(58)【調査した分野】(Int.Cl.,DB名)
前記発光領域には、有機ELより出射される光を平行光にするためのシリンドリカル形状からなるレンズを配したレンチキュラーシートが設けられている発光構造体を具備することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の有機EL素子。
少なくとも、いずれもストライプ状の領域からなる、平行光を取り出す平行光領域と拡散光を取り出す拡散光領域とが交互に並設された構造を具備し、前記拡散光を取り出す前記拡散光領域には、平行光成分を遮光するための遮光パターンを有するとともに、前記遮光パターンよりも入射側の位置に焦点をもつシリンドリカル形状からなるレンズを配したレンチキュラーシートが設けられている光制御シートを具備する有機EL素子の製造方法であって、
(a)前記レンチキュラーシートの前記シリンドリカル形状からなるレンズが配されている面の反対側の面に、未硬化状態では粘着性を持つ電離放射線硬化型樹脂層を形成する工程と、
(b)未硬化状態の前記電離放射線硬化型樹脂層に、前記レンチキュラーシート側より、前記レンズの個々のレンズ間の幅よりも広い光透過部を並設したマスクを通して電離放射線を照射し、前記遮光パターンを形成する領域以外の前記電離放射線硬化型樹脂層を硬化させる工程と、
(c)前記電離放射線硬化型樹脂層表面の全面に、黒色の着色層が形成された転写シートを、前記着色層側で重ね合わせる工程と、
(d)前記着色層を、前記電離放射線硬化型樹脂層の未硬化部分の粘性を利用して前記未硬化部分にのみ付着させ、硬化部分の前記着色層を前記電離放射線硬化型樹脂層から剥離することで、前記遮光パターンを形成する工程、
(e)(a)、(b)、(c)、(d)の工程を用いて作製した前記遮光パターンと前記レンチキュラーシートを有する光制御シートに、有機ELより出射される光を平行光にするためのシリンドリカル形状からなるレンズを配したレンチキュラーシートを有する発光構造体を積層する工程と、
を含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
【背景技術】
【0002】
一般に有機EL(Electro Luminescence;エレクトロルミネッセンス)素子は、透光性基板上に蛍光または燐光を発光する有機化合物を含む発光層を、陽極と陰極とで挟んだ構造を有する。そして、陽極と陰極に直流電圧を印加し、発光層に電子及び正孔を注入して再結合させることにより、励起子を生成し、この励起子の失活する際の光の放出を利用して発光に至る。
【0003】
従来これら有機EL素子において、発光層から射出した光線が透光性基板から射出する際、透光性基板上において反射し光線がロスするという問題があった。このときの光の外部取り出し効率は一般に20%程度と言われている。そのため、高輝度が必要となればなるほどより多くの投入電力が必要となり、素子に及ぼす負荷が増大し素子自体の信頼性を低下させるという問題があった。
【0004】
この光の外部取り出し効率を向上させる目的で素子基板に微細な凹凸を形成し、反射によりロスしている光線を外部に取り出すという方法が提案されている。例えば、透光性基板の一方の面に、複数のマイクロレンズを平面的に配列して成るマイクロレンズアレイを形成することが提案されている。有機EL素子最表面にマイクロレンズを有する光取り出しフィルムを貼ることで輝度の向上、更にはより拡散性の高い光を取り出している例が特許文献1、2に記載されている。
【発明を実施するための形態】
【0017】
以下、本発明に係る有機EL素子の実施形態を、図面に基づいて説明する。
【0018】
図1は、本実施形態における有機EL素子10の断面構造を示す模式断面図である。
【0019】
有機EL素子10は、
図1に示すように、透光性基板からなる第1の基板1Aと第2の基板1Bとの間に、発光層2を挟んで陽極3Aと陰極3Bとが配設され、第1の基板1Aに対して、発光層2とは反対側の面に発光側レンチキュラーシート5が配設されて、これらが発光構造体20を構成している。また、発光側レンチキュラーシート5に対向する形で制御側レンチキュラーシート6(以下、該構造を制御側レンチキュラーシートと呼ぶ)が設けられ、制御側レンチキュラーシート6の構造層6bと反対側の面には、硬化した樹脂層7b、遮光パターン8a、及び保護層9Aが設けられて光制御シート30を構成している。ここで、保護層9Aは、遮光パターン8aの形状保護目的で付与されたものであり、例えば、感光性フィルムや粘着フィルムをラミネートすることにより保護層9Aとすることができる。発光層2で発生したEL光は、発光構造体20及び光制御シート30を通り、保護層9Aから
図1のz方向へ射出される。
