特許 6555588 光ファイバ製造廃液の処理装置、及び光ファイバ製造廃液の処理方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6555588

(24)【登録日】2019年7月19日

(45)【発行日】2019年8月7日

(54)【発明の名称】光ファイバ製造廃液の処理装置、及び光ファイバ製造廃液の処理方法

(51)【国際特許分類】

   B01J 45/00 20060101AFI20190729BHJP

   C02F 1/42 20060101ALI20190729BHJP

   C02F 1/52 20060101ALI20190729BHJP

   B01J 49/05 20170101ALI20190729BHJP

【ＦＩ】

   B01J45/00

   C02F1/42 H

   C02F1/52 K

   C02F1/42 B

   B01J49/05

【請求項の数】7

【全頁数】17

(21)【出願番号】特願2016-23000(P2016-23000)

(22)【出願日】2016年2月9日

(65)【公開番号】特開2017-140571(P2017-140571A)

(43)【公開日】2017年8月17日

【審査請求日】2018年8月21日

(73)【特許権者】

【識別番号】000002130

【氏名又は名称】住友電気工業株式会社

(74)【代理人】

【識別番号】100100147

【弁理士】

【氏名又は名称】山野 宏

(72)【発明者】

【氏名】粕谷 浩二

(72)【発明者】

【氏名】中村 元宣

(72)【発明者】

【氏名】中山 茂吉

(72)【発明者】

【氏名】河原 幸春

【審査官】 増田 健司

(56)【参考文献】

【文献】 特開昭５８−１９９７３９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２００１−１１３１７９（ＪＰ，Ａ）

【文献】 国際公開第０２／０６０８２４（ＷＯ，Ａ１）

【文献】 特開２００１−１７９２５３（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００２−５１２５６０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特開２０１２−９１９６８（ＪＰ，Ａ）

【文献】 特表２００３−５０５３２０（ＪＰ，Ａ）

【文献】 中国特許出願公開第１０３４４９４５７（ＣＮ，Ａ）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｂ０１Ｊ ４５／００

Ｂ０１Ｊ ４９／０５

Ｃ０２Ｆ １／４２

Ｃ０２Ｆ １／５２

Ｃ０２Ｆ １／５８

Ｃ０２Ｆ １／２８

Ｃ０３Ｂ ３７／００

Ｃ０３Ｃ １３／００

Ｃ０１Ｂ ３３／００

Ｃ０１Ｇ １７／００

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

光ファイバの製造時に副生されるゲルマニウム及びケイ素を含む副生成物を溶媒で集塵して前記副生成物を含む廃液を作製する集塵機と、
前記廃液を所定のｐＨに調整したｐＨ調整液を作製するｐＨ調整槽と、
前記ｐＨ調整液に含まれる前記ゲルマニウムを選択的に吸着するキレート繊維が充填され、前記ｐＨ調整液を濾過して前記ｐＨ調整液からゲルマニウムを除去した濾液を作製する濾過槽と、
前記濾液に含まれるケイ素を凝集して沈降させる凝集沈降槽と、
前記ｐＨ調整槽から前記濾過槽に前記ｐＨ調整液を流通させる調整液流通路と、
前記濾過槽を通過した前記濾液を前記凝集沈降槽側へ流通させる濾液流通路と、
前記キレート繊維に吸着したゲルマニウムを脱離する酸性溶液を前記濾過槽に流通させる酸流通路と、
前記濾過槽を通過した前記酸性溶液と前記キレート繊維から脱離したゲルマニウムとを含むゲルマニウム含有溶液を流通させるゲルマニウム回収路と、
前記濾過槽に流通させる液の種類に応じて、前記調整液流通路及び前記濾液流通路、又は、前記酸流通路及び前記ゲルマニウム回収路の一方を開通し他方を閉鎖する開閉機構とを備える光ファイバ製造廃液の処理装置。

【請求項2】

前記濾過槽と前記凝集沈降槽との間に配置されて前記濾液流通路に連結され、前記濾液を所定のｐＨに再調整するｐＨ再調整槽を備える請求項１に記載の光ファイバ製造廃液の処理装置。

【請求項3】

更に、前記ゲルマニウム含有溶液を前記濾過槽に循環させる循環路を備える請求項１又は請求項２に記載の光ファイバ製造廃液の処理装置。

【請求項4】

光ファイバの製造時に副生されるゲルマニウム及びケイ素を含む副生成物を溶媒で集塵して前記副生成物を含む廃液を作製する集塵工程と、
前記廃液にｐＨ調整剤を添加して所定のｐＨに調整したｐＨ調整液を作製するｐＨ調整工程と、
前記ｐＨ調整液を濾過して前記ｐＨ調整液からゲルマニウムを除去した濾液を作製する濾過工程と、
前記濾液に含まれるケイ素を凝集する凝集剤を添加してケイ素を凝集沈降させる凝集沈降工程とを備え、
前記濾過工程は、
前記ｐＨ調整液に含まれるゲルマニウムを選択的に吸着するキレート繊維に前記ｐＨ調整液を流通して、ゲルマニウムを前記キレート繊維に吸着させる吸着工程と、
前記キレート繊維に吸着したゲルマニウムを脱離する酸性溶液を前記キレート繊維に流通して、ゲルマニウムと前記酸性溶液とを含むゲルマニウム含有溶液を作製する脱離工程とを有する光ファイバ製造廃液の処理方法。

【請求項5】

前記濾過工程後、前記凝集沈降工程前に、前記濾液にｐＨ調整剤を添加して前記濾液を所定のｐＨに再調整するｐＨ再調整工程を備える請求項４に記載の光ファイバ製造廃液の処理方法。

【請求項6】

前記濾過工程は、更に、前記ゲルマニウム含有溶液を前記キレート繊維に再度流通させる再流通工程を備える請求項４又は請求項５に記載の光ファイバ製造廃液の処理方法。

【請求項7】

前記廃液におけるケイ素の含有量が、２０ｍｇ／Ｌ以上５ｇ／Ｌ以下である請求項４から請求項６のいずれか１項に記載の光ファイバ製造廃液の処理方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、光ファイバ製造廃液の処理装置、及び光ファイバ製造廃液の処理方法に関する。特に、光ファイバの製造時の廃液に含まれるゲルマニウムを効率よく回収できる光ファイバ製造廃液の処理装置、及び光ファイバ製造廃液の処理方法に関する。

【背景技術】

【0002】

ダイオードなどの半導体の材料や、ガラス製の光ファイバにおけるコアの添加剤など、種々の工業製品の原料にゲルマニウム（Ｇｅ）が使用されている。Ｇｅは、近年、価格が高騰している。そこで、例えば特許文献１や特許文献２には、Ｇｅを回収する技術が開示されている。

