動領域４２は、中空状部材４１のうち、処理液の流路の断面積から可動部材４４の断面積を減算した開度が、処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる領域である。また、開放領域４３は、中空状部材４１のうち、処理液の流路の断面積から可動部材４４の断面積を減算した開度が移動領域４２よりさらに大きい領域である。

【0038】

また、上記可動部材４４は、球状の形状を有し、中空状部材４１内を流れる処理液より比重の小さい材質から構成される。そして、上記投光部５１および受光部５２より成るセンサ５３は、可動部材４４が移動領域４２の上端部にあるか否かを検出するように構成されている。

【0039】

この第３実施形態に係る基板処理装置の漏洩検出部４０においては、開閉バルブ２３が閉止しており、処理液が開閉バルブ２３において遮断されているときには、可動部材４４の比重が処理液より小さいことから、図５(ａ)に示すように、可動部材４４は中空状部材４１における移動領域４２の上端部に配置されている。このときには、図５（ａ）において矢印で示すように、センサ５３における投光部５１から照射された光が可動部材４４により遮断され、受光部５２には到達しない。制御部５０は、開閉バルブ２３が閉止されており、かつ、センサ５３が可動部材４４を検出している（すなわち、投光部５１からの光が受光部５２に到達していない）状態においては、処理液の漏洩が生じていないものと判断する。

【0040】

一方、開閉バルブ２３の閉止中に漏洩が生じた場合には、処理液が中空状部材４１における開口部４５から中空状部材４１内に流入する。そして、この処理液の流れにより、図５（ｂ）に示すように、可動部材４４が図５（ａ）に示す中空状部材４１における移動領域４２の下端部から下方に沈下する。すなわち、移動領域４２においては、処理液の流路の断面積から可動部材４４の断面積を減算した開度が、処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなっていることから、小さい流量の処理液が中空状部材４１内に流入した場合においても、可動部材４４が下方に沈下することになる。

【0041】

可動部材４４が沈下した場合においては、図５（ｂ）において矢印で示すように、センサ５３における投光部５１から照射された光が、可動部材４４により遮断されることなく、そのまま受光部５２に到達する。制御部５０は、開閉バルブ２３が閉止されており、かつ、センサ５３が可動部材４４を検出していない（すなわち、投光部５１からの光が受光部５２に到達している）状態においては、処理液の漏洩が生じたものと判断する。そして、制御部５０は、警告表示部５９に対して、警告表示を行うための信号を送信する。

【0042】

処理液ノズル１５から基板１００に処理液を供給するために開閉バルブ２３が開放されている状態においては、多量の処理液が中空状部材４１に流入する。このときには、図５（ｂ）において仮想線で示すように、可動部材４４は、処理液の流路の断面積から可動部材４４の断面積を減算した開度が処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる移動領域４２から、この開度が移動領域４２よりさらに大きい開放領域４３まで沈下する。この開放領域４３においては、第１実施形態に係る漏洩検出部４０と同様、処理液の流路の断面積から可動部材４４の断面積を減算した開度が十分大きくなるように設計されていることから、可動部材４４が処理液の供給に支障をきたすことはない。

【0043】

次に、この発明のさらに他の実施形態について説明する。図６は、第４実施形態に係る漏洩検出部４０を開閉バルブ２３とともに示す概要図である。ここで、上述した第１実施形態および第２実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。図６においては、図１に示す流量調整バルブ２４および流量計２５の図示を省略している。なお、図６(ａ)は処理液の漏洩が生じていない状態を示し、図６(ｂ)は処理液の漏洩が生じた状態を示している。

【0044】

この第４実施形態に係る漏洩検出部４０は、処理液の流路が形成された中空状部材６１と、この中空状部材６１内を処理液の流れの方向に沿って往復移動可能な可動部材６４と、可動部材６４の位置を検出する投光部５１および受光部５２より成るセンサ５３とを備える。

【0045】

上記中空状部材６１は、その下端部に配置された処理液の入口となる開口部６５と、移動領域６２と、退避領域６３と、その側部に配置された処理液の出口となる開口部６６とから構成される。移動領域６２は、中空状部材６１のうち、処理液の流路の断面積から可動部材６４の断面積を減算した開度が一定となる領域である。また、退避領域６３は、中空状部材６１のうち、可動部材６４が処理液の流路より退避する領域である。

【0046】

なお、図６においては図示を省略しているが、退避領域６３には、処理開始時に中空状部材４１内を処理液で充満させるための処理液の供給管路が接続されている。

【0047】

また、上記可動部材６４は、その直径が移動領域６２の内径よりわずかに小さい球状の形状を有し、中空状部材６１内を流れる処理液より比重の大きい材質から構成される。そして、上記投光部５１および受光部５２より成るセンサ５３は、可動部材６４が移動領域６２の下端部にあるか否かを検出するように構成されている。