【0020】
発光層2は、陽極3Aと陰極3Bに電圧を印加することによりEL光を発光する。これらの発光層2と陽極3Aと陰極3Bとによって発光構造体20の光源部を構成する。
【0021】
発光構造体20の光源部としては、従来公知のさまざまな構成が採用可能である。発光層2を白色発光層とする場合には、この発光層2の構成は、例えばCuPc(銅フタロシアニン)/α−NPDにルブレン1%ドープ/ジナクチルアントラセンにペリレン1%ドープ/Alq3/フッ化リチウムという構成とする。前後に配置する陽極3AとしてITO(酸化インジウム錫)などの透明導電膜、陰極3Bとして例えばAl(アルミニウム)膜を用いればよい。
【0022】
但し、本発明では、上記の構成に限定されるものではなく、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)などの発光層とする場合は、発光層2から射出する光線の波長をR、G、Bとす
ることのできる適宜材料を用いた任意の構成を採用することが可能である。また、フルカラーディスプレイの用途で使用する場合には、R、G、Bに対応した3種類の発光材料の塗り分けとすることや、白色光にカラーフィルターを重ねることによりフルカラー表示を可能とすることもできる。
【0023】
発光層2は、
図1に示すように、y方向に延びるストライプ状の発光領域として、最終的に平行光を取り出すための発光領域2pと、同じく拡散光を取り出すための発光領域2dとがx方向に交互に配置され、これらの発光領域2pと2dからなる有機EL光源2sによる発光領域が電気的に切り替え可能となっている。
【0024】
第1の基板1Aは、陽極3Aと発光側レンチキュラーシート5との間に配設され、第2の基板1Bは、陰極3Bに対して発光層2とは反対側の面に配設されている。
【0025】
第1の基板1A及び第2の基板1Bの材料としては、種々のガラス材料を用いることができ、その他にPMMA、ポリカーボネート、ポリスチレン等のプラスチック材料、あるいは第2の基板1Bの材料としてはAlなどの金属材料を用いることもできる。更にその他の様々な材料を用いることができるが、第1の基板1A及び第2の基板1Bの材料として特に好ましいのは、シクロオレフィン系のポリマーである。このポリマーは加工性、耐熱、耐水性、透光性等、第1の基板1A及び第2の基板1Bに必要な材料特性の全てにおいて優れている。特に、第1の基板1Aは、発光構造体20から出射する光をできるだけ透過させることができるように、全光線透過率を50%以上とすることのできる材料を採用することが好ましい。
【0026】
発光側レンチキュラーシート5は、シート状の基層5aとこの基層5aの上に形成されたレンズ群からなる構造層5bとで一体に形成されている。構造層5bは、最適化された焦点距離を有するシリンドリカル形状からなる平行光用レンズ5p、及び拡散光用レンズ5dがストライプ状に交互に配置されている。レンズ5p、5dは、平行光用発光領域2pと拡散光用発光領域2dからの光にそれぞれ対応し、これらの発光領域から出射する光は等方的な発散光であるため、レンズ5p、5dからは、ほぼ平行光として出射するように設計される。尚、レンズ5p、5dから出射する光は、目的とする素子特性に応じ、必ずしも完全な平行光である必要はないが、記載の簡略化のため、本発明では、一貫して「平行光」として記載する。
【0027】
発光側レンチキュラーシート5としては、アクリル、塩化ビニル、カーボネイトなどの透明な熱可塑性樹脂を任意の方法で成形したものでもよいし、または、UV(紫外線)硬化型樹脂やEB(電子線)硬化型樹脂などの電離放射線硬化型樹脂の硬化物からなるものでもよい。尚、一般に紫外線は電離放射線に含める場合も含めない場合もあるが、ここでは記載の簡略化のため含めるものとする。
【0028】
発光側レンチキュラーシート5は接着剤からなる接着層4を介して第1の基板1Aに固定されている。このような接着層4を構成する粘・接着剤として、例えばアクリル系、ウレタン系、ゴム系、シリコーン系の粘・接着剤が挙げられる。いずれを用いても、接着層4は高温になる発光構造体20に隣接して使用されるため、100℃で貯蔵弾性率G’が1.0E+04(Pa)以上であることが望ましい。これより貯蔵弾性率G’の値が低いと、使用中に発光側レンチキュラーシート5と第1の基板1Aとがずれてしまう可能性がある。発光側レンチキュラーシート5と第1の基板1Aが大きくずれてしまうと、発光側レンチキュラーシート5に発光層2から出射する光が効率よく入射しないため、光の利用効率が低下するとともに、後述する拡散光と平行光との切り替えが正確におこなわれなくなる可能性がある。
【0029】
