特許 6557601 表示装置、表示装置の製造方法

(19)【発行国】日本国特許庁(JP)

(12)【公報種別】特許公報(B2)

(11)【特許番号】6557601

(24)【登録日】2019年7月19日

(45)【発行日】2019年8月7日

(54)【発明の名称】表示装置、表示装置の製造方法

(51)【国際特許分類】

   H05B 33/04 20060101AFI20190729BHJP

   H01L 51/50 20060101ALI20190729BHJP

   H05B 33/10 20060101ALI20190729BHJP

   H01L 27/32 20060101ALI20190729BHJP

   G09F 9/30 20060101ALI20190729BHJP

【ＦＩ】

   H05B33/04

   H05B33/14 A

   H05B33/10

   H01L27/32

   G09F9/30 365

【請求項の数】13

【全頁数】12

(21)【出願番号】特願2015-257676(P2015-257676)

(22)【出願日】2015年12月29日

(65)【公開番号】特開2017-120749(P2017-120749A)

(43)【公開日】2017年7月6日

【審査請求日】2018年6月21日

(73)【特許権者】

【識別番号】502356528

【氏名又は名称】株式会社ジャパンディスプレイ

(74)【代理人】

【識別番号】110000154

【氏名又は名称】特許業務法人はるか国際特許事務所

(72)【発明者】

【氏名】加藤 大輔

【審査官】 中山 佳美

(56)【参考文献】

【文献】 国際公開第２０１１／１０８０２０（ＷＯ，Ａ１）

(58)【調査した分野】（Int.Cl.，ＤＢ名）

Ｈ０１Ｌ ５１／５０−５１／５６

Ｈ０１Ｌ ２７／３２

Ｈ０５Ｂ ３３／００−３３／２８

(57)【特許請求の範囲】

【請求項1】

複数の画素によって構成された表示領域を備えた表示装置であって、
前記表示領域より外側の周辺領域に形成された吸湿剤と、前記吸湿剤の前記表示領域側の一部を露出させる孔を有し、前記表示領域を囲う領域に配置され、かつ、前記孔以外の領域で前記吸湿剤を覆うように形成された封止膜と、を有する第１基板と、
前記第１基板と対向して配置される第２基板と、
前記表示領域に配置され、前記第１基板と前記第２基板を接着する第１接着剤と、
前記表示領域を囲うように配置され、前記第１基板と前記第２基板を接着する第２接着剤と、を有し、
前記吸湿剤は、前記第１基板と前記第２基板の間隔を保持する支柱として形成されることを特徴とする表示装置。

【請求項2】

前記孔は、水分子の侵入を許容する侵入孔であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。

【請求項3】

前記吸湿剤は、前記第２基板と対向する上面を有し、
前記封止膜の一部は、前記上面と前記第２基板との間に位置し、
前記一部には、前記上面の側に窪む孔が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。

【請求項4】

前記窪む孔は、前記上面を露出することを特徴とする請求項３に記載の表示装置。

【請求項5】

前記吸湿剤は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属で形成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の表示装置。

【請求項6】

前記吸湿剤は、前記周辺領域を、少なくとも２つの不連続な領域で４辺を取り囲むように形成されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の表示装置。

【請求項7】

前記複数の画素の各々は、アノード電極と発光層とカソード電極とを含む発光素子を備え、
前記封止膜は、前記発光素子を覆うことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の表示装置。

【請求項8】

前記封止膜は、前記表示領域において、前記第１接着剤に覆われていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の表示装置。

【請求項9】

複数の画素を備える表示領域と、前記表示領域より外側の周辺領域とを備えた表示装置であって、
前記複数の画素の各々は、アノード電極と発光層とカソード電極とを含む発光素子を備え、
前記発光素子は、第１基板に設けられ、
前記第１基板には、前記表示領域と前記周辺領域とに跨って位置し、前記発光素子を覆う封止膜が設けられ、
前記周辺領域には、前記第１基板と前記封止膜との間に位置する吸湿剤が設けられ、
前記表示領域には、前記第１基板と前記第２基板を接着する第１接着剤が設けられ、
前記周辺領域には、前記表示領域を囲うように前記第１基板と前記第２基板を接着する第２接着剤が設けられ、
前記封止膜は、前記吸湿剤の前記表示領域側の一部を露出させる孔を有し、前記表示領域を囲う領域に配置され、かつ、前記孔以外の領域で前記吸湿剤を覆うように形成され、
前記吸湿剤は、前記第１基板と前記第２基板の間隔を保持する支柱として形成されていることを特徴とする表示装置。