【0003】

特許文献１には、キレート形成性繊維を、ｐＨ３〜１２に調整されたＧｅ含有水溶液と接触させて水溶液中のＧｅを除去することが開示されている。

【0004】

特許文献２には、捕捉工程と溶離工程とを備える溶液の処理方法が開示されている。捕捉工程は、キレート形成性繊維が充填された充填容器に、金属および／または類金属を含む溶液を通し、金属および／または類金属をキレート形成性繊維にキレート捕捉させる。溶離工程は、捕捉工程の後、充填容器に酸又はアルカリ水溶液を通し、キレート捕捉された、金属および／または類金属をキレート形成繊維から溶離させる。金属および／または類金属がゲルマニウムのとき、上記捕捉工程をｐＨ３〜１２で行い、上記溶離工程をｐＨ０．５〜２．５で行う。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0005】

【特許文献1】特開２００１−１１３１７９号公報

【特許文献2】国際公開第２００２／０６０８２４号

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0006】

ガラス製の光ファイバの製造時、光ファイバにおけるコアの添加剤であるＧｅの一部は、コアの生成に利用されず、気相と固相の混合物である副生成物として副生される。この副生成物は、非常に微細なため、一旦、溶媒と混合して廃液とされる。この廃液から、廃液に含まれるＧｅを効率良く回収することが望まれるが、その廃液処理過程と上記Ｇｅ回収技術とをどう組み合わせるかは検討の余地があった。

【0007】

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、その目的の一つは、光ファイバの製造時の廃液に含まれるゲルマニウムを効率よく回収できる光ファイバ製造廃液の処理装置を提供することにある。

【0008】

本発明の別の目的は、光ファイバの製造時の廃液に含まれるゲルマニウムを効率よく回収できる光ファイバ製造廃液の処理方法を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0009】

本発明の一態様に係る光ファイバ製造廃液の処理装置は、集塵機と、ｐＨ調整槽と、濾過槽と、凝集沈降槽と、調整液流通路と、濾液流通路と、酸流通路と、ゲルマニウム回収路と、開閉機構とを備える。
集塵機は、光ファイバの製造時に副生されるゲルマニウム及びケイ素を含む副生成物を溶媒で集塵して副生成物を含む廃液を作製する。
ｐＨ調整槽は、廃液を所定のｐＨに調整したｐＨ調整液を作製する。
濾過槽は、ｐＨ調整液に含まれるゲルマニウムを選択的に吸着するキレート繊維が充填され、ｐＨ調整液を濾過してｐＨ調整液からゲルマニウムを除去した濾液を作製する。
凝集沈降槽は、濾液に含まれるケイ素を凝集して沈降させる。
調整液流通路は、ｐＨ調整槽から濾過槽にｐＨ調整液を流通させる。
濾液流通路は、濾過槽を通過した濾液を凝集沈降槽側へ流通させる。
酸流通路は、キレート繊維に吸着したゲルマニウムを脱離する酸性溶液を濾過槽に流通させる。
ゲルマニウム回収路は、キレート繊維から脱離したゲルマニウムと酸性溶液とを含むゲルマニウム含有溶液を流通させる。
開閉機構は、濾過槽に流通させる液の種類に応じて、調整液流通路及び濾液流通路、又は、酸流通路及びゲルマニウム回収路の一方を開通し他方を閉鎖する。

【0010】

本発明の一態様に係る光ファイバ製造廃液の処理方法は、集塵工程と、ｐＨ調整工程と、濾過工程と、凝集沈降工程とを備える。
集塵工程は、光ファイバの製造時に副生されるゲルマニウム及びケイ素を含む副生成物を溶媒で集塵して副生成物を含む廃液を作製する。
ｐＨ調整工程は、廃液にｐＨ調整剤を添加して所定のｐＨに調整したｐＨ調整液を作製する。
濾過工程は、ｐＨ調整液を濾過してｐＨ調整液からゲルマニウムを除去した濾液を作製する。
凝集沈降工程は、濾液に含まれるケイ素を凝集する凝集剤を添加してケイ素を凝集沈降させる。
濾過工程は、吸着工程と、脱離工程とを有する。
吸着工程は、ｐＨ調整液に含まれるゲルマニウムを選択的に吸着するキレート繊維にｐＨ調整液を流通して、ゲルマニウムをキレート繊維に吸着させる。
脱離工程は、キレート繊維に吸着したゲルマニウムを脱離する酸性溶液をキレート繊維に流通して、ゲルマニウムと酸性溶液とを含むゲルマニウム含有溶液を作製する。

【発明の効果】

【0011】

上記光ファイバ製造廃液の処理装置は、光ファイバの製造時の廃液に含まれるゲルマニウムを効率よく回収できる。

【0012】

上記光ファイバ製造廃液の処理方法は、光ファイバの製造時の廃液に含まれるゲルマニウムを効率よく回収できる。

【図面の簡単な説明】

【0013】

【図1】実施形態１に係る光ファイバ製造廃液の処理装置の概略構成、及び光ファイバ製造廃液の処理方法の手順を説明する工程説明図である。

【図2】実施形態２に係る光ファイバ製造廃液の処理装置の概略構成、及び光ファイバ製造廃液の処理方法の手順を説明する工程説明図である。

【図3】実施形態３に係る光ファイバ製造廃液の処理装置の概略構成、及び光ファイバ製造廃液の処理方法の手順を説明する工程説明図である。

【発明を実施するための形態】

【0014】

《本発明の実施形態の説明》
最初に本発明の実施態様を列記して説明する。

【0015】

（１）本発明の一態様に係る光ファイバ製造廃液の処理装置は、集塵機と、ｐＨ調整槽と、濾過槽と、凝集沈降槽と、調整液流通路と、濾液流通路と、酸流通路と、ゲルマニウム回収路と、開閉機構とを備える。
集塵機は、光ファイバの製造時に副生されるゲルマニウム及びケイ素を含む副生成物を溶媒で集塵して副生成物を含む廃液を作製する。
ｐＨ調整槽は、廃液を所定のｐＨに調整したｐＨ調整液を作製する。
濾過槽は、ｐＨ調整液に含まれるゲルマニウムを選択的に吸着するキレート繊維が充填され、ｐＨ調整液を濾過してｐＨ調整液からゲルマニウムを除去した濾液を作製する。
凝集沈降槽は、濾液に含まれるケイ素を凝集して沈降させる。
調整液流通路は、ｐＨ調整槽から濾過槽にｐＨ調整液を流通させる。
濾液流通路は、濾過槽を通過した濾液を凝集沈降槽側へ流通させる。
酸流通路は、キレート繊維に吸着したゲルマニウムを脱離する酸性溶液を濾過槽に流通させる。
ゲルマニウム回収路は、キレート繊維から脱離したゲルマニウムと酸性溶液とを含むゲルマニウム含有溶液を流通させる。
開閉機構は、濾過槽に流通させる液の種類に応じて、調整液流通路及び濾液流通路、又は、酸流通路及びゲルマニウム回収路の一方を開通し他方を閉鎖する。