また、安定的に発光層2と発光側レンチキュラーシート5との間隔を確保するために、接着層4を構成する接着・粘着剤層の中に透明の微粒子、例えばビーズ等を混ぜても良い。また、接着層4は両面テープ状でも良いし、多層で形成されていてもよい。
【0030】
制御側レンチキュラーシート6は、シート状の基層6aとこの基層6aの上に形成された拡散光生成用のレンズ群からなる構造層6bとで一体に形成されている。制御側レンチキュラーシート6の構造層6bは、最適化された焦点距離を有するシリンドリカル形状からなる拡散光用レンズ6d、及び無レンズ領域6p’がストライプ状に交互に配置されている。制御側レンチキュラーシート6は構造層6bが発光側レンチキュラーシート5の構造層5bと対向するように設けられている。
【0031】
制御側レンチキュラーシート6の無レンズ領域6p’は、平行光用発光領域2pが点灯した際に入射する位置に配置され、拡散光用レンズ6dは、拡散光用発光領域2dが点灯した際に入射する位置に配置される。これらは、x方向に交互に配置される。制御側レンチキュラーシート6の拡散光用レンズ6dの焦点距離は、拡散光用発光領域2dが点灯した際に発光側レンチキュラーシート5の拡散光用レンズ5dによって平行光となって入射する光が、拡散光用レンズ6dによって拡散光となり、樹脂層(硬化後は7b)と保護層9Aを通ってz方向に出射可能となるように設定される。
【0032】
制御側レンチキュラーシート6としては、アクリル、塩化ビニル、カーボネイトなどの透明な熱可塑性樹脂を任意の方法で成形したものでもよいし、または、UV硬化型樹脂やEB硬化型樹脂などの電離放射線硬化型樹脂の硬化物からなるものでもよい。
【0033】
制御側レンチキュラーシート6の基層6a上には、樹脂層7b、遮光パターン8a、及び保護層9Aが設けられている。樹脂層7bは、後述のように、遮光パターン8aの形成に利用されるとともに、自身の厚さや遮光パターン8aの位置と関連して、拡散光の光路を確保し制御する機能を有する。遮光パターン8aは、発光層2の拡散光用発光領域2dが点灯した際に制御側レンチキュラーシート6の拡散光用レンズ6dから出射する光の平行光成分を遮光し、平行光成分以外の光が保護層9Aを通り、拡散光としてz方向に出射することを可能とする。
【0034】
本発明における有機EL素子10は、発光層2、発光側レンチキュラーシート5、制御側レンチキュラーシート6、遮光パターン8aにおいて、それぞれがy方向に延びるストライプ状に形成された構造を有し、平行光を取り出すための領域2p、5p、6p’、7pがいずれも対応する位置に配置するように積層され、同様に、拡散光を取り出すための領域2d、5d、6d、7dが、いずれも対応する位置に配置するように積層されており、これら、平行光を取り出すための領域と、拡散光を取り出すための領域とが、x方向に交互に配置されている。
【0035】
すなわち、発光層2の平行光用発光領域2pを点灯した場合には、
図2に示すように、発光層2の平行光用発光領域2p、発光側レンチキュラーシート5の平行光領域5p、制御側レンチキュラーシート6の無レンズ領域6p’、樹脂層の平行光領域7p、及び保護層9Aを通ったEL光を平行光として取り出すことができる。
【0036】
また、発光層2の拡散光用発光領域2dを点灯した場合には、
図3に示すように、発光層2の拡散光用発光領域2d、発光側レンチキュラーシート5の拡散光領域5d、制御側レンチキュラーシート6の拡散光用レンズ6d、樹脂層の拡散光領域7d、及び保護層9Aを通ったEL光を拡散光として取り出すことができる。このとき、拡散光用発光領域2dで点灯し、発光側レンチキュラーシート5の拡散光領域5d、及び制御側レンチキュラーシート6の拡散光用レンズ6dを直進する平行光は、
図3に示すように、遮光パターン8
aによって遮光され、出射しない。
【0037】
以下、本発明に係る有機EL素子の製造方法における実施形態を説明する。
【0038】
本発明の有機EL素子の製造において、発光構造体20の製造に関しては、発光層2の平行光用発光領域2pと拡散光用発光領域2dとをストライプ状に形成し、これらを電気的に切り替え可能とするだけであるので、従来公知の各種製造方法を適用可能である。また、光制御シート30のうち、シリンドリカル型拡散光用レンズ6dが片面に並設され、他面が平坦面である制御側レンチキュラーシート6を製造する部分に関しても従来公知の各種の製造方法を採用可能である。このため、本発明に係る有機EL素子の製造方法における実施形態では、光制御シート30のうちの樹脂層7b及び遮光パターン8aの製造方法について述べる。
【0039】
図4は本発明に係る有機EL素子の製造方法における実施形態のうち、樹脂層7b及び遮光パターン8aの製造工程を示すフローチャートである。本発明に係る有機EL素子の製造方法においては、