【請求項10】

前記吸湿剤は、前記吸湿剤の前記第１基板とは反対側に位置する上面を有し、
前記封止膜の一部は、前記上面と対向し、
前記一部には、前記上面の側に窪む孔が設けられていることを特徴とする請求項９に記載の表示装置。

【請求項11】

前記吸湿剤は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含むことを特徴とする請求項９又は１０に記載の表示装置。

【請求項12】

前記吸湿剤は、柱状に形成され、
前記封止膜は、前記封止膜の前記第１基板とは反対側に位置する表面を有し、
前記第１基板から前記柱状に形成された吸湿剤の上面までの距離は、前記表示領域における前記第１基板から前記表面までの距離よりも大きいことを特徴とする請求項９乃至１１のいずれかに記載の表示装置。

【請求項13】

複数の画素によって構成された表示領域を備えた表示装置の製造方法であって、
前記表示領域より外側の周辺領域に形成された吸湿剤、及び、前記表示領域を囲う領域に配置され、かつ、前記吸湿剤を覆うように形成された封止膜を有する第１基板を形成する工程と、
前記第１基板と対向する第２基板を形成する工程と、
前記第１基板または前記第２基板の一方に対して、前記表示領域に第１接着剤と、前記表示領域を囲うように第２接着剤と、を滴下する工程と、
前記第１接着剤及び前記第２接着剤によって前記第１基板と前記第２基板を貼り合わせ、押圧により前記封止膜に対して、前記吸湿剤の前記表示領域側の一部を露出させる孔を形成する工程と、を有し、
前記吸湿剤は、前記第１基板と前記第２基板の間隔を保持する支柱として形成される、
ことを特徴とする表示装置の製造方法。

【発明の詳細な説明】

【技術分野】

【0001】

本発明は、表示装置及び表示装置の製造方法に関する。

【背景技術】

【0002】

近年、有機ＥＬ（Electro-luminescent）素子を用いた有機ＥＬ表示装置や、液晶表示装置等の表示装置が実用化されている。しかしながら、有機ＥＬ素子は水分子や酸素分子等に対して脆弱であることから、有機ＥＬ素子が劣化し、ダークスポット等の点灯不良が生じるおそれがあった。また、液晶表示装置においても、侵入した水分の影響を受けて薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor）の特性が変動し、表示品位の劣化が発生する問題が生じていた。

【0003】

そこで、例えば、特許文献１は、ガラス基板上の基板面内の周縁部に、吸湿性を有するカルシウム部剤を形成し、ガラス基板と保護ガラスを貼り合せる接着剤で当該カルシウム部剤を覆うことによって、表示領域に水分子が侵入することを防止する表示装置を開示している。

【0004】

また、例えば、特許文献２は、発光素子が形成される素子基板と、素子基板と貼り合わされる封止基板との間に極性体を設け、該極性体が両基板を貼り合せるシール剤に含まれる気泡を吸着することによって、気泡に含まれる酸素分子や水分子と発光素子が化学反応を起こすことを防止する表示装置を開示している。

【0005】

また、引用文献３は、有機ＥＬ層を密封するように形成された密封部材を有し、密封部材により密封された空間内のいずれかの位置に、脱酸素脱水部を形成する有機ＥＬ表示装置を開示している。

【0006】

また、引用文献４は、基板の外周部分において接着剤によって電極層を覆う封止基板を備えることによって、封止基板の外部から水分等が侵入することを防止する表示装置を開示している。

【0007】

さらに、引用文献５は、撥液性の枠体の外周にシール材を塗布し、吸湿性物質を含む層を平板素子基板の有機ＥＬ素子と対向させて貼り合わせた上で、シール材を硬化して封止することによって、枠体の内部に水分等が侵入することを防止する表示装置を開示している。