【0016】

上記の構成によれば、集塵機と凝集沈降槽との間に濾過槽を設けることで、光ファイバの製造時の廃液に含まれるゲルマニウムを効率よく回収できる。濾過槽を凝集沈降槽よりも下流に設ける場合に凝集沈降槽の貯留物に含まれるゲルマニウム濃度と比べて、ｐＨ調整液に含まれるゲルマニウム濃度が高いからである。また、濾過槽を凝集沈降槽よりも下流に設ける場合、凝集沈降槽で凝集して沈降させた固相からゲルマニウムを回収することが難しいからである。更に、ｐＨ調整液の液量は、凝集沈降槽で凝集させたことで分離した上澄み液に比べて非常に少ないため、ゲルマニウムの回収作業を容易に行えるからである。

【0017】

（２）上記光ファイバ製造廃液の処理装置の一形態として、濾過槽と凝集沈降槽との間に配置されて濾液流通路に連結され、濾液を所定のｐＨに再調整するｐＨ再調整槽を備えることが挙げられる。

【0018】

上記の構成によれば、凝集沈降槽でケイ素を効果的に凝集させられる。濾過槽で作製された濾液のｐＨが凝集沈降槽でケイ素を凝集させるのに適したｐＨでなかったとしても、ｐＨ再調整槽を備えることで、濾過槽で作製された濾液のｐＨを凝集沈降槽でケイ素を凝集させるのに適したｐＨに調整できるからである。

【0019】

（３）上記光ファイバ製造廃液の処理装置の一形態として、更に、ゲルマニウム含有溶液を濾過槽に循環させる循環路を備えることが挙げられる。

【0020】

上記の構成によれば、仮に、一度の酸性溶液のキレート繊維への流通で、キレート繊維に吸着した全てのゲルマニウムを脱離させられなくても、循環路を備えることで、ゲルマニウム含有溶液を濾過槽のキレート繊維に再度流通させられる。そのため、キレート繊維に吸着された全てのゲルマニウムを容易に脱離させられる。ゲルマニウム含有溶液は酸性溶液を含むため、ゲルマニウム含有溶液のｐＨは、キレート繊維がゲルマニウムを選択的に吸着するのに適したｐＨではない。そのため、ゲルマニウム含有溶液をキレート繊維に再度流通させても、ゲルマニウム含有溶液中のゲルマニウムはキレート繊維に吸着されず、ゲルマニウム含有溶液中の酸性溶液がキレート繊維に吸着して残存するゲルマニウムをキレート繊維から脱離させられるからである。従って、ゲルマニウム含有溶液におけるゲルマニウムの含有量を高められる。

【0021】

（４）本発明の一態様に係る光ファイバ製造廃液の処理方法は、集塵工程と、ｐＨ調整工程と、濾過工程と、凝集沈降工程とを備える。
集塵工程は、光ファイバの製造時に副生されるゲルマニウム及びケイ素を含む副生成物を溶媒で集塵して副生成物を含む廃液を作製する。
ｐＨ調整工程は、廃液にｐＨ調整剤を添加して所定のｐＨに調整したｐＨ調整液を作製する。
濾過工程は、ｐＨ調整液を濾過してｐＨ調整液からゲルマニウムを除去した濾液を作製する。
凝集沈降工程は、濾液に含まれるケイ素を凝集する凝集剤を添加してケイ素を凝集沈降させる。
濾過工程は、吸着工程と、脱離工程とを有する。
吸着工程は、ｐＨ調整液に含まれるゲルマニウムを選択的に吸着するキレート繊維にｐＨ調整液を流通して、ゲルマニウムをキレート繊維に吸着させる。
脱離工程は、キレート繊維に吸着したゲルマニウムを脱離する酸性溶液をキレート繊維に流通して、ゲルマニウムと酸性溶液とを含むゲルマニウム含有溶液を作製する。

【0022】

上記の構成によれば、集塵工程と凝集沈降工程との間で濾過工程を行うことで、光ファイバの製造時の廃液に含まれるゲルマニウムを効率よく回収できる。濾過工程を凝集沈降工程後に行う場合に凝集沈降工程での作製物に含まれるゲルマニウム濃度と比べて、ｐＨ調整液に含まれるゲルマニウム濃度が高いからである。また、濾過工程を凝集沈降工程後に行う場合、凝集沈降工程で凝集して沈降させた固相からゲルマニウムを回収することが難しいからである。更に、ｐＨ調整液の液量は、凝集沈降工程で固相を凝集させたことで分離した上澄み液に比べて非常に少ないため、ゲルマニウムの回収作業を容易に行えるからである。

【0023】

（５）上記光ファイバ製造廃液の処理方法の一形態として、濾過工程後、凝集沈降工程前に、濾液にｐＨ調整剤を添加して濾液を所定のｐＨに再調整するｐＨ再調整工程を備えることが挙げられる。

【0024】

上記の構成によれば、凝集沈降工程でケイ素を効果的に凝集させられる。濾過工程後の濾液のｐＨが凝集沈降工程でケイ素を凝集させるのに適したｐＨでなかったとしても、ｐＨ再調整工程を備えることで、濾過工程後の濾液のｐＨを凝集沈降工程でケイ素を凝集させるのに適したｐＨに調整できるからである。

【0025】

（６）上記光ファイバ製造廃液の処理方法の一形態として、濾過工程は、更に、ゲルマニウム含有溶液をキレート繊維に再度流通させる再流通工程を備えることが挙げられる。

【0026】

上記の構成によれば、仮に、一度の酸性溶液のキレート繊維への流通で、キレート繊維に吸着した全てのゲルマニウムを脱離させられなくても、再流通工程を備えることで、ゲルマニウム含有溶液をキレート繊維に再度流通させられる。そのため、キレート繊維に吸着された全てのゲルマニウムを容易に脱離させられる。ゲルマニウム含有溶液は酸性溶液を含むため、ゲルマニウム含有溶液のｐＨは、キレート繊維がゲルマニウムを選択的に吸着するのに適したｐＨではない。そのため、ゲルマニウム含有溶液をキレート繊維に再度流通させても、ゲルマニウム含有溶液中のゲルマニウムはキレート繊維に吸着されず、ゲルマニウム含有溶液中の酸性溶液がキレート繊維に吸着して残存するゲルマニウムをキレート繊維から脱離させられるからである。従って、ゲルマニウム含有溶液におけるゲルマニウムの含有量を高められる。

【0027】

（７）上記光ファイバ製造廃液の処理方法の一形態として、廃液におけるケイ素の含有量が、２０ｍｇ／Ｌ以上５ｇ／Ｌ以下であることが挙げられる。

【0028】

廃液におけるケイ素の含有量を２０ｍｇ／Ｌ以上とすれば、Ｓｉの含有量が多いため、凝集沈降工程でのＳｉの凝集量を多くできる。廃液におけるケイ素の含有量を５ｇ／Ｌ以下とすれば、Ｓｉの含有量が過度に多くなく、廃液の粘度が高すぎない。そのため、後工程の濾過工程でｐＨ調整液を流通させ易い。

【0029】

《本発明の実施形態の詳細》
本発明の実施形態１から実施形態３の詳細を、以下に図面を参照しつつ説明する。図中の同一符号は同一名称物を示す。各実施形態での説明は、光ファイバ製造廃液の処理装置、光ファイバ製造廃液の処理方法の順に行う。本発明は、これらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。各図に示す一部の槽内には、説明の便宜上、ｐＨ値の一例を表記している。