図4に示すように、電離放射線硬化型樹脂層形成工程と、樹脂層硬化工程と、転写シート重ね合わせ工程と、遮光パターン形成工程とを含んでおり、樹脂層7b及び遮光パターン8aを形成する。
【0040】
図5〜
図8は本発明の有機EL素子の製造方法における、樹脂層7b及び遮光パターン8aの製造工程を示す模式断面図である。
【0041】
電離放射線硬化型樹脂層形成工程においては、
図5に示すように、所定の焦点距離を有するシリンドリカルレンズ6dが片面に並設され、他面が平坦面である制御側レンチキュラーシート6を用意し、前記平坦面に、未硬化状態では粘着性を持つ電離放射線硬化型樹脂層7aを形成し、その上に保護層9Bを形成する。制御側レンチキュラーシート6の材料としては、アクリル、塩化ビニル、カーボネイトなどの透明な熱可塑性樹脂を任意の方法で成形したものでもよいし、または、UV硬化型樹脂やEB硬化型樹脂などの電離放射線硬化型樹脂を用いた前記樹脂の硬化物からなるものでもよい。
【0042】
本実施形態においては、レンチキュラーシート、電離放射線硬化型樹脂、保護層9Bの一例として下記のものを使用する。
<制御側レンチキュラーシート>厚さ1.0mmの透明基材(材質;アクリル)上にUV硬化型樹脂(材質;エポキシアクリレート系)の硬化物からなるシリンドリカルレンズ群を形成したもの。ピッチ0.4mm、球面半径0.35mm、レンズ部厚さ0.063mm、サイズ120cm×90cm
<樹脂層>UV硬化型樹脂:クロマリンフィルム(デュポン社製商品名)
<保護層>マイラーフィルム(デュポン社製商品名)
【0043】
樹脂層硬化工程においては、
図6に示すように、未硬化状態の前記樹脂層7aに、構造層6b側より電離放射線を照射する。この際、マスク51を通過し、構造層6bの長手方向(y方向)に延びた帯状の電離放射線(以下、透過光52と称する)を、構造層6b側から制御側レンチキュラーシート6の平坦面に対して垂直に照射する。透過光52は、マスク51の透過部51aにより生成しているが、マスク51の透過部51aのx方向の幅は、レンチキュラーシート6に並設されたレンズ6dの個々のレンズ間の幅6eよりもやや広く設計しておく。その理由は、レンチキュラーシート6に並設されたレンズ6dの個々のレンズ間の幅6eと同じ幅を通る光によって、
図1における、樹脂層の平行光領域7pの全体と拡散光領域7dの一部を硬化形成し、さらにレンチキュラーシート6に並設されたレンズ6dの個々のレンズ間の幅6eよりもやや外側を通る光をレンズ6dの裾部で屈折させ、拡散光領域7dの残りの部分を硬化形成するためである。尚、透過部51aは、マスク51がフォトマスクの場合はクロムなどの遮光性膜を除去した透明性基板の部分により形成し、EBマスクなどの場合は開口部により形成すればよい。また、マスク51の透過部51aには、電離放射線の照射時間、照射方向を設定可能なシャッターなどが設けられていてもよい。
【0044】
本実施形態においては、電離放射線の照射条件の一例として下記のものを使用する。
<照射条件>
使用光源…近紫外線水銀灯(出力13kW、120W/cm)
【0045】
前記樹脂層硬化工程によって、樹脂層7b(7p及び7d)の部分は硬化し非粘着性となり、7aの部分は、硬化せず粘着性を有したままとなる。
【0046】
転写シート重ね合わせ工程及び遮光パターン形成工程においては、樹脂層7a、7b上の保護層9Bを剥離した後、粘着性を有する状態の樹脂層7aの部分を黒色に着色し、遮光パターン8aを形成する。
【0047】
着色方法としては、
図7に示すように、樹脂層7a、7bの表面全体に、黒色の転写インキ層8が形成された転写シートを重ね合わせて、粘着性を有する樹脂層の未硬化部7aのみに前記インキ層8を転写形成し、さらに
図8に示すように、非粘着性の樹脂層の硬化部7bからはインキ層を剥離する方法がある。この場合、前記転写シートは、樹脂層硬化工程(
図5、
図6)における保護層9Bの代わりに用いることも有効である。
【0048】
別な着色方法としては、カーボンブラックの黒色トナーを樹脂層7a、7bの全面に散布し、その後非粘着性の樹脂層7bに散布された黒色トナーを除去する方法も可能である。
【0049】
次に、樹脂層7a、7bの全面に電離放射線を照射して、未硬化であった樹脂層7aを硬化して硬化部7bのみとする。また、形成した遮光パターン8a(インキ層)が剥離しないように、遮光パターン8aの上から感光性フィルムをラミネートして、電離放射線を照射して感光性フィルムを硬化させ、
図1に示した保護層9Aとしても良い。
【0050】
保護層9Aを形成した後に、この光制御シート30を発光構造体20と積層して、有機EL素子10を製造する。