【先行技術文献】

【特許文献】

【0008】

【特許文献1】特開２００６−８００９４号公報

【特許文献2】特開２０１０−１９８９２６号公報

【特許文献3】特開２００２−８８５２号公報

【特許文献4】特開２０１３−１１０１１６号公報

【特許文献5】特開２００８−７７９５１号公報

【発明の概要】

【発明が解決しようとする課題】

【0009】

上記先行技術文献のように、有機ＥＬ素子が形成された基板の外周をシール材等の有機材料で封止したとしても、シール剤等を介して表示領域内に徐々に水分が侵入してしまう。また、基板上に吸湿剤等を形成する構成とした場合であっても、吸湿剤を形成する工程の後、表示パネルが完成するまでの過程で吸湿剤が水分等と反応してしまうため、表示パネルが完成した時点で吸湿剤の性能が低下してしまう。

【0010】

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、発光素子への水分子の侵入を効果的に抑制し、発光素子の劣化を防止することが可能な画像表示装置を提供することにある。

【課題を解決するための手段】

【0011】

本発明の一態様は、複数の画素によって構成された表示領域を備えた表示装置であって、前記表示領域の周囲に形成された吸湿剤と、前記吸湿剤を覆う封止膜と、を有する第１基板と、前記第１基板と対向して配置される第２基板と、少なくともその一部が前記吸湿剤よりも前記表示領域の側に配置され、前記第１基板と前記第２基板を接着する接着層と、を有することを特徴とする。

【0012】

また、本発明の他の一態様は、複数の画素を備える表示領域と、前記表示領域より外側の周辺領域とを備えた表示装置であって、前記複数の画素の各々は、アノード電極と発光層とカソード電極とを含む発光素子を備え、前記発光素子は、第１基板に設けられ、前記第１基板には、前記表示領域と前記周辺領域とに跨って位置し、前記発光素子を覆う封止膜が設けられ、前記周辺領域には、前記第１基板と前記封止膜との間に位置する吸湿剤が設けられ、前記周辺領域には、前記表示領域を囲うダム剤が設けられ、前記封止膜の一部と前記吸湿剤とは、前記ダム剤で覆われていることを特徴とする。

【0013】

また、本発明の他の一態様は、複数の画素によって構成された表示領域を備えた表示装置の製造方法であって、前記表示領域の外側の周辺領域に形成された吸湿剤、及び、前記吸湿剤を覆うように形成された封止膜を有する第１基板を形成する工程と、前記第１基板と対向する第２基板を形成する工程と、前記第１基板または前記第２基板の一方に有機系剤料からなる接着剤を滴下する工程と、前記接着剤によって前記第１基板と前記第２基板を貼り合わせ、押圧により前記封止膜に割れ目を形成する工程と、を備えることを特徴とする。

【図面の簡単な説明】

【0014】

【図1】本発明の実施形態に係る表示装置を概略的に示す図である。

【図2】有機ＥＬパネルを表示する側から見た構成を示す図である。

【図3】有機ＥＬパネルの断面について説明するための図である。

【図4】吸湿剤の配置レイアウトについて説明するための図である。

【図5】有機ＥＬパネルの製造工程について説明するための図である。

【図6】有機ＥＬパネルの製造工程について説明するための図である。

【図7】有機ＥＬパネルの製造工程について説明するための図である。

【発明を実施するための形態】

【0015】

以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して詳細な説明を適宜省略することがある。

【0016】

図１は、本発明の実施形態に係る表示装置１００の概略を示す図である。図に示すように、表示装置１００は、上フレーム１１０及び下フレーム１２０に挟まれるように固定された有機ＥＬパネル２００を含むように構成されている。

【0017】

図２は、図１の有機ＥＬパネル２００の構成を示す概略図である。図２に示すように、有機ＥＬパネル２００は、アレイ基板２０１と、対向基板２０２と、駆動ＩＣ（Integrated Circuit）２０３と、を有する。アレイ基板２０１は、後述する吸湿剤３０８、封止膜３０９等が配置され、接着層（フィル剤３１５及びダム剤３１６）によって対向基板２０２と接着される。

【0018】

駆動ＩＣ２０３は、例えば、１画素を構成する複数の副画素２０４のそれぞれに対応して配置された画素トランジスタ３１８（図３等参照）の走査信号線に対してソース・ドレイン間を導通させるための電位を印加すると共に、各画素トランジスタ３１８のデータ信号線に対して画素の階調値に対応する電流を流す。また、複数の画素の各々は、後述するアノード電極３０４と発光層とカソード電極３０７とを含む発光素子を備える。当該駆動ＩＣ２０３によって、有機ＥＬパネル２００は、複数色からなる複数の副画素２０４によって構成されるカラー画像を、表示領域２０５に表示する。