【0030】

《実施形態１》
〔光ファイバ製造廃液の処理装置〕
図１を参照して、実施形態１に係る光ファイバ製造廃液の処理装置１Ａを説明する。光ファイバ製造廃液の処理装置１Ａは、光ファイバの製造時に副生される副生成物を含む廃液を処理する。具体的には、廃液に含まれるゲルマニウム（Ｇｅ）とケイ素（Ｓｉ）とを分離して、Ｇｅを回収すると共にＳｉを一纏めに集める。この光ファイバ製造廃液の処理装置１Ａの主たる特徴とするところは、このゲルマニウムを回収する機構を、光ファイバ製造廃液の処理装置１Ａの特定の箇所に設けた点にある。光ファイバ製造廃液の処理装置１Ａは、集塵機２と、ｐＨ調整槽３と、濾過槽４と、ｐＨ再調整槽５と、凝集沈降槽６と、調整液流通路７１と、濾液流通路７２と、酸流通路７３と、Ｇｅ回収路７４と、開閉機構８とを備える。以下、各構成の詳細を説明する。

【0031】

［集塵機］
集塵機２は、光ファイバの製造時に副生されるＧｅ及びＳｉを含む副生成物を溶媒で集塵して副生成物を含む廃液２０を作製する。それにより、副生成物のうち排気可能なガス成分を分離できる。集塵機２には、副生成物が流入する流入路１１０と、上記ガス成分を集塵機の外へ排出する排風機（図示略）が連結されている。集塵機２の集塵方式は、電気式が挙げられる。それにより、副生成物を凝集させ易く、溶媒により集塵し易い。集塵機２は、ここでは、シャワー２１と貯留槽２２とを備える。

【0032】

（シャワー）
シャワー２１は、溶媒を集塵機２内に噴射して集塵機２内に流入した副生成物と接触させる。副生成物は、気相と固相の混合物であり、ゲルマニウム酸化物（例えば、二酸化ゲルマニウム：ＧｅＯ_２）や、ケイ素酸化物（例えば、二酸化ケイ素：ＳｉＯ_２）、塩酸（ＨＣｌ）、水（Ｈ_２Ｏ）などを含んでいる。溶媒は、気相の一部と固相と接触する。気相の残部は、上記排風機で集塵機２の外部へ排出される。溶媒は、例えば、工業用水が挙げられる。

【0033】

（貯留槽）
貯留槽２２は、溶媒と溶媒に接触した副生成物とが混合して、副生成物の一部（主に気相）が溶解した廃液２０を貯留する。副生成物の残部（主に固相）は、溶媒に溶解せず廃液２０に残存する。即ち、廃液２０は、懸濁液である。この懸濁液の液体にはＧｅが含まれ、固相は主にＳｉで構成されている。この廃液２０の性質は酸性であり、廃液２０のｐＨは凡そ１以下である。廃液２０におけるＳｉの含有量は、２０ｍｇ／Ｌ以上５ｇ／Ｌ以下が好ましい。廃液２０におけるＳｉの含有量を２０ｍｇ／Ｌ以上とすれば、Ｓｉの含有量が多いため、後述の凝集沈降槽６でＳｉの凝集量を多くできる。廃液２０におけるＳｉの含有量を５ｇ／Ｌ以下とすれば、Ｓｉの含有量が過度に多くなく、廃液２０の粘度が高すぎない。そのため、後述の濾過槽４でｐＨ調整液３０を流通させ易い。

【0034】

［ｐＨ調整槽］
ｐＨ調整槽３は、廃液２０を所定のｐＨに調整したｐＨ調整液３０を作製し貯留する。ｐＨ調整槽３は、廃液２０のｐＨを調整するｐＨ調整剤を充填する調整剤充填部（図示略）が連結されている。ｐＨ調整剤は、例えば、苛性ソーダが挙げられる。ｐＨ調整液３０には、廃液２０に含まれるＧｅ及びＳｉと、ｐＨ調整剤とが含まれる。ｐＨ調整液３０のｐＨは、後述の濾過槽４でキレート繊維４１がＧｅを選択的に吸着できるｐＨとする。具体的には、ｐＨ調整液３０のｐＨは、３以上１０以下が挙げられる。ｐＨ調整液３０のｐＨは、上記範囲内のうち、後工程の濾過槽４を経た濾液のｐＨがｐＨ再調整槽５で調整するｐＨと同じｐＨとなるように調整してもよいし、異なるｐＨとなるように調整してもよい。ここでは、異なるｐＨとなるように調整する。同じｐＨとなるように調整する場合は、後述の実施形態２で説明する。

【0035】

［濾過槽］
濾過槽４は、ｐＨ調整液３０に含まれるＧｅを選択的に吸着するキレート繊維４１が充填され、ｐＨ調整液３０を濾過してｐＨ調整液３０からＧｅを除去した濾液を作製する。即ち、濾液にはＳｉが含まれている。キレート繊維４１は、吸着したＧｅを後述する酸性溶液９０により脱離可能なキレート繊維を用いる。キレート繊維４１は、市販の繊維が利用できる。濾過槽４の数は、単数でもよいし複数でもよい。濾過槽４の数を複数とする場合、複数の濾過槽４の配置形態は、並列とすることが挙げられる。

【0036】

［ｐＨ再調整槽］
ｐＨ再調整槽５は、濾液を所定のｐＨに再調整し、再調整した濾液（以下、再調整液５０）を貯留する。ｐＨ再調整槽５は、ｐＨ調整剤を充填する調整剤充填部（図示略）が連結されている。ｐＨ調整剤は、上述のｐＨ調整剤と同様の苛性ソーダの他、例えば、消石灰や塩酸などが挙げられる。再調整液５０には、Ｇｅが含まれず、Ｓｉと調整剤とが含まれる。再調整液５０のｐＨは、後述の凝集沈降槽６でＳｉを凝集沈降させられるｐＨとする。具体的には、再調整液５０のｐＨは、６以上８以下が挙げられ、６．５以上７．５以下が好ましく、特に７程度が好ましい。

【0037】

［凝集沈降槽］
凝集沈降槽６は、濾液に含まれるＳｉを凝集して沈降させる。それにより、凝集沈降槽６には、Ｓｉが凝集沈降した塊６０と、濾液からＳｉが除去された上澄み液６１とが分離して貯留される。凝集沈降槽６は、凝集剤を充填する凝集剤充填部（図示略）が連結されている。凝集剤は、例えば、ポリ塩化アルミニウムが挙げられる。

【0038】

［調整液流通路］
調整液流通路７１は、ｐＨ調整槽３から濾過槽４にｐＨ調整液３０を流通させる。調整液流通路７１の一端はｐＨ調整槽３に連結され、他端は濾過槽４に連結される。調整液流通路７１の途中には、調整液流通路７１を開閉する調整液側バルブ８１が設けられている。調整液側バルブ８１は、後述する開閉機構８を構成する。