【0048】

以上のような構成を有する第４実施形態に係る基板処理装置の漏洩検出部４０においては、開閉バルブ２３が閉止しており、処理液が開閉バルブ２３において遮断されているときには、可動部材６４の比重が処理液より大きいことから、図６(ａ)に示すように、可動部材６４は中空状部材６１における移動領域６２の下端部に配置されている。このときには、図６（ａ）において矢印で示すように、センサ５３における投光部５１から照射された光が可動部材６４により遮断され、受光部５２には到達しない。図２に示す制御部５０は、開閉バルブ２３が閉止されており、かつ、センサ５３が可動部材６４を検出している（すなわち、投光部５１からの光が受光部５２に到達していない）状態においては、処理液の漏洩が生じていないものと判断する。

【0049】

一方、開閉バルブ２３の閉止中に漏洩が生じた場合には、処理液が中空状部材６１における開口部６５から中空状部材６１内に流入する。そして、この処理液の流れにより、可動部材６４が図６（ａ）に示す中空状部材６１における移動領域６２の下端部から上方に浮上する。すなわち、移動領域６２においては、処理液の流路の断面積から可動部材６４の断面積を減算した開度が極めて小さいことから、小さい流量の処理液が中空状部材４１内に流入した場合においても、可動部材６４が上方に浮上することになる。

【0050】

可動部材６４が浮上した場合においては、センサ５３における投光部５１から照射された光が、可動部材６４により遮断されることなく、そのまま受光部５２に到達する。制御部５０は、開閉バルブ２３が閉止されており、かつ、センサ５３が可動部材６４を検出していない（すなわち、投光部５１からの光が受光部５２に到達している）状態においては、処理液の漏洩が生じたものと判断する。そして、制御部５０は、警告表示部５９に対して、警告表示を行うための信号を送信する。

【0051】

処理液ノズル１５から基板１００に処理液を供給するために開閉バルブ２３が開放されている状態においては、多量の処理液が中空状部材６１に流入する。このときには、図６（ｂ）に示すように、可動部材６４は、移動領域６２から退避領域６３まで浮上する。これにより、可動部材６４が処理液の流路より退避することになり、可動部材６４が処理液の供給に支障をきたすことはない。

【0052】

なお、この第４実施形態に係る基板処理装置の漏洩検出部４０において、上述した第１実施形態と第２実施形態との関係のようにセンサ５３の配置を変更する構成や、第１実施形態と第３実施形態との関係のように上下関係を逆とする構成を採用してもよい。

【0053】

上述した実施形態においては、いずれも、基板処理装置に使用される流体としての処理液にこの発明を適用した場合について説明したが、その他の液体にこの発明を適用してもよい。また、基板の乾燥に使用する不活性ガスやドライエア等の気体に、この発明を適用してもよい。

【0054】

また、上述した実施形態においては、いずれも、可動部材４４、６４として球状のものを使用しているが、円錐状や円柱状のものを使用してもよい。

【0055】

また、上述した実施形態においては、いずれも、センサ５３として透過型のものを使用しているが、反射型のものを使用してもよい。また、センサ５３としては、光学式のものに限らず、静電容量により可動部材４４、６４の位置を識別するセンサ等、その他の方式のセンサを使用してもよい。

【0056】

上述した第１実施形態〜第３実施形態においては、移動領域４２として、処理液の流路の断面積から可動部材４４の断面積を減算した開度が、処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる形状のものを採用しているが、この開度が一定である形状が筒状の移動領域を採用してもよい。この場合においては、必要に応じ、可動部材４４に対して補助部材を付設することにより、開放領域４３から移動領域に対して可動部材４４を案内すればよい。

【0057】

また、上述した第１実施形態〜第３実施形態においては、開放領域４３として、処理液の流路の上流側から下流側まで一定の断面積を有するものを採用しているが、処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって断面積が増加していてもよい。この開放領域４３は、移動領域４２と比較して、開度の変化量が有意に増大していればよい。

【0058】

上述した第４実施形態においては、移動領域６２として、開度が一定であるものを採用しているが、この移動領域６２として、開度が処理液の流路の上流側から下流側に行くにしたがって大きくなる形状のものを採用してもよい。

【符号の説明】

【0059】

１２ スピンチャック
１５ 処理液ノズル
２０ 処理液供給機構
２３ 開閉バルブ
２６ 処理液配管
２７ 処理液配管
４０ 漏洩検出部
４１ 中空状部材
４２ 移動領域
４３ 開放領域
４４ 可動部材
４５ 開口部
４６ 開口部
５０ 制御部
５１ 投光部
５２ 受光部
５３ センサ
５９ 警告表示部
６１ 中空状部材
６２ 移動領域
６３ 退避領域
６４ 可動部材
６５ 開口部
６６ 開口部
１００ 基板

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】