【0019】

図３は、第１の実施形態における画素の断面について概略的に示す図の一例であり、図２におけるIII−III断面を示す図である。以下の説明においては、複数の画素は、それぞれ赤色、緑色、及び青色の光を発光する３つの副画素２０４を組み合わせて構成される場合について説明するが、複数の画素は、それぞれ４つ以上の副画素２０４を組み合わせて構成されていてもよい。

【0020】

図３に示すように、アレイ基板２０１は、下ガラス基板３０１と、下ガラス基板３０１上に対向基板２０２に向かって順に形成されたＴＦＴ（Thin Film Transistor）回路層３０２と、有機平坦化膜３０３と、アノード電極３０４と、有機バンク３０５と、有機膜３０６と、カソード電極３０７と、吸湿剤３０８と、封止膜３０９と、を含んで構成される。対向基板２０２は、上ガラス基板３１０と、上ガラス基板３１０上に形成されたカラーフィルタ層３１１，３１２，３１３及び遮光層３１４と、を含んで構成される。また、アレイ基板２０１と対向基板２０２の間には、フィル剤３１５及びダム剤３１６が充填され、アレイ基板２０１と対向基板２０２は、フィル剤３１５及びダム剤３１６によって貼り合わされる。

【0021】

ＴＦＴ回路層３０２は、ソース電極、ドレイン電極３１７、ゲート電極や半導体層等を含んで構成される画素トランジスタ３１８を有する。画素トランジスタ３１８の詳細な構造については、従来技術と同様である為説明を省略する。

【0022】

有機平坦化膜３０３は、表示領域２０５においてＴＦＴ回路層３０２を覆うように形成され、下層側に配置された配線や画素トランジスタ３１８による段差を平坦化する。また、有機平坦化膜３０３は、表示領域２０５の外側の領域である周辺領域３１９に、表示領域２０５を囲うように形成される。

【0023】

アノード電極３０４は、画素トランジスタ３１８の上部に形成される。具体的には、例えば、アノード電極３０４は、表示領域２０５において、有機平坦化膜３０３のコンタクトホールを介して、画素トランジスタ３１８のソース又はドレイン電極３１７と電気的に接続されるように、ソース又はドレイン電極３１７の上層側に形成される。

【0024】

有機バンク３０５は、表示領域２０５において、各アノード電極３０４のそれぞれの周縁部を覆うように形成され、周辺領域３１９において、有機平坦化膜３０３を覆うように形成される。具体的には、例えば、図３のように、有機バンク３０５は、表示領域２０５において、各アノード電極３０４の間及びアノード電極３０４の端部の上方に、また、周辺領域３１９において、有機平坦化膜３０３の上方に樹脂材料で形成される。当該有機バンク３０５によって、アノード電極３０４とカソード電極３０７のショートを防止することができる。

【0025】

有機膜３０６は、表示領域２０５において、アノード電極３０４及び有機バンク３０５の端部の上層側に形成される。また有機膜３０６は、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子注入層、及び、電子輸送層が積層されることによって形成される。発光層は、アノード電極３０４から注入されたホールと、カソード電極３０７から注入された電子とが再結合することにより発光する。ホール注入層、ホール輸送層、電子注入層、及び、電子輸送層については従来技術と同様である為説明を省略する。

【0026】

カソード電極３０７は、有機膜３０６の上層側に形成される。具体的には、例えば、カソード電極３０７は、表示領域２０５において、有機バンク３０５及び有機膜３０６を覆うように形成され、アノード電極３０４との間に電圧が印加されることによって、有機膜３０６に電流を流して発光させる。また、カソード電極３０７は、透明な剤料を用いて形成される。具体的には、例えば、カソード電極３０７は、酸化インジウム錫（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）等の金属を含んで構成される透過性を有する金属薄膜で形成される。

【0027】

吸湿剤３０８は、表示領域２０５の外側の周辺領域３１９に形成される。具体的には、例えば、図３に示すように、吸湿剤３０８は、周辺領域３１９において、有機バンク３０５の上層側に、アレイ基板２０１と対向基板２０２の間隔を保持する支柱として形成される。また、吸湿剤３０８は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属で形成される。具体的には、例えば、吸湿剤３０８は、カルシウム、マグネシウム、リチウム、セシウム、バリウム等の材料を用いて形成される。