【0039】

［濾液流通路］
濾液流通路７２は、濾過槽４を通過した濾液を凝集沈降槽６側へ流通させる。ここでは、濾液流通路７２の一端は濾過槽４に連結され、その途中にはｐＨ再調整槽５が介在され、他端は凝集沈降槽６に連結される。濾液流通路７２の途中（濾過槽４とｐＨ再調整槽５との間）には、濾液流通路７２を開閉する濾液側バルブ８２が設けられている。濾液側バルブ８２は、調整液側バルブ８１と同様、開閉機構８を構成する。

【0040】

［酸流通路］
酸流通路７３は、キレート繊維４１に吸着したＧｅを脱離する酸性溶液９０を濾過槽４に流通させる。酸流通路７３の一端は酸性溶液９０を貯留する酸溶液貯留槽９に連結され、その他端は濾過槽４に連結される。酸流通路７３の途中には、酸流通路７３を開閉する酸溶液側バルブ８３が設けられている。酸溶液側バルブ８３は、調整液側バルブ８１と濾液側バルブ８２と同様、開閉機構８を構成する。

【0041】

［ゲルマニウム回収路］
Ｇｅ回収路７４は、キレート繊維４１から脱離したＧｅと酸性溶液９０とを含むＧｅ含有溶液１００を流通させる。Ｇｅ回収路７４の一端は、濾過槽４に連結され、他端はＧｅ含有溶液１００を貯留するＧｅ回収槽１０に連結される。Ｇｅ回収路７４の途中には、Ｇｅ回収路７４を開閉するＧｅ溶液側バルブ８４が設けられている。Ｇｅ溶液側バルブ８４は、調整液側バルブ８１と濾液側バルブ８２と酸溶液側バルブ８３と同様、開閉機構８を構成する。

【0042】

［開閉機構］
開閉機構８は、濾過槽４に流通させる液の種類に応じて、調整液流通路７１及び濾液流通路７２、又は、酸流通路７３及びＧｅ回収路７４の一方を開通し他方を閉鎖する。それにより、以下の（１）又は（２）の流通の一方を行い、他方を行わない。
（１）ｐＨ調整液３０をｐＨ調整槽３から濾過槽４に流通させ、濾液を濾過槽４から凝集沈降槽６側（図１ではｐＨ再調整槽５側）へ流通させる。
（２）キレート繊維４１に吸着したＧｅを脱離する酸性溶液９０を酸溶液貯留槽９から濾過槽４に流通させ、濾過槽４を通過した酸性溶液９０とキレート繊維４１から脱離したＧｅとを含むＧｅ含有溶液１００をＧｅ回収槽１０へ流通させる。

【0043】

開閉機構８は、上記した調整液側バルブ８１、濾液側バルブ８２、酸溶液側バルブ８３、及びＧｅ溶液側バルブ８４と、開閉制御部８００とを備える。各バルブ８１、８２、８３、８４は、例えば、電動バルブや電磁バルブが挙げられる。開閉制御部８００は、濾過槽４に流通させる液に応じて開くバルブと閉じるバルブとを可変するように制御する。具体的には、開閉制御部８００は、ｐＨ調整液３０を濾過槽４に流通させる場合、調整液側バルブ８１と濾液側バルブ８２とを開き、酸溶液側バルブ８３とＧｅ溶液側バルブ８４とを閉じる。開閉制御部８００は、酸性溶液９０を濾過槽４に流通させる場合、調整液側バルブ８１と濾液側バルブ８２とを閉じて、酸溶液側バルブ８３とＧｅ溶液側バルブ８４とを開く。開閉制御部８００は、各バルブ８１、８２、８３、８４を駆動するモータやソレノイドに動作指令を出す指令出力部を有する回路を備えるコンピュータを利用できる。

【0044】

［その他］
光ファイバ製造廃液の処理装置１Ａは、更に、酸性溶液９０が流通したキレート繊維４１を濾過槽４内で洗浄する洗浄機（図示略）を備えることが好ましい。キレート繊維４１を洗浄することで、洗浄後のキレート繊維４１は、酸性溶液９０の流通前と同程度にｐＨ調整液３０のＧｅを選択的に吸着できる。そのため、酸性溶液９０の流通後に、キレート繊維４１自体を交換する手間を省ける。洗浄機は、キレート繊維４１を洗浄する洗浄剤を濾過槽４に流通させる流通路と、濾過槽４を流通した洗浄剤を排出する排出路とを備えることが挙げられる。洗浄剤は、例えば、水が挙げられる。

【0045】

光ファイバ製造廃液の処理装置１Ａは、更に、凝集沈降槽６で作製された塊６０をプレスしたプレス体６０ｐを纏めて運搬処分するケーキコンテナ１２０と、凝集沈降槽６で作製された上澄み液６１の成分を監視する監視槽１３０とを備える。監視槽１３０では、上澄み液６１に放流不可の成分が含まれていないか成分分析をし、放流可能であれば放流し、放流不可の成分があればその成分を除去する。

【0046】

〔光ファイバ製造廃液の処理装置の作用効果〕
上述の光ファイバ製造廃液の処理装置１Ａによれば、集塵機２と凝集沈降槽６との間に濾過槽４を設けることで、光ファイバの製造時の廃液２０に含まれるＧｅを効率よく回収できる。

【0047】

〔光ファイバ製造廃液の処理方法〕
光ファイバ製造廃液の処理方法は、光ファイバの製造時に副生される副生成物を含む廃液を処理する。具体的には、副生成物に含まれるＧｅとＳｉとを分離して、Ｇｅを回収すると共に、Ｓｉを一纏めに集める。光ファイバ製造廃液の処理方法の主たる特徴とするところは、Ｇｅの回収を廃液の処理過程における特定の箇所で行う点にある。ここでは、光ファイバ製造廃液の処理方法は、集塵工程と、ｐＨ調整工程と、濾過工程と、ｐＨ再調整工程と、凝集沈降工程とを備える。以下、各工程を順に説明する。ここでは、光ファイバ製造廃液の処理方法は、上述の光ファイバ製造廃液の処理装置１Ａを用いる。

【0048】

［集塵工程］
集塵工程は、光ファイバの製造時に副生されるＧｅ及びＳｉを含む副生成物を溶媒で集塵して副生成物を含む廃液を作製する。溶媒は、工業用水を利用できる。この工程により、Ｇｅを含む液体にＳｉで構成される固相が分散したｐＨが凡そ１以下の懸濁液（廃液）を作製できる。

【0049】

廃液におけるＳｉの含有量は、２０ｍｇ／Ｌ以上５ｇ／Ｌ以下とすることが好ましい。廃液におけるＳｉの含有量を２０ｍｇ／Ｌ以上とすれば、Ｓｉの含有量が多いため、後工程の凝集沈降工程でのＳｉの凝集量を多くできる。廃液におけるＳｉの含有量を５ｇ／Ｌ以下とすれば、Ｓｉの含有量が過度に多くなく、廃液の粘度が高すぎない。そのため、後工程の濾過工程でｐＨ調整液を流通させ易い。

【0050】

［ｐＨ調整工程］
ｐＨ調整工程は、廃液を所定のｐＨに調整したｐＨ調整液を作製する。廃液のｐＨの調整は、ｐＨ調整剤を添加する。ｐＨ調整剤の添加量は、ｐＨ調整液のｐＨが後工程の濾過工程でキレート繊維がＧｅを選択的に吸着できるｐＨとなる量とすることが挙げられる。具体的には、ｐＨ調整剤の添加量は、ｐＨ調整液のｐＨが３以上１０以下となる量とすることが挙げられる。ｐＨ調整剤の添加量は、濾過工程を経た濾液のｐＨが、後工程のｐＨ再調整工程で調整するｐＨと同じｐＨとなる量としてもよいし、異なるｐＨとなる量としてもよい。ここでは、ｐＨ調整剤の添加量は、ｐＨ再調整工程で調整するｐＨと異なるｐＨとなる量とする。ｐＨ調整剤の添加量は、ｐＨ再調整工程で調整するｐＨと同じｐＨとなるように調整する場合は、後述の実施形態２で説明する。ｐＨ調整剤は、苛性ソーダなどを利用できる。

【0051】

［濾過工程］
濾過工程は、ｐＨ調整液を濾過してｐＨ調整液からＧｅを除去した濾液を作製する。濾過工程は、吸着工程と、脱離工程とを備える。

【0052】

（吸着工程）
吸着工程は、ｐＨ調整液に含まれるＧｅを選択的に吸着するキレート繊維にｐＨ調整液を流通して、Ｇｅを前記キレート繊維に吸着させる。この吸着工程により、濾液が作製される。この濾液は、後述のｐＨ調整工程（凝集沈降工程）に利用される。キレート繊維は、市販のものを利用できる。

【0053】

（脱離工程）
脱離工程は、キレート繊維に吸着したＧｅを脱離する酸性溶液をキレート繊維に流通して、Ｇｅと酸性溶液とを含むＧｅ含有溶液を作製する。酸性溶液は、例えば、塩酸が挙げられる。このように、廃液に含まれるＧｅは、酸性溶液と混合したＧｅ含有溶液として回収する。

【0054】

［ｐＨ再調整工程］
ｐＨ再調整工程は、濾液を所定のｐＨに再調整する。ｐＨ再調整工程は、濾過工程後、凝集沈降工程前に行う。ｐＨの再調整は、ｐＨ調整剤を添加することで行う。ｐＨ調整剤の添加量は、ｐＨを再調整した濾液（再調整液）のｐＨが後工程の凝集沈降工程でＳｉを凝集沈降させられるｐＨとなる量とすることが挙げられる。具体的には、ｐＨ調整剤の添加量は、再調整液のｐＨが６以上８以下となる量とすることが挙げられ、特に６．５以上７．５以下となる量とすることが好ましく、特に７程度となる量とすることが好ましい。ｐＨ調整剤は、上述のｐＨ調整工程と同様の苛性ソーダの他、例えば、消石灰や塩酸などを利用できる。

【0055】

［凝集沈降工程］
凝集沈降工程は、濾液に含まれるＳｉを凝集沈降させる。この工程により、Ｓｉが凝集沈降した塊と濾液からＳｉが除去された上澄み液とに分離させられる。Ｓｉの凝集沈降には、濾液に含まれるＳｉを凝集する凝集剤を添加することで行う。凝集剤は、例えば、ポリ塩化アルミニウムが挙げられる。

【0056】

［その他］
光ファイバ製造廃液の処理方法は、更に、脱離工程後に洗浄剤でキレート繊維を洗浄する洗浄工程を備えることが好ましい。キレート繊維を洗浄することで、洗浄後のキレート繊維は、酸性溶液の流通前と同程度にｐＨ調整液のＧｅを選択的に吸着できる。そのため、酸性溶液流通後に、キレート繊維自体を交換する手間を省ける。洗浄剤は、例えば、水が挙げられる。

【0057】

光ファイバ製造廃液の処理方法は、更に、凝集沈降工程後、塊をプレスしてプレス体を作製するプレス工程と、上澄み液の放流工程とを備えることが挙げられる。プレス工程により、塊の密度の高いプレス体を作製することで、嵩を低くさせられる。放流工程では、上澄み液に放流不可の成分が含まれていないか成分分析をし、放流可能であれば放流し、放流不可の成分があればその成分を除去してから放流する。

【0058】

［廃液の処理手順］
上述の光ファイバ製造廃液の処理装置１Ａを用いて、上述の光ファイバ製造廃液の処理方法により廃液を処理する手順の一例を説明する。ここでは、調整液側バルブ８１及び濾液側バルブ８２は開いており、酸溶液側バルブ８３及びＧｅ溶液側バルブ８４は閉じている状態とする。

【0059】

集塵工程では、集塵機２でＧｅとＳｉを含む副生成物を水で集塵する。それにより、例えばｐＨ＝１の廃液２０を作製する。この廃液２０は、ｐＨ調整槽３へ送られる。

【0060】

ｐＨ調整工程では、ｐＨ調整槽３で廃液２０に苛性ソーダを添加する。それにより、例えばｐＨ＝３のｐＨ調整液３０を作製する。このｐＨ調整液３０は、濾過槽４へ送られる。所定量のｐＨ調整液３０が濾過槽４へ送られたら、開閉制御部８００は、調整液側バルブ８１を閉じて調整液流通路７１を閉鎖する。そうして、ｐＨ調整液３０の濾過槽４への流通を止める。

【0061】

濾過工程では、濾過槽４にｐＨ調整液３０を流通させる。それにより、ｐＨ調整液３０に含まれるＧｅをキレート繊維４１に吸着させて、ｐＨ調整液３０からＧｅを除去した濾液を作製する。この濾液は、ｐＨ再調整槽５に送られる。ｐＨ再調整槽５での濾液の処理は後述する。全ての濾液がｐＨ再調整槽５へ送られたら、開閉制御部８００は、濾液側バルブ８２を閉じて濾液流通路７２を閉鎖する。

【0062】

次に、開閉制御部８００は、酸溶液側バルブ８３及びＧｅ溶液側バルブ８４を開いて、酸流通路７３及びＧｅ回収路７４を開通させる。そうして、酸溶液貯留槽９から濾過槽４（キレート繊維４１）に、酸性溶液９０としてｐＨ≦１の塩酸水溶液を流通させる。それにより、キレート繊維４１に吸着したＧｅを脱離させて、塩酸水溶液にＧｅが含有されたＧｅ含有溶液１００を作製する。このＧｅ含有溶液１００は、Ｇｅ回収槽１０に貯留されて回収される。所定量の酸性溶液９０が濾過槽４へ送られたら、開閉制御部８００は、酸溶液側バルブ８３を閉じて酸流通路７３を閉鎖する。そうして、酸性溶液９０の濾過槽４への流通を止める。全てのＧｅ含有溶液１００がＧｅ回収槽１０へ送られたら、開閉制御部８００は、Ｇｅ溶液側バルブ８４を閉じてＧｅ回収路７４を閉鎖する。そして、開閉制御部８００は、調整液側バルブ８１及び濾液側バルブ８２を開いて、調整液流通路７１及び濾液流通路７２を開通させる。