【0028】

吸湿剤３０８は、有機ＥＬパネル２００の外部から侵入した水分子と化学反応を超すことによって水分子を吸収するだけでなく、当該化学反応を終えた後も水分子の表示領域２０５への侵入を阻止する障壁として機能する。具体的には、例えば、カルシウムを用いて吸湿剤３０８を形成した場合には、カルシウムは水分子と化学反応を起こすと水酸化カルシウムに変化し、当該水酸化カルシウムが表示領域２０５への水分子の侵入を阻止する。

【0029】

なお、図３においては、吸湿剤３０８は、アレイ基板２０１と対向基板２０２の間隔を保持する支柱として形成されているが、吸湿剤３０８の高さは、アレイ基板２０１と対向基板２０２の間隔よりも低くてもよい。具体的には、例えば、吸湿剤３０８は、対向基板２０２と対向する上面を有し、封止膜３０９の一部が、当該上面と対向基板２０２との間に位置するように構成してもよい。当該構成であっても、カルシウムの化学反応が完了するまで吸湿剤３０８として機能することによって、表示領域２０５への水分子の侵入が阻止される。また、アレイ基板２０１から吸湿剤３０８の上面までの距離が、表示領域２０５におけるアレイ基板２０１から封止膜３０９の表面までの距離よりも大きくなるように、柱状の吸湿剤３０８を形成してもよい。

【0030】

続いて、吸湿剤３０８の平面的な配置について説明する。吸湿剤３０８は、周辺領域３１９を、少なくとも２つの不連続な領域で４辺を取り囲むように形成される。具体的には、例えば、図４を用いて、吸湿剤３０８の配置レイアウトについて説明する。図４（ａ）に示すように、吸湿剤３０８は、表示領域２０５の周囲の全てを取り囲むように、周辺領域３１９に形成される。表示領域２０５を囲うように吸湿剤３０８を形成することにより、吸湿剤３０８の化学反応が完了した後に、有機ＥＬパネル２００外部から表示領域２０５への水分子の侵入が阻止される。なお、図４（ｂ）及び（ｃ）に示すように、吸湿剤３０８を２分割または４分割して形成するようにしてもよい。当該構成によれば、図４（ａ）に示す吸湿剤３０８の製造工程よりも簡易な製造工程で吸湿剤３０８を形成することができる。

【0031】

封止膜３０９は、吸湿剤３０８を覆うように形成される。具体的には、図３に示すように、表示領域２０５においてはカソード電極３０７を覆うように、換言すればアノード電極３０４、発光層を有する有機膜３０６、カソード電極３０７などを含む発光素子を覆うように、周辺領域３１９においては有機バンク３０５及び吸湿剤３０８を覆うように形成される。吸湿剤３０８を封止膜３０９で覆うことにより、有機ＥＬパネル２００を製造する過程において、吸湿剤３０８と水分子の化学反応が進行する事態を防止することができる。

【0032】

また、図３においては、封止膜３０９が孔を有しない場合を記載しているが、封止膜３０９は、吸湿剤３０８を露出する孔、吸湿剤３０８の上面の側に窪む孔、水分子の侵入を許容する孔（侵入孔）を有するようにしてもよい。具体的には、例えば、封止膜３０９は、アレイ基板２０１と対向基板２０２を貼り合せの押圧によって生じる割れ目を有する構成としてもよい。当該孔は、吸湿剤３０８の上面を露出するようにしてもよいし、吸湿剤３０８の側面を露出するようにしてもよい。さらに、封止膜３０９の一部が、吸湿剤３０８の上面と対向基板２０２との間に位置するように構成した場合に、封止膜３０９の一部に、当該上面の側に窪む孔が設けられる構成としてもよい。詳細については後述するが、アレイ基板２０１と対向基板２０２を貼り合わせる工程において、封止膜３０９に侵入孔が生じるようにすることによって、吸湿剤３０８は、貼り合わせ工程の後に初めて吸湿性を発揮する状態とすることができる。

【0033】

カラーフィルタ層３１１，３１２，３１３は、特定の波長の光のみを透過する材料で形成される。例えば、カラーフィルタ層は、赤色の光を選択的に透過する赤色カラーフィルタ層３１１、緑色の光を選択的に透過する緑色カラーフィルタ層３１２、及び、青色の光を選択的に透過する青色カラーフィルタ層３１３を含んで構成される。具体的には、図３に示すように、図面上の左から順に、赤色カラーフィルタ層３１１、緑色カラーフィルタ層３１２、及び、青色カラーフィルタ層３１３が、上ガラス基板３１０上に形成される。