【0063】

ｐＨ再調整工程では、ｐＨ再調整槽５で濾液に苛性ソーダや消石灰を添加して、例えばｐＨ＝７の再調整液５０を作製する。この再調整液５０は、凝集沈降槽６へ送られる。

【0064】

凝集沈降工程では、凝集沈降槽６で再調整液５０にポリ塩化アルミニウムを添加して、再調整液５０に含まれるＳｉを凝集して沈降させ、塊６０と上澄み液６１とに分離する。

【0065】

塊６０は、プレス成形したプレス体６０ｐにしてケーキコンテナ１２０に纏められ廃棄される。上澄み液６１は、成分分析をした後、必要に応じて成分除去を行い、放流される。

【0066】

〔光ファイバ製造廃液の処理方法の作用効果〕
上述の光ファイバ製造廃液の処理方法によれば、集塵工程と凝集沈降工程との間で濾過工程を行うことで、光ファイバの製造時の廃液に含まれるゲルマニウムを効率よく回収できる。

【0067】

《実施形態２》
〔光ファイバ製造廃液の処理装置〕
図２を参照して、実施形態２の光ファイバ製造廃液の処理装置１Ｂを説明する。光ファイバ製造廃液の処理装置１Ｂは、ｐＨ調整槽３で調整するｐＨが異なる点と、ｐＨ再調整槽５（図１）を備えない点が実施形態１の光ファイバ製造廃液の処理装置１Ａとの主たる相違点である。以下、相違点を中心に説明し、同様の構成及び同様の効果については説明を省略する。

【0068】

［ｐＨ調整槽］
ｐＨ調整槽３は、実施形態１と同様、廃液２０を所定のｐＨに調整したｐＨ調整液３０を作製し貯留する。ここでは、調整するｐＨは、濾過槽４を通過した濾液のｐＨが凝集沈降槽６でＳｉを凝集沈降させられるｐＨとなるように調整する。このｐＨは、濾過工程でキレート繊維がＧｅを選択的に吸着できるｐＨと重複する。濾過工程でキレート繊維がＧｅを選択的に吸着できるｐＨと、凝集沈降工程でＳｉを凝集沈降させられるｐＨとは、同一であることが好ましい。

【0069】

［濾液流通路］
濾液流通路７２の一端及び他端のそれぞれは、実施形態１と同様、濾過槽４と凝集沈降槽６に連結されている。一方、濾液流通路７２の途中には、実施形態１とは異なり、ｐＨ再調整槽が介在されていない。

【0070】

〔光ファイバ製造廃液の処理装置の作用効果〕
実施形態２の光ファイバ製造廃液の処理装置１Ｂによれば、実施形態１の光ファイバ製造廃液の処理装置に比較して、濾液のｐＨを再調整するｐＨ再調整槽を省略できるため、光ファイバ製造廃液の処理装置１Ｂを簡素化できる。

【0071】

〔光ファイバ製造廃液の処理方法〕
実施形態２の光ファイバ製造廃液の処理方法は、ｐＨ調整工程で特定のｐＨ調整液を作製する点が、実施形態１の光ファイバ製造廃液の処理方法との主たる相違点である。ここでは、光ファイバ製造廃液の処理方法は、上述の光ファイバ製造廃液の処理装置１Ｂを用いる。

【0072】

［ｐＨ調整工程］
ｐＨ調整工程でのｐＨ調整剤の添加量は、濾過工程を経た濾液のｐＨが、凝集沈降工程でＳｉを凝集沈降させられるｐＨとなる量とする。そうすれば、濾過工程後に濾液のｐＨを再調整するｐＨ再調整工程を不要にできる。そのため、光ファイバ製造廃液の処理方法を簡略化できる。即ち、濾過工程で作製された濾液は、直接凝集沈降工程で利用することができる。

【0073】

［廃液の処理手順］
上述の光ファイバ製造廃液の処理装置１Ｂを用いて、上述の光ファイバ製造廃液の処理方法により廃液を処理する手順の一例を説明する。ここでは、実施形態１で説明した処理手順と相違する手順を中心に説明する。

【0074】

ｐＨ調整工程では、ｐＨ調整槽３で集塵機２から送られた廃液２０に苛性ソーダを添加する。それにより、例えばｐＨ＝７のｐＨ調整液３０を作製する。このｐＨ調整液３０は、濾過槽４へ送られる。濾過工程では、濾過槽４でｐＨ調整液３０から濾液が作製される。この濾液は、ｐＨを再調整することなく濾過槽４から凝集沈降槽６へ送られる。

【0075】

〔光ファイバ製造廃液の処理方法の作用効果〕
実施形態２の光ファイバ製造廃液の処理方法によれば、実施形態１の光ファイバ製造廃液の処理方法に比較して、濾液のｐＨを再調整するｐＨ再調整工程を省略できるため、光ファイバ製造廃液の処理方法を簡略化できる。

【0076】

《実施形態３》
〔光ファイバ製造廃液の処理装置〕
図３を参照して、実施形態３の光ファイバ製造廃液の処理装置１Ｃを説明する。光ファイバ製造廃液の処理装置１Ｃは、回収したＧｅ含有溶液１００を濾過槽４に循環させる循環路７５を備える点が実施形態１の光ファイバ製造廃液の処理装置１Ａとの主たる相違点である。以下、相違点を中心に説明し、同様の構成及び同様の効果については説明を省略する。

【0077】

［循環路］
循環路７５は、Ｇｅ回収槽１０に貯留したＧｅ含有溶液１００をＧｅ回収槽１０から濾過槽４へ流通させる。循環路７５の一端はＧｅ回収槽１０に連結され、他端は酸流通路７３の途中（酸溶液側バルブ８３と濾過槽４との間）に連結されている。循環路７５の途中には、循環路７５を開閉する循環バルブ８５と、Ｇｅ含有溶液１００を送り出すポンプ（図示略）とが設けられている。循環バルブ８５は、調整液側バルブ８１などと同様、開閉機構８を構成する。

【0078】

［開閉機構］
開閉機構８は、上述のように調整液流通路７１及び濾液流通路７２、又は、酸流通路７３及びＧｅ回収路７４の一方を開通し他方を閉鎖することに加えて、Ｇｅ回収槽１０に貯留したＧｅ含有溶液１００におけるＧｅの濃度に応じて、Ｇｅ含有溶液１００を循環路７５に流通させる。具体的には、濾過槽４に流通する前の廃液２０又はｐＨ調整液３０におけるＧｅのモル濃度と、Ｇｅ回収槽１０に貯留したＧｅ含有溶液１００におけるＧｅのモル濃度とに差があるときにＧｅ含有溶液１００を循環路７５に流通させる。そうして、Ｇｅ含有溶液１００をＧｅ回収槽１０から濾過槽４へ流通させて、濾過槽４のキレート繊維４１に吸着して残存するＧｅを脱離させる。それにより、Ｇｅ回収槽１０に貯留したＧｅ含有溶液１００におけるＧｅの濃度を高められる。Ｇｅ含有溶液１００は酸性溶液９０を含むため、Ｇｅ含有溶液１００のｐＨは、キレート繊維４１がＧｅを選択的に吸着するのに適したｐＨではない。そのため、Ｇｅ含有溶液１００を濾過槽４に循環させても、Ｇｅ含有溶液１００中のＧｅはキレート繊維４１に吸着されることなく、Ｇｅ含有溶液１００中の酸性溶液がキレート繊維４１に吸着して残存するＧｅをキレート繊維４１から脱離させられるからである。

【0079】

開閉機構８は、循環バルブ８５と、濾過前濃度測定器８６と、濾過後濃度測定器８７と、開閉制御部８００とを備える。循環バルブ８５は、他のバルブ８１、８２、８３、８４と同様の電動バルブや電磁バルブを用いることができる。濾過前濃度測定器８６は、濾過槽４に流通する前のｐＨ調整液３０におけるＧｅのモル濃度を測定する。濾過後濃度測定器８７は、Ｇｅ回収槽１０に貯留したＧｅ含有溶液１００におけるＧｅのモル濃度を測定する。両濃度測定器８６，８７は、例えば、原子吸光分光光度計（原子吸光分析装置）などを利用できる。濾過槽４（Ｇｅ回収槽１０）からｐＨ調整液３０（Ｇｅ含有溶液１００）のサンプルを原子吸光分光光度計（原子吸光分析装置）に送り、原子吸光分光光度計（原子吸光分析装置）でｐＨ調整液３０（Ｇｅ含有溶液１００）におけるＧｅのモル濃度を測定する。両濃度測定器８６，８７で測定された測定結果は、開閉制御部８００に送信される。開閉制御部８００は、濾過前濃度測定器８６と濾過後濃度測定器８７のＧｅ濃度の測定結果に差が生じたとき、循環バルブ８５を開いて循環路７５を開通させ、上記ポンプを駆動する。開閉制御部８００は、両濃度測定器８６，８７からの測定結果を受信するデータ入力部と、その結果同士を比較判定する判定部と、判定部の結果に基づいて酸溶液側バルブ８３と循環バルブ８５とを駆動するモータやソレノイドとポンプとに動作指令を出力する指令出力部とを有する回路を備えるコンピュータを利用できる（いずれも図示略）。

【0080】

〔光ファイバ製造廃液の処理方法〕
実施形態３の光ファイバ製造廃液の処理方法は、Ｇｅ含有溶液をキレート繊維に再度流通させる再流通工程を備える点が、実施形態１の光ファイバ製造廃液の処理方法との主たる相違点である。ここでは、光ファイバ製造廃液の処理方法は、上述の光ファイバ製造廃液の処理装置１Ｃを用いる。

【0081】

［再流通工程］
再流通工程は、Ｇｅ含有溶液をキレート繊維に再度流通させる。この再流通工程により、キレート繊維に吸着された全てのＧｅを容易に脱離させられる。そのため、Ｇｅ含有溶液のＧｅの含有量を高められる。この再流通工程は、複数回繰り返してもよい。

【0082】

［廃液の処理手順］
上述の光ファイバ製造廃液の処理装置１Ｃを用いて、上述の光ファイバ製造廃液の処理方法により廃液を処理する手順の一例を説明する。ここでは、実施形態１で説明した処理手順と相違する手順を中心に説明する。

【0083】

再流通工程では、上述の濾過工程で濾過槽４から全てのＧｅ含有溶液１００がＧｅ回収槽１０へ送られた後、Ｇｅ含有溶液１００を濾過槽４へ再流通させる。このとき、酸溶液側バルブ８３は閉じられた状態であるが、酸流通路７３のうち循環路７５との接続箇所から濾過槽４までの間は利用される。開閉制御部８００は、Ｇｅ溶液側バルブ８４を閉じずに、循環バルブ８５を開いて循環路７５を開通させておく。濾過槽４へ再流通したＧｅ含有溶液１００は、Ｇｅ回収路７４を流通してＧｅ回収槽１０へ戻される。Ｇｅ含有溶液１００の再流通は、必要に応じて複数回行ってもよい。所定量のＧｅを含む全てのＧｅ含有溶液１００がＧｅ回収槽１０へ送られたら、開閉制御部８００は、Ｇｅ溶液側バルブ８４及び循環バルブ８５を閉じて、調整液流通路７１及び濾液流通路７２を開通させる。

【0084】

〔作用効果〕
実施形態３によれば、仮に、一度の酸性溶液のキレート繊維への流通で、キレート繊維に吸着した全てのＧｅを脱離させられなくても、Ｇｅ含有溶液をキレート繊維に再度流通させられるため、キレート繊維に吸着された全てのＧｅを容易に脱離させられる。Ｇｅ含有溶液は酸性溶液を含むため、Ｇｅ含有溶液のｐＨは、キレート繊維がＧｅを選択的に吸着するのに適したｐＨではない。そのため、Ｇｅ含有溶液をキレート繊維に再度流通させても、Ｇｅ含有溶液中のＧｅはキレート繊維に吸着されず、Ｇｅ含有溶液中の酸性溶液がキレート繊維に吸着して残存するＧｅをキレート繊維から脱離させられるからである。従って、Ｇｅ含有溶液におけるＧｅの含有量を高められる。

【産業上の利用可能性】

【0085】

本発明の光ファイバ製造廃液の処理装置及び光ファイバ製造廃液の処理方法は、光ファイバ製造廃液の処理に好適に利用可能である。

【符号の説明】

【0086】

１Ａ、１Ｂ、１Ｃ 光ファイバ製造廃液の処理装置
２ 集塵機 ２０ 廃液 ２１ シャワー ２２ 貯留槽
３ ｐＨ調整槽 ３０ ｐＨ調整液
４ 濾過槽 ４１ キレート繊維
５ ｐＨ再調整槽 ５０ 再調整液
６ 凝集沈降槽 ６０ 塊 ６０ｐ プレス体 ６１ 上澄み液
７１ 調整液流通路 ７２ 濾液流通路
７３ 酸流通路 ７４ Ｇｅ回収路 ７５ 循環路
８ 開閉機構
８１ 調整液側バルブ ８２ 濾液側バルブ
８３ 酸溶液側バルブ ８４ Ｇｅ溶液側バルブ
８５ 循環バルブ
８６ 濾過前濃度測定器 ８７ 濾過後濃度測定器
８００ 開閉制御部
９ 酸溶液貯留槽 ９０ 酸性溶液
１０ Ｇｅ回収槽 １００ Ｇｅ含有溶液
１１０ 流入路 １２０ ケーキコンテナ １３０ 監視槽

【図1】

【図2】

【図3】