【0034】

遮光層３１４は、光を遮断する材料で形成される。具体的には、例えば、図３に示すように、遮光層３１４は、表示領域２０５におけるカラーフィルタ層の間及び周辺領域３１９に形成される。遮光層３１４によって、隣り合う副画素２０４から発光された光が混ざって混色が生じる事態を防止する。

【0035】

接着層は、フィル剤３１５及びダム剤３１６を含んで形成される。接着層は、少なくともその一部が吸湿剤３０８の内側によりも表示領域２０５の側に配置され、アレイ基板２０１と対向基板２０２を接着する。フィル剤３１５は、少なくとも一部が表示領域２０５に位置し、封止膜３０９が、表示領域２０５において、フィル剤３１５に覆われるように形成される。具体的には、例えば、フィル剤３１５は、吸湿剤３０８の内側、即ち吸湿剤３０８よりも表示領域２０５の側に配置される。フィル剤３１５は、有機系剤料からなり、吸湿剤３０８の内側に配置されることでアレイ基板２０１と対向基板２０２を接着する。

【0036】

ダム剤３１６は、周辺領域３１９に位置して表示領域２０５を囲うと共に、吸湿剤３０８を覆うように形成される。具体的には、ダム剤３１６は、フィル剤３１５よりも透水性が低い材料を用いて、フィル剤３１５の外側に表示領域２０５を囲うように形成される。

【0037】

上記のように、本発明の構成によれば、吸湿剤３０８の化学反応が完了するまでは吸湿剤３０８が水分子を吸収することによって、また、化学反応が完了した後は、発光素子への水分子の侵入を抑制することによって、発光素子の劣化が防止される。

【0038】

なお、上記においては、アレイ基板２０１と対向基板２０２を貼り合せる構成について記載しているが、対向基板２０２を有しない構成であってもよい。本変形例においては、有機ＥＬパネル２００は、上記と同様に、複数の画素を備える表示領域２０５と、表示領域２０５より外側の周辺領域３１９とを備える。そして、有機ＥＬパネル２００は、アレイ基板２０１と、駆動ＩＣ（Integrated Circuit）２０３と、を含んで構成される。

【0039】

そして、アレイ基板２０１は、上記と同様に、表示領域２０５と周辺領域３１９とに跨って位置し、発光素子を覆う封止膜３０９や、下ガラス基板３０１と封止膜３０９との間に位置する吸湿剤３０８等を含んで形成される。アレイ基板に含まれる発光層が、副画素２０４毎に異なる色の光を発する材料で形成される点は上記実施例と異なる。

【0040】

また、本変形例では対向基板２０２が設けられないが、アレイ基板２０１には、ダム剤３１６が設けられる。具体的には、アレイ基板２０１は、周辺領域３１９において、表示領域２０５を囲うダム剤３１６が設けられ、封止膜３０９の一部と吸湿剤３０８とが、ダム剤３１６で覆われるように形成される。

【0041】

本変形例においても、封止膜３０９が吸湿剤３０８を露出する孔を有するように形成してもよい。また、吸湿剤３０８が下ガラス基板３０１とは反対側に位置する上面を有し、封止膜３０９の一部は、当該上面と対向し、上面の側に窪む孔が設けられるようにしてもよい。また、吸湿剤３０８は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属（例えばカルシウム）によって形成してもよい。さらに、吸湿剤３０８を柱状に形成し、下ガラス基板３０１から柱状に形成された吸湿剤３０８の上面までの距離が、表示領域２０５における下ガラス基板３０１から封止膜３０９の下ガラス基板３０１とは反対側に位置する表面までの距離よりも大きくなるように形成してもよい。

【0042】

続いて、本発明における表示装置１００の製造工程について説明する。図５乃至図７は、本発明の実施形態における、製造工程を表す図である。まず、図５（ａ）に示すように、下ガラス基板３０１上に、ＴＦＴ回路層３０２を形成し、ＴＦＴ回路層３０２を覆うように有機平坦化膜３０３を形成する。ここで、有機平坦化膜３０３は周辺領域３１９にも形成される。続いて、ドレイン電極３１７上部に積層された有機平坦化膜３０３にコンタクトホールを開口し、開口部のドレイン電極３１７上にアノード電極３０４を形成する。そして、各アノード電極３０４のそれぞれの周縁部を覆うように、有機バンク３０５が形成される。ここで、有機バンク３０５は、周辺領域３１９に形成された有機平坦化膜３０３の上層側にも形成される。さらに、表示領域２０５において、アノード電極３０４及び有機バンク３０５の端部の上層側に有機膜３０６が形成され、有機膜３０６の上層側にはカソード電極３０７が形成される。

【0043】

続いて、図５（ｂ）に示すように、周辺領域３１９に形成された有機バンク３０５の上層側に、吸湿剤３０８が形成される。ここで、吸湿剤３０８の高さは、アレイ基板２０１と対向基板２０２の間隔と同等、または、アレイ基板２０１と対向基板２０２の間隔よりも高くなるように形成される。また、吸湿剤３０８は、真空蒸着法等の方法によって形成される。

【0044】

次に、図６（ａ）に示すように、表示領域２０５に形成されたカソード電極３０７、及び、周辺領域３１９に形成された有機バンク３０５並びに吸湿剤３０８を覆うように封止膜３０９が形成される。ここで、封止膜３０９は、吸湿剤３０８が形成される工程の後、吸湿剤３０８が空気に触れない環境で連続して形成されることが望ましい。吸湿剤３０８を形成する工程の直後に封止膜３０９を形成することで、吸湿剤３０８と水分子等との化学反応の進行を防止することができる。

【0045】

次に、図６（ｂ）に示すように、アレイ基板２０１に対して、接着剤が滴下される。具体的には、例えば、ディスペンサーを用いて、周辺領域３１９に形成された吸湿剤３０８及び有機バンク３０５と重なるようにダム剤３１６を滴下し、表示領域２０５には、一定間隔毎に、フィル剤３１５を滴下する。

【0046】

そして、図７に示すように、図６（ｂ）の工程においてダム剤３１６及びフィル剤３１５が滴下されたアレイ基板２０１と対向基板２０２とを貼り合せる。ここで、対向基板２０２の製造方法は従来技術と同様である為説明を省略する。上記のように、吸湿剤３０８の高さは、アレイ基板２０１と対向基板２０２の間隔と同等以上となるように形成されているため、アレイ基板２０１と対向基板２０２とを貼り合せの際に、吸湿剤３０８を覆うように形成された封止膜３０９に対して圧力が加えられる。その結果、吸湿剤を覆うように形成された封止膜３０９には、水分子等を透過する割れ目が発生する。

【0047】

上記のように、図６（ａ）の工程で形成された封止膜３０９は、図７に示す工程で押圧によって割れ目が生じるまでの工程において、吸湿剤３０８と水分子との化学反応の進行を防止する。そして、図７に示す工程において生じる侵入孔によって、初めて吸湿剤３０８の機能を発現させることにより、吸湿剤３０８が吸湿性を発揮する期間を長く保持することができる。さらに、吸湿剤の高さがアレイ基板２０１と対向基板２０２の間隔と同等以上となるように形成されており、吸湿剤は水分子との化学反応が完了した後、水分子等を透過しない材料に変化していることから、化学反応の完了後も外部から表示領域への水分子等の侵入を防止することができる。

【0048】

本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。

【符号の説明】

【0049】

１００ 表示装置、１１０ 上フレーム、１２０ 下フレーム、２００ 有機ＥＬパネル、２０１ アレイ基板、２０２ 対向基板、２０３ 駆動ＩＣ、２０４ 副画素、２０５ 表示領域、３０１ 下ガラス基板、３０２ ＴＦＴ回路層、３０３ 有機平坦化膜、３０４ アノード電極、３０５ 有機バンク、３０６ 有機膜、３０７ カソード電極、３０８ 吸湿剤、３０９ 封止膜、３１０ 上ガラス基板、３１１ 赤色カラーフィルタ層、３１２ 緑色カラーフィルタ層、３１３ 青色カラーフィルタ層、３１４ 遮光層、３１５ フィル剤、３１６ ダム剤、３１７ ドレイン電極、３１８ 画素トランジスタ、３１９ 周辺領域。

【図1】

【図2】

【図3】

【図4】

【図5】

【図6】

【